System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种光学元器件调节偏心的方法技术_技高网

一种光学元器件调节偏心的方法技术

技术编号:43848344 阅读:19 留言:0更新日期:2024-12-31 18:41
本发明专利技术提供了一种光学元器件调节偏心的方法,属于偏心调节技术领域。本发明专利技术包括如下步骤:步骤(1)、设计V槽并固定尺寸;步骤(2)、光学元器件的二个面粘结,背面贴合工装背面,正面贴合靠体的棱线;步骤(3)、通过看背面光圈确认光学元器件放置在靠体上贴合的紧凑性,并用胶水封边缘;步骤(4)、放置对应的V槽固定后,进行对应的产品上表面磨削,把多余的部分去除;步骤(5)、加工按第一面设计尺寸,再重复2‑4步骤,加工另一个面,对应第一面的设计尺寸。本发明专利技术通过控制V槽尺寸精度,实现产品放置后自然垂直放置的原则,自然的形成对应的等厚位置接触,成为对称的方式进行对应的产品尺寸磨削磨削的平行位置同样也实现等厚尺寸。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及偏心调节,尤其涉及一种光学元器件调节偏心的方法


技术介绍

1、当下设备以及原件对光学元器件的要求越来越高,对元器件成像要求也越来越高,非球柱面及柱面镜的偏心与产品的扭曲要求越来越高,这类需求数量也越来越多,价格影响公司订单需求数量,目前常规的非球柱面/柱面偏心的要求再0.02mm以内,高精度的偏心要再0.005mm以内,目前加工方式在偏心要求0.005mm以内的成品率非常低,从而影响订单价格成本,不高的偏心要求对元器件的成像上又对像质有很大影响,造成这种高偏心要求的产品供不应求。

2、目前偏心及扭曲的加工方式为:用胶粘合上盘或上靠体,采用cnc设备进行曲线模拟再加工。

3、这些加工方式的会造成的影响为:

4、①胶粘合上盘或上靠体,造成产品尺寸精度不够,侧面垂直度不良从而影响偏心及扭曲的效果:

5、②光胶上盘或上靠体,光胶技能学习时间长,且加工存在冷热影响造成开胶掉盘风险高,且需要每条上盘使用测试设备验证上盘效果,费时费力,批量化实现可能性极低;

6、③cnc设备进行曲线模拟,非球的产品/柱面产品的中心位置不一定是一致性的,加工上需要一条条测试进行加工,程序要不断重新更新,效率上与刀具磨损上都会产生挺多不良影响这些加工式总会影响一些元器件的加工效率与加工质量,对信息化与质量化的当下没有竞争优势。


技术实现思路

1、有鉴于此,为解决现有技术中偏心要求0.005mm以内的成品率非常低的技术问题,本专利技术提供了一种光学元器件调节偏心的方法,通过控制v槽尺寸精度,实现产品放置后自然垂直放置的(不仅垂直放置其他倾斜放置也可以)原则自然的形成对应的等厚位置接触,成为对称的方式进行对应的产品尺寸磨削磨削的平行位置同样也实现等厚尺寸。

2、为实现上述目的,本专利技术提供了如下的技术方案:

3、一种光学元器件调节偏心的方法,包括如下步骤:

4、步骤(1)、设计v槽并固定尺寸,通过高精度加工的三个组件通过深化光胶的方式定型v槽的尺寸,该v槽尺寸可以控制在同一批次的光学元器件的偏心控制在0.001mm以内;

5、步骤(2)、光学元器件的二个面粘结,背面贴合工装背面,正面贴合靠体的棱线;

6、步骤(3)、通过看背面光圈确认光学元器件放置在靠体上贴合的紧凑性,并用胶水封边缘;

7、步骤(4)、放置对应的v槽固定后,通过成盘的方式进行对应的产品上表面磨削,把多余的部分去除;

8、步骤(5)、加工按第一面设计尺寸,再重复2-4步骤,加工另一个面,对应第一面的设计尺寸;

9、步骤(6)、光学元器件加工二端侧面后,取下光学元器件可以采用对应的检测方式进行对应抽检确认即可。

10、优选地,步骤(4)中,采用磨削或切割的方式把多余的部分去除。

11、本专利技术相对于现有技术,具有如下的有益效果:

12、本专利技术提供的光学元器件调节偏心的方法,任何偏心的产品都是通过中心对称的原则进行的,本专利技术,通过设计一款高精度的v型槽工装,直接采用产品限位的方式实现产品加工放置以及磨削后的平行位置实现产品等厚,根据产品中心对称原则,二端尺寸等厚可以充分的表面,产品整体偏心对称位置一致性,减少了过往产品要进行不断的调心测试修正,该工装直接实现限位工装实现高精度的尺寸要求以及高精度偏心要求

13、本专利技术在上盘过程中可以确保一致性,不需要重复测量,只需使用对应的工装靠体进行上盘,对人员技能要求不高,可以提高普适性,从而提高生产输出效率。过程可控,成品率高可适用范围广。

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【技术保护点】

1.一种光学元器件调节偏心的方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种光学元器件调节偏心的方法,其特征在于,步骤(4)中,采用磨削或切割的方式把多余的部分去除。

【技术特征摘要】

1.一种光学元器件调节偏心的方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈昕魏德全阮异凯
申请(专利权)人:福建福特科光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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