System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置及方法制造方法及图纸_技高网

一种应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置及方法制造方法及图纸

技术编号:40094959 阅读:8 留言:0更新日期:2024-01-23 16:47
本发明专利技术提供了一种应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置及方法,所述装置包括内置有激光发射器的机柜,激光发射器通过光纤线连接有激光清洗头,本发明专利技术装置采用激光清洗头清洁单晶炉热场,具有无接触和适用于各种材质的特点,其清洗洁净度高,安全可靠,不会损害操作人员健康。本发明专利技术方法通过调整和控制激光工艺参数(如脉冲频率、输出占空比、电机摆动频率等),有选择性地清洁污物,能够对单晶炉热场内的石墨件进行无损清洁。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于单晶炉热场清洁,具体涉及一种应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置及方法


技术介绍

1、单晶炉热场(hot zone)是指单晶炉的炉腔区域,其主要用于提供恒定的温度和洁净的环境供单晶生长,以确保单晶的质量和完整性。

2、为了保持单晶炉热场洁净,需要定期对单晶炉热场进行清洁。现有的技术中,主要有手工清洁、机械清洁和化学清洁这三种方式。这三种方式的清洁效率较低,且粉尘污染较为严重,工作人员在清洁过程中还会吸入颗粒物危害人体。除此之外,由于这三种方式直接与单晶炉热场的内部结构发生接触,还会导致单晶炉热场内的石墨件会受到损伤。


技术实现思路

1、本专利技术提供一种应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置及方法,用于解决现有技术存在的问题。

2、第一方面,本专利技术的目的采用如下技术方案实现:

3、一种应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,包括:

4、内置有激光发射器的机柜;

5、光纤线,其输入端连接所述激光发射器,所述光纤线的输出端连接有激光清洗头;

6、所述激光清洗头包括第一外壳体和第二外壳体,所述第二外壳体位于所述第一外壳体的底侧且连通所述第一外壳体;所述第二外壳体的底部设置有qbh连接器,所述第二外壳体的内空腔设置有准直镜,所述第二外壳体的外壁设置有用于开关所述qbh连接器的开关按钮;所述第一外壳体内置有保护镜、聚焦镜、反光镜和用于驱动所述聚焦镜运动的电机;所述反光镜位于所述准直镜的顶侧;所述第一外壳体远离所述反光镜的一端开设有激光射出口,所述保护镜封住所述激光射出口;所述聚焦镜设置于所述保护镜和所述反光镜之间;所述第二外壳体开设有供清洁气体通入的入气口,所述第一外壳体开设有出气口,所述出气口靠近所述激光射出口设置,所述出气口连通所述入气口。

7、优选的,还包括:

8、散热箱,设置于机柜的侧壁;所述散热箱通过预设的管路连通有水冷机。

9、优选的,所述机柜的顶部设置有用于放置所述激光清洗头的收纳架,所述机柜的外壳设置有操作面板。

10、优选的,还包括:

11、车板、万向轮和扶手,所述机柜设置于所述车板上,所述万向轮设置于所述车板的底部;所述扶手固定连接于所述车板的一端。

12、优选的,所述第一外壳体设置有用于限制所述激光清洗头射出激光的安全锁。

13、优选的,所述反光镜相对于所述第二外壳体长度方向的倾斜角度为30°-50°。

14、

15、第二方面,本专利技术的目的采用如下技术方案实现:

16、一种应用于单晶炉热场清洁的激光清理方法,采用上述应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,所述方法包括:

17、空开机柜;

18、给水冷机注入预定量的纯净水;

19、待所述水冷机的数显温度到达预设温度范围时,启动激光发射器;

20、给激光清洗头通入清洁气体;

21、根据单晶炉热场的待清洗部的损伤阈值,设定所述激光发射器对应清洗激光的工艺参数;

22、根据单晶炉热场的待清洗部与所述激光清洗头的相对距离,调节所述激光清洗头的焦距;

23、旋开安全锁,将所述激光清洗头对准单晶炉热场的待清洗部进行清洗。

24、优选的,所述工艺参数包括但不限于激光显性控制参数,所述根据单晶炉热场的待清洗部的损伤阈值,设定所述激光发射器对应清洗激光的工艺参数包括:

25、根据待清洗部的损伤阈值,设定所述激光发射器对应清洗激光的单脉冲能量范围;

26、根据所述单脉冲能量范围读取所述单脉冲能量的最大值和最小值;

27、根据预设的单脉冲能量步进值计算出多个单脉冲能量样本值;

28、设定光斑重合度的最大值和最小值;

29、根据预设的光斑重合度步进值计算出多个光斑重合度样本值;

30、从大到小逐一选取所述光斑重合度样本值,从小到大选取所述单脉冲能量样本值,并将二者任意组合,构成激光显性控制参数矩阵;

31、选取所述激光显性控制参数矩阵其中一组数组作为激光显性控制参数。

32、优选的,所述清洁气体经过三级以上油水分离,所述清洁气体为惰性气体。

33、与现有技术相比,本专利技术至少存在以下优点:

34、1)本专利技术采用激光清洁的方式来清洁单晶炉热场,具有无接触和适用于各种材质的特点,其清洗洁净度高,安全可靠,不会损害操作人员健康。

35、2)本专利技术方法通过调整和控制激光工艺参数(如脉冲频率、输出占空比、电机摆动频率等),有选择性的清洁污物,能做到无损伤单晶炉热场内的石墨件。

36、3)本专利技术装置的运行成本低,可长期使用等优点。

37、4)本专利技术的激光清洗头不同于现有的激光清洁器,兼具激光清洁和吹气功能,并采用水冷降温,具有更好的清洁效果。

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【技术保护点】

1.一种应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于,还包括:

3.根据权利要求1所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于:

4.根据权利要求1所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于,还包括:

5.根据权利要求1所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于:

6.根据权利要求1所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于:所述反光镜(313)相对于所述第二外壳体(32)长度方向的倾斜角度为30°-50°。

7.一种应用于单晶炉热场清洁的激光清理方法,其特征在于,采用权利要求1-2所述应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,所述方法包括:

8.根据权利要求7所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理方法,其特征在于,所述工艺参数包括但不限于激光显性控制参数,所述根据单晶炉热场的待清洗部的损伤阈值,设定所述激光发射器对应清洗激光的工艺参数包括:

9.根据权利要求7所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理方法,其特征在于:所述清洁气体经过三级以上油水分离,所述清洁气体为惰性气体。

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【技术特征摘要】

1.一种应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于,还包括:

3.根据权利要求1所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于:

4.根据权利要求1所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于,还包括:

5.根据权利要求1所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于:

6.根据权利要求1所述的应用于单晶炉热场清洁的激光清理装置,其特征在于:所述反光镜(313)相对于所述第二外壳...

【专利技术属性】
技术研发人员:侯全庆徐志群余亮亮汪奇
申请(专利权)人:青海高景太阳能科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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