【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种闸门阀，且更具体地说，涉及一种用于大型衬底的闸门阀和一种包括所述闸门阀的衬底处理装置。
技术介绍
用于半导体设备的装置已被广泛研制。例如，在美国专利申请公开案第 US2002/0024611号中揭示一种用于直径为300mm的晶片的制造装置。在用于半导体设备的 制造装置中，用于传递设备的轨道安置在外壳的中心部分，且多个处理台沿所述轨道的两 侧安置。所述传递设备由所述轨道支撑且沿所述轨道移动。另外，传递设备的高度是可控 制的，且传递设备包括一个具有衬底固持器的衬底传递构件。衬底固持器可突出并横过轨 道，并使用一个臂组合件。衬底传递构件通过衬底固持器连接到其中具有晶片的多个处理 台。晶片从臂组合件前面的输送容器供应到传递设备。制造装置由一外壳包围，且输 送容器连接到所述外壳。传递设备安置在所述多个处理台之间。由于由外壳包围的空间与 周围空气隔离，因而防止在传递设备与多个处理台之间传递的晶片被污染。然而，用于改进外壳的隔离和防污染能力的高真空受到经济和结构条件限制。外 壳具有一结构，其内部气体由于高真空空间与周围空气的压力差而被慢慢排空。另外，将衬底从...
【技术保护点】
一种衬底处理装置，其包含：沿第一方向安置的多个模块，所述多个模块中的每一者都具有可容纳衬底的内部空间；和传递单元，其在所述多个模块之间传递所述衬底，所述传递单元包括水平面上的沿所述第一方向安置的第一和第二轨道和沿所述第一和第二轨道移动的第一和第二可移动传递室；闸门阀，其固定在所述多个模块中的每一者上且与所述第一和第二可移动传递室中的一者结合，其中所述第一和第二可移动传递室在移动时在气压上与外部隔离，其中所述第一可移动传递室在所述第二可移动传递室下移动，且其中所述第一和第二可移动传递室平行于所述水平面移动。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：克劳斯赫格勒，
申请(专利权)人：周星工程股份有限公司，阿西斯自动系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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