一种浮雕斜齿光栅的加工方法技术

本发明专利技术涉及一种浮雕斜齿光栅的加工方法。在清洗干净的晶圆衬底上旋涂高分子聚合物抗蚀剂层；对高分子聚合物抗蚀剂层进行倾斜变剂量曝光，形成与所述的晶圆衬底表面倾斜设置的光栅结构，采用PVD真空镀膜技术在带光栅结构的晶圆衬底表面上沉积第一金属膜层；去除光栅结构及附着在其上面的第一金属膜层，使晶圆衬底上仅留下间隔排列且与晶圆衬底倾斜设置的第二金属掩膜层；采用离子束刻蚀技术对位于第二金属掩膜层的间隙之间的晶圆衬底表面进行刻蚀，得到斜齿光栅结构；最后去除第二金属掩模层，即得到目标浮雕斜齿光栅。本发明专利技术通过改善金属掩膜工艺制备出倾斜的金属掩模结构，大大降低倾斜刻蚀的难度，从而可方便快速的生产加工浮雕斜齿光栅。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种浮雕斜齿光栅的加工方法。

技术介绍

1、衍射光栅是一种高分辨率的光学色散元件。随着衍射光栅制造技术的不断发展，各类型的光栅相继而出，光栅的用途也日益广泛，如今衍射光栅不仅可用于光谱学，还能广泛用于惯性约束聚变、激光加工、天文、计量、光通讯、ar显示等众多领域。

2、现有技术通常是利用集成电路芯片制造技术，通过光刻机光刻，将光刻胶曝光处理后结合蚀刻处理工艺，能制造出浮雕光栅结构，例如直角型、梯形型或三角型。

3、斜齿光栅的结构是倾斜的，现有的制造方法通常是对直齿矩形光刻胶进行倾斜刻蚀形成斜齿光栅结构。利用现有的制造方法上制备浮雕斜齿光栅加工难度大，成本高，量产困难。因此需要探索一种新的浮雕斜齿光栅的加工方法。

技术实现思路

1、本专利技术提供一种浮雕斜齿光栅的加工方法，本专利技术通过改善金属掩膜工艺制备出倾斜的金属掩模结构，大大降低倾斜刻蚀的难度，从而可方便快速的生产加工浮雕斜齿光栅。

2、本专利技术通过以下技术方案实现：

3、一种浮雕斜齿光栅的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种浮雕斜齿光栅的加工方法，其特征在于：包括如下依序的步骤：

2.根据权利要求1所述的一种浮雕斜齿光栅的加工方法，其特征在于：所述的晶圆衬底(1)的材料为玻璃、硅、氮化硅或碳化硅材料。

3.根据权利要求1所述的一种浮雕斜齿光栅的加工方法，其特征在于：所述的无掩模高精度直写光刻技术采用电子束直写或激光直写。

4.根据权利要求1所述的一种浮雕斜齿光栅的加工方法，其特征在于：所述的高分子聚合物抗蚀剂层(2)采用光致抗蚀剂或者电子抗蚀剂制成。

5.根据权利要求1所述的一种浮雕斜齿光栅的加工方法，其特征在于：步骤(三)镀膜时，利用镀膜工装来调整晶...

【技术特征摘要】

1.一种浮雕斜齿光栅的加工方法，其特征在于：包括如下依序的步骤：

2.根据权利要求1所述的一种浮雕斜齿光栅的加工方法，其特征在于：所述的晶圆衬底(1)的材料为玻璃、硅、氮化硅或碳化硅材料。

3.根据权利要求1所述的一种浮雕斜齿光栅的加工方法，其特征在于：所述的无掩模高精度直写光刻技术采用...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱元强，黄书惠，李书比，
申请(专利权)人：福建福特科光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：