一种硅片取片装置及硅片取片设备制造方法及图纸

技术编号:40051172 阅读:23 留言:0更新日期:2024-01-16 21:13
本技术公开了一种硅片取片装置及硅片取片设备,其中,硅片取片装置包括输送机构和上料机构,输送机构包括输送单元和吸附单元,吸附单元设置在输送单元的取片端,吸附单元为长条形且沿输送单元的输送方向延伸,吸附单元的吸附面低于输送单元的输送面;上料机构设置在输送单元的取片端,并被配置为将硅片释放至输送单元的取片端;吸附单元被配置为非接触地吸附释放至取片端的硅片,以将硅片吸靠在输送单元的取片端;输送单元被配置为将位于取片端的硅片向后道输送。通过吸附单元的吸附,增大了硅片与输送单元之间的摩擦力,大大降低了硅片输送时发生打滑的概率,提高了取片装置的取片效果。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于硅片生产,尤其涉及一种硅片取片装置及硅片取片设备


技术介绍

1、随着分选机整机产能的不断提高,对分选机上料区的取片装置的取片速度提出了更高的要求。

2、目前,取片装置将硅片从花篮中取出继续向后道输送的过程中,由于硅片一开始在花篮中是静止的,当取片装置以较高的速度取片时,硅片容易发生打滑,从而产生皮带印,影响硅片的后续使用。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种硅片取片装置,以解决现有技术中硅片取片装置在以较高的速度取片时,存在硅片容易打滑的问题,另外,本技术还提供一种包括该硅片取片装置的硅片取片设备。

2、为达此目的,本技术采用以下技术方案:

3、一种硅片取片装置,其包括输送机构和上料机构,其中,

4、输送机构包括输送单元和吸附单元,吸附单元设置在输送单元的取片端,吸附单元为长条形且沿输送单元的输送方向延伸,吸附单元的吸附面低于输送单元的输送面;

5、上料机构设置在输送单元的取片端,并被配置为将硅片释放至输送单元的取片端;

<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种硅片取片装置,其特征在于,所述硅片取片装置包括输送机构和上料机构,其中,

2.根据权利要求1所述的硅片取片装置,其特征在于,所述输送单元包括第一输送带、第二输送带、第一支撑板和第二支撑板,所述第一输送带和所述第二输送带平行间隔设置且分别设置在所述第一支撑板和所述第二支撑板上;

3.根据权利要求2所述的硅片取片装置,其特征在于,所述第一吸附组件包括第一引流件,所述第一引流件与所述第一支撑板之间具有第一气腔,所述第一引流件上设置有第一进气口,所述第一引流件与所述第一支撑板之间形成与所述第一气腔连通的出气端,压缩气体经所述第一进气口进入所述第一气腔,再经所述第一...

【技术特征摘要】

1.一种硅片取片装置,其特征在于,所述硅片取片装置包括输送机构和上料机构,其中,

2.根据权利要求1所述的硅片取片装置,其特征在于,所述输送单元包括第一输送带、第二输送带、第一支撑板和第二支撑板,所述第一输送带和所述第二输送带平行间隔设置且分别设置在所述第一支撑板和所述第二支撑板上;

3.根据权利要求2所述的硅片取片装置,其特征在于,所述第一吸附组件包括第一引流件,所述第一引流件与所述第一支撑板之间具有第一气腔,所述第一引流件上设置有第一进气口,所述第一引流件与所述第一支撑板之间形成与所述第一气腔连通的出气端,压缩气体经所述第一进气口进入所述第一气腔,再经所述第一气腔从出气端流出以形成基于伯努利效应的负压将硅片吸靠在所述第一输送带上;

4.根据权利要求3所述的硅片取片装置,其特征在于,所述第一支撑板包括第一支撑部和第一台阶部,所述第一支撑部用于支撑第一输送带,所述第一台阶部凸出于所述第一支撑部设置,所述第一台阶部位于第一输送带侧边且与所述第一输送带所输送的硅片之间形成间隙;

5.根据权利要求1所述的硅片取片装置,其特征在于,所述输送单元包括第一输送带、第二输送带、第一支撑板和第二支撑板,所述第一输送带和所述第二输送带平行间隔设置且分别设置在所述第一支撑板和所述第二支撑板上;

6.根据权利要求1所述的硅片取片装置,其特征在于,所述硅片取片装置还包括两套皮带规整组件,两套所述皮带规整组件分别设置在所述输送单元沿输送方向的两侧,且位于所述输送单元的取片端的...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐飞李昶韩杰闫东
申请(专利权)人:无锡奥特维科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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