【技术实现步骤摘要】
本公开的实施方式涉及用于处理衬底的装置。
技术介绍
1、通常，在制造半导体的工艺中，可以通过沉积工艺、蚀刻工艺、光工艺和清洁工艺来制造衬底。例如，可以通过使用用于处理衬底的装置将各种类型的处理液喷射到衬底上来执行光工艺。具体地，在涂覆工艺中，固体光致抗蚀剂可以溶解在溶剂中并且可以以液态提供。在涂覆工艺期间，光致抗蚀剂和溶剂可以部分蒸发，并且可以通过形成在处理容器的底部上的排放管向外排出。包括蒸发的光致抗蚀剂和溶剂蒸汽的污染物(在我这称为烟尘)可以积聚在排放管中，由于污染物可以没有被充分地排出，并且当排放管被阻塞时，处理容器中的衬底可能受到污染。
技术实现思路
1、本公开的实施方式提供了用于处理衬底的装置，其可以有效地去除积聚在排放管线中的烟尘。
2、根据本公开的实施方式，用于处理衬底的装置包括：处理容器，设置在处理室中并且包括处理空间，衬底容纳在处理空间中；液体提供管线，配置成通过将处理液提供到处理空间中的衬底来处理衬底；排放管线，连接到处理容器并且配置成排放处理空间中的气体；喷射部分，设置在排放管线上并且配置成喷射清洁液以去除积聚在排放管线中的污染物；以及清洗液排出管线，从排放管线分支并且在其中包括抽吸部分，以抽吸包括通过清洁液从排放管线去除的污染物的清洁液废物并且将清洁液废物排出到外部。
3、排放管线可以包括多个第一排放管、多个第二排放管和第三排放管，多个第一排放管连接到处理容器的底部，多个第二排放管具有分别连接到相应的第一排放管的一端和彼此联接的另一端
4、喷射部分可以设置在第二排放管的一端上，并且朝向第二排放管中的每个第二排放管的另一端喷射清洁液。
5、配置成凹入的液体存储槽可以设置在与第二排放管的另一端的联接点对应的底表面上，并且清洗液排出管线的入口端可以延伸到第二排放管中并且设置在液体存储槽的上方。
6、装置还可以包括：处理气体排放管线，具有连接到排放管线的一端和与处理室连通的另一端并且配置成排放处理室中的大气气体。
7、装置还可以包括：处理液排出管线，配置成将处理空间中的用于处理衬底的处理液排出到处理室的外部，其中，处理液排出管线和清洗液排出管线彼此连接。
8、抽吸部分可以包括真空排出器。
9、喷射部分可以包括配置成喷射清洁液的清洁液喷射喷嘴。
10、喷射部分可以设置成使得从排放管线喷射清洁液的方向可以能够调节成具有朝向排放方向的预定角度。
11、装置还可以包括：流量测量设备和压力测量设备，流量测量设备设置在排放管线中并且配置成测量在排放管线中流动的气体的流量，压力测量设备配置成测量排放管线中的气体的压力。
12、根据本公开的另一实施方式，用于处理衬底的装置包括：处理容器，设置在处理室中并且包括处理空间，衬底容纳在处理空间中；支承部分，设置在处理容器中，并且配置成旋转并支承衬底；液体提供管线，配置成通过向处理空间中的衬底提供处理液来处理衬底；喷嘴部分，设置在液体提供管线的排出端上，并且配置成排出处理液；排放管线，包括多个第一排放管、多个第二排放管和第三排放管，多个第一排放管连接到处理容器的底部，多个第二排放管具有分别连接到相应的第一排放管的一端和彼此联接的另一端，第三排放管连接到第二排放管的另一端的联接点并且配置成排放处理空间中的气体；喷射部分，设置在排放管线上并且配置成在排放方向上喷射用于去除积聚在排放管线中的污染物的清洁液；以及清洗液排出管线，从排放管线分支并且在其中包括排出器，以抽吸包括通过清洁液从排放管线去除的污染物的清洁液废物并且将清洁液废物排出到外部。
13、喷射部分可以设置在第二排放管的一端上，并且将清洁液从每个第二排放管朝向第二排放管的另一端喷射。
14、配置成凹入的液体存储槽可以设置在与第二排放管的另一端的联接点对应的底表面上，并且清洗液排出管线的入口端可以从第二排放管的上端向内和向下延伸，并且可以设置成与液体存储槽的底表面相邻。
15、装置还可以包括：处理气体排放管线，具有连接到排放管线的一端和与处理室连通的另一端并且配置成排放处理室中的大气气体。
16、装置还可以包括：处理液排出管线，配置成将处理空间中的用于处理衬底的处理液排出到处理室的外部，其中，处理液排出管线和清洗液排出管线可以彼此连接。
17、喷射部分可以包括配置成喷射清洁液的清洁液喷射喷嘴。
18、喷射部分可以包括清洁液喷射喷嘴，清洁液喷射喷嘴设置成在喷射方向上喷射清洁液，喷射方向具有在排放方向上从排放管线向上倾斜的角度。
19、装置还可以包括：流量测量设备或压力测量设备，流量测量设备设置在排放管线中并且配置成测量在排放管线中流动的气体的流量，压力测量设备配置成测量排放管线中的气体的压力。
20、流量测量设备或压力测量设备可以设置在第一排放管以及第二排放管的一端和另一端中的至少一个上。
