【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学膜、偏振元件保护膜、偏振元件保护膜用转印体、偏振片、图像显示装置和偏振元件保护膜的制造方法。
技术介绍
1、近年来,作为显示元件,正在进行使用了有机发光二极管(oled)元件的智能手机等图像显示装置的开发。与以液晶显示装置为代表的光接受型的显示装置不同,使用了有机发光二极管元件的图像显示装置为自发光型的显示装置,无需背光装置等光源,因此能够实现薄型化和轻量化。
2、另一方面,oled元件有时会因紫外线而劣化,因此,在组装到图像显示装置中的光学膜的粘合层等功能层中有时包含紫外线吸收剂(例如参见专利文献1、2)。
3、另外,专利文献2中公开了以下内容:在包含紫外线吸收剂的固化层上设置覆盖层,该覆盖层实质上不包含紫外线吸收剂,或者紫外线吸收剂的含量少于固化层。
4、此外,目前,作为保护偏振元件且相较于偏振元件配置于更靠近观察者侧的偏振元件保护膜,使用了具有环烯烃聚合物基材(cop基材)和设置于cop基材上的硬涂层的膜(例如参照专利文献1)。
5、现有技术文献
6、专
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【技术保护点】
1.一种光学膜,其为具备透光性基材和功能层的光学膜,其中,
2.如权利要求1所述的光学膜,其中,所述第1区域中的所述紫外线吸收剂来源的二次离子的最小强度小于所述功能层中的所述第1区域的所述透光性基材侧的边界至所述背面的第4区域中的所述紫外线吸收剂来源的二次离子的最小强度。
3.如权利要求1所述的光学膜,其中,所述功能层包含含氟原子的化合物和含硅原子的化合物中的至少任一种。
4.如权利要求3所述的光学膜,其中,所述功能层包含所述含氟原子的化合物,通过所述飞行时间型二次离子质谱法测定的所述第1区域中的所述含氟原子的化合物来源的二次离子的
...【技术特征摘要】
1.一种光学膜,其为具备透光性基材和功能层的光学膜,其中,
2.如权利要求1所述的光学膜,其中,所述第1区域中的所述紫外线吸收剂来源的二次离子的最小强度小于所述功能层中的所述第1区域的所述透光性基材侧的边界至所述背面的第4区域中的所述紫外线吸收剂来源的二次离子的最小强度。
3.如权利要求1所述的光学膜,其中,所述功能层包含含氟原子的化合物和含硅原子的化合物中的至少任一种。
4.如权利要求3所述的光学膜,其中,所述功能层包含所述含氟原子的化合物,通过所述飞行时间型二次离子质谱法测定的所述第1区域中的所述含氟原子的化合物来源的二次离子的强度大于所述第2区域和所述第3区域中的所述含氟原子的化合物来源的二次离子各自的强度。
5.如权利要求3所述的光学膜,其中,...
【专利技术属性】
技术研发人员:矶岛征一,野村崇尚,堀尾智之,七海真,堀井佳奈,书间祐介,黑田刚志,
申请(专利权)人:大日本印刷株式会社,
类型:发明
国别省市:
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