【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体光刻领域，特别是涉及一种版图生成方法、装置、设备及介质。
技术介绍
1、在目前晶圆厂的工作流程中，如果想得到特定结构的晶圆，通常需要工作人员遵循特定的设计规则，借助相应的软件手动设计版图，之后交由机器生产。
2、也即现有技术中，如果需要得到特定结构的版图，需要从定义设计规则，定义设计尺寸开始，利用版图工具来生成所需的测试版图，用于后面的opc（optical proximitycorrection，光学临近修正效应）开发，工艺开发，良率诊断等等一系列流程。但在有些实际场景下，存在现成的晶圆图像，却缺少版图设计工具，以及具体的设计规则，如果要工作人员根据真实的半导体器件进行反推，思考并逐渐根据上述流程重新构建半导体版图，则会大大降低生产效率，提升生产成本。
3、因此，如何快速、高效地从已有的晶圆图像中获得对应的晶圆版图，就成了本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种版图生成方法、装置、设备及介质，以解决现有技术中无法快速、高效地从已有的晶圆图像中获得对应的晶圆版图的问题。
2、为解决上述技术问题，本专利技术提供一种版图生成方法，包括：
3、获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；
4、根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；
5、根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；
6、根据所述边缘灰度值在所
7、确定所述图案边缘图形上的取样点集合；
8、利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
9、可选地，在所述的版图生成方法中，所述获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据包括：
10、通过关键尺寸扫描电子显微镜获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据。
11、可选地，在所述的版图生成方法中，在根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图包括：
12、根据所述量测灰度图获取所述量测路径对应的路径灰度信息；
13、将所述路径灰度信息进行归一化处理，得到标准灰度信息；
14、根据所述量测路径及所述标准灰度信息，确定路径灰度曲线图。
15、可选地，在所述的版图生成方法中，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：
16、在所述图案边缘图形上，每间隔第一数量个扫描点，确定一个取样点，得到取样点集合。
17、可选地，在所述的版图生成方法中，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：
18、对所述图案边缘图形进行栅格化；
19、确定所述图案边缘图形与栅格边缘的交点，将所述交点作为取样点，得到取样点集合。
20、可选地，在所述的版图生成方法中，所述对所述图案边缘图形进行栅格化包括：
21、以所述图案边缘图形的左下角的扫描点为坐标零点，对所述图案边缘图形进行栅格化。
22、可选地，在所述的版图生成方法中，所述栅格的边长的范围为1纳米至10纳米，包括端点值。
23、一种版图生成装置，包括：
24、获取模块，用于获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；
25、曲线模块，用于根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；
26、灰度模块，用于根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；
27、边缘模块，用于根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；
28、取样模块，用于确定所述图案边缘图形上的取样点集合；
29、连接模块，用于利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
30、一种版图生成设备，包括：
31、存储器，用于存储计算机程序；
32、处理器，用于执行所述计算机程序时实现如上述任一种所述的版图生成方法的步骤。
33、一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上述任一种所述的版图生成方法的步骤。
34、本专利技术所提供的版图生成方法，通过获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；确定所述图案边缘图形上的取样点集合；利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
35、本专利技术对已有的晶圆进行扫描，获得量测灰度图，结合量测中获取的关键尺寸数据，可以得到量测灰度图中对应晶圆边缘（也即所述图案边缘图形），再在图案边缘图形上取多个取样点，连接取样点即可得到多边形化的晶圆版图（也即所述多边形目标版图），本专利技术快速直接，处理效率高，占用算力低，生成的多边形目标版图贴近真实设计，对已有的晶圆还原度高。本专利技术同时还提供了一种具有上述有益效果的版图生成装置、设备及介质。
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1.一种版图生成方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，所述获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据包括：
3.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，在根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图包括：
4.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：
5.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：
6.如权利要求5所述的版图生成方法，其特征在于，所述对所述图案边缘图形进行栅格化包括：
7.如权利要求5所述的版图生成方法，其特征在于，所述栅格的边长的范围为1纳米至10纳米，包括端点值。
8.一种版图生成装置，其特征在于，包括：
9.一种版图生成设备，其特征在于，包括：
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至7任一项所述的版图生成方法的
...【技术特征摘要】
1.一种版图生成方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，所述获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据包括：
3.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，在根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图包括：
4.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：
5.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱钰，
申请(专利权)人：华芯程杭州科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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