21、根据本公开的另一实施方式，用于处理衬底的装置包括：处理容器，设置在处理室中并且包括处理空间，衬底容纳在处理空间中；液体提供管线，配置成通过向处理空间中的衬底提供处理液来处理衬底；排放管线，连接到处理容器并且配置成将处理空间中的气体排放到外部；清洁液喷射喷嘴，设置在排放管线中并且配置成朝向排放方向喷射清洁液以去除积聚在排放管线中的污染物；以及清洗液排出管线，从在排放方向上设置在清洁液喷射喷嘴的下游的排放管线分支并且包括抽吸部分以抽吸包括通过清洁液从排放管线去除的污染物的清洁液废物并且将清洁液废物排出到处理室的外部。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.用于处理衬底的装置，所述装置包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其中，
3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述喷射部分设置在所述第二排放管的所述一端上，并且朝向所述第二排放管中的每个第二排放管的所述另一端喷射所述清洁液。
4.根据权利要求2所述的装置，其中，配置成凹入的液体存储槽设置在与所述第二排放管的所述另一端的所述联接点对应的底表面上，并且所述清洗液排出管线的所述入口端延伸到所述第二排放管中并且设置在所述液体存储槽的上方。
5.根据权利要求1所述的装置，还包括：
6.根据权利要求1所述的装置，还包括：
7.根据权利要求1所述的装置，其中，所述抽吸部分包括真空排出器。
8.根据权利要求1所述的装置，其中，所述喷射部分包括配置成喷射所述清洁液的清洁液喷射喷嘴。
9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述喷射部分设置成使得从所述排放管线喷射所述清洁液的方向能够调节成具有朝向排放方向的预定角度。
10.根据权利要求1所述的装置，还包括：
11.用于处理衬底的装
12.根据权利要求11所述的装置，其中，所述喷射部分设置在所述第二排放管的所述一端上，并将所述清洁液从每个第二排放管朝向所述第二排放管的所述另一端喷射。
13.根据权利要求11所述的装置，其中，配置成凹入的液体存储槽设置在与所述第二排放管的所述另一端的所述联接点对应的底表面上，并且所述清洗液排出管线的入口端从所述第二排放管的上端向内和向下延伸，并且设置成与所述液体存储槽的底表面相邻。
14.根据权利要求11所述的装置，还包括：
15.根据权利要求11所述的装置，还包括：
16.根据权利要求11所述的装置，其中，所述喷射部分包括配置成喷射所述清洁液的清洁液喷射喷嘴。
17.根据权利要求11所述的装置，其中，所述喷射部分包括清洁液喷射喷嘴，所述清洁液喷射喷嘴设置成在喷射方向上喷射所述清洁液，所述喷射方向具有在所述排放方向上从所述排放管线向上倾斜的角度。
18.根据权利要求11所述的装置，还包括：
19.根据权利要求18所述的装置，其中，所述流量测量设备或所述压力测量设备设置在所述第一排放管以及所述第二排放管的所述一端和所述另一端中的至少一个上。
20.用于处理衬底的装置，所述装置包括：
...【技术特征摘要】
1.用于处理衬底的装置，所述装置包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其中，
3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述喷射部分设置在所述第二排放管的所述一端上，并且朝向所述第二排放管中的每个第二排放管的所述另一端喷射所述清洁液。
4.根据权利要求2所述的装置，其中，配置成凹入的液体存储槽设置在与所述第二排放管的所述另一端的所述联接点对应的底表面上，并且所述清洗液排出管线的所述入口端延伸到所述第二排放管中并且设置在所述液体存储槽的上方。
5.根据权利要求1所述的装置，还包括：
6.根据权利要求1所述的装置，还包括：
7.根据权利要求1所述的装置，其中，所述抽吸部分包括真空排出器。
8.根据权利要求1所述的装置，其中，所述喷射部分包括配置成喷射所述清洁液的清洁液喷射喷嘴。
9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述喷射部分设置成使得从所述排放管线喷射所述清洁液的方向能够调节成具有朝向排放方向的预定角度。
10.根据权利要求1所述的装置，还包括：
11.用于处理衬底的装置，所述装置包括：
12.根据权利要求11所述的装置，...
【专利技术属性】
技术研发人员：金大城，林在玄，尹教相，张镐镇，赵妿罗，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。