离子注入机掉片监控装置以及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种离子注入机掉片监控装置以及方法。所述装置包括：托盘，用于放置晶圆；温度检测单元，朝向所述托盘放置，用于监控所述托盘上放置晶圆的位置的温度；以及判断单元，与所述温度检测单元连接，接收温度检测单元监控获得的温度值，当放置晶圆的一位置的温度与先前温度相比下降幅度超过一设定的阈值范围，且持续时间达到一设定的阈值时间后，判断该位置发生掉片。本发明专利技术利用了离子注入工艺会导致温度升高，而托盘自身是水冷机构的特点，发生掉片之后导致托盘直接将暴露出来，温度明显下降的特点，采用温度监控的方式，以先前温度为基础进行对比，并设定了阈值时间，从而准确判断是否发生掉片。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体设备领域，尤其涉及一种离子注入机掉片监控装置以及方法。

技术介绍

1、在现有技术中，离子注入机设计中并没有提供晶圆掉落监控功能，只能工艺完成后，机械手取片提示无片，才能发现晶圆掉落。这样就存在如下问题：

2、当离子注入到硅片内时，需要通过硅片运动或者离子束流上下移动来使注入均匀。通过硅片运动使注入均匀的方式会导致一个问题，就是注入过程中，硅片由于机械夹持故障或其他原因导致掉落在真空腔室内，如果未能及时发现并停止，离子束流会持续轰击裸露的冷却盘，缩短冷却盘使用寿命，并带来大量的金属和颗粒污染。不仅注入的片子报废，还需要更换冷却靶盘，严重影响生产效率。因此，需要提出一种方法，来解决晶圆掉落的问题。

技术实现思路

1、本专利技术所要解决的技术问题是，提供一种离子注入机掉片监控装置以及方法，来解决监控晶圆掉落的问题。

2、为了解决上述问题，本专利技术提供了一种离子注入机掉片监控装置，包括：托盘，用于放置晶圆；温度检测单元，朝向所述托盘放置，用于监控所述托盘上放置晶圆的位置的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种离子注入机掉片监控装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述托盘为转盘，所述温度检测单元的检测周期设定为与托盘转动频率相配合，以检测到所述托盘上的每个放置晶圆的位置的温度数值。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述温度检测单元在所述托盘表面移动，以检测到所述托盘上的每个放置晶圆的位置的温度数值。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述托盘上每个放置晶圆的位置均对应设置一温度检测单元。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述温度检测单元包括一红外摄像机，对所述托盘表面进行红外成像...

【技术特征摘要】

1.一种离子注入机掉片监控装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述托盘为转盘，所述温度检测单元的检测周期设定为与托盘转动频率相配合，以检测到所述托盘上的每个放置晶圆的位置的温度数值。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述温度检测单元在所述托盘表面移动，以检测到所述托盘上的每个放置晶圆的位置的温度数值。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述托盘上每个放置晶圆的位置均对应设置一温...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈猛，何中余，叶斐，
申请(专利权)人：上海超硅半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：