在两步工艺中形成EMI屏蔽材料以避免污染电连接器的半导体器件和方法技术

技术编号:40132290 阅读:22 留言:0更新日期:2024-01-23 22:19
一种半导体器件具有衬底和在所述衬底上方沉积的密封剂。将电连接器设置在所述衬底上方所述密封剂外。可以将天线形成在所述衬底上方。在未利用第一屏蔽材料覆盖所述电连接器的情况下将所述第一屏蔽材料设置在所述密封剂的部分上方。使用直接喷射打印机将所述第一屏蔽材料设置在所述密封剂的部分和所述衬底的部分上方。将覆盖物设置在所述电连接器上方。将第二屏蔽材料设置在所述密封剂上方,以防止所述第二屏蔽材料到达所述电连接器。所述第二屏蔽材料与所述第一屏蔽材料重叠,且覆盖所述密封剂的侧表面和所述衬底的侧表面。移除所述覆盖物以暴露没有屏蔽材料的电连接器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术总体上涉及半导体器件,且更具体地涉及在两步工艺中形成电磁干扰(emi)屏蔽材料以避免污染电连接器的半导体器件和方法。


技术介绍

1、半导体器件常见于现代电子产品中。半导体器件执行范围广泛的功能,诸如信号处理、高速计算、发射和接收电磁信号、控制电子器件、光电、以及创建用于电视显示的视觉图像。半导体器件见于通信、功率转换、网络、计算机、娱乐和消费产品的领域中。半导体器件还见于军事应用、航空、汽车、工业控制器和办公室装备中。

2、特别是在高频应用(诸如,射频(rf)无线通信)中,半导体器件常常包含用于执行必要电气功能的一个或多个集成无源器件(ipd)。针对小空间中的更高密度和扩展的电气功能性,多个半导体管芯和ipd可以集成到sip模块中。在sip模块内,针对结构支撑和电互连,半导体管芯和ipd被设置在衬底上。密封剂被沉积在半导体管芯、ipd和衬底上方。针对电气部件与外部器件之间的电气通信,电连接器被设置在衬底上。sip模块被部分地模塑,这是因为密封剂未延伸到电连接器。电连接器在衬底上是独立式的。

3、sip模块包括针对小尺寸和低本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体器件,包括:

2.如权利要求1所述的半导体器件,进一步包括:电气部件,被设置在所述衬底上方。

3.如权利要求1所述的半导体器件,进一步包括:天线,被形成在所述衬底的与所述衬底的第一表面相对的第二表面上方。

4.如权利要求1所述的半导体器件,其中所述第一屏蔽材料覆盖所述密封剂的部分和所述衬底的部分,同时维持与所述电连接器的分离。

5.如权利要求1所述的半导体器件,其中在未利用所述第一屏蔽材料覆盖所述电连接器的情况下,所述第一屏蔽材料覆盖所述衬底的部分。

6.一种半导体器件,包括:

7.如权利要求6所述的半...

【技术特征摘要】

1.一种半导体器件,包括:

2.如权利要求1所述的半导体器件,进一步包括:电气部件,被设置在所述衬底上方。

3.如权利要求1所述的半导体器件,进一步包括:天线,被形成在所述衬底的与所述衬底的第一表面相对的第二表面上方。

4.如权利要求1所述的半导体器件,其中所述第一屏蔽材料覆盖所述密封剂的部分和所述衬底的部分,同时维持与所述电连接器的分离。

5.如权利要求1所述的半导体器件,其中在未利用所述第一屏蔽材料覆盖所述电连接器的情况下,所述第一屏蔽材料覆盖所述衬底的部分。

6.一种半导体器件,包括:

7.如权利要求6所述的半导体器件,进一步包括:

8.如权利要求6所述的半导体器件,进一步包括:天线,被形成在所述衬...

【专利技术属性】
技术研发人员:金昌伍郑珍熙权五玟
申请(专利权)人:星科金朋私人有限公司
类型:发明
国别省市:

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