【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光刻，特别涉及一种光学邻近校正模型的建模方法、使用方法、建模装置、使用装置、电子设备及计算机可读存储介质。
技术介绍
1、光学邻近校正（optical proximity correction，即opc）模型建模时通常以仿真和实际量测的关键尺寸或轮廓的差别作为目标函数，优化模型的参数，使得模型可以准确的预测光刻后图案轮廓。光学邻近校正模型使用主要包括两个方面，除了预测光刻后轮廓用于边缘放置误差的得到之外，还用来得到光刻后图像的斜率信息，如归一化的图像对数斜率（normalized image log slope，即nils），进行相关的热点检测。由于在建模时没有使用对应的图像斜率量测值进行校准或者验证，因此完全无法保证模型在预测这类指标上的准确性。因此，如何提高光学邻近校正模型在各种应用场景下的精确度，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。
技术实现思路
1、本申请的目的是提供一种光学邻近校正模型的建模方法、使用方法、建模装置、使用装置、电子设备及计算机可读存储介质，将量测的图...
【技术保护点】
1.一种光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，所述获取光刻后多个不同建模图案在不同曝光剂量下的关键尺寸量测值，包括：
3.根据权利要求2所述的光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，所述根据目标函数优化所述光刻胶模型的参数，得到目标光学邻近校正模型，包括：
4.根据权利要求3所述的光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，所述第二目标函数为：
5.根据权利要求3所述的光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，所述预设条件是满足优化收敛条件，或者运行完全...
【技术特征摘要】
1.一种光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，所述获取光刻后多个不同建模图案在不同曝光剂量下的关键尺寸量测值，包括：
3.根据权利要求2所述的光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，所述根据目标函数优化所述光刻胶模型的参数，得到目标光学邻近校正模型，包括：
4.根据权利要求3所述的光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，所述第二目标函数为：
5.根据权利要求3所述的光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，所述预设条件是满足优化收敛条件，或者运行完全部参数优化的迭代次数。
6.根据权利要求2所述的光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，所述根据每个所述建模图案的所述曝光剂量斜率，得到每个所述建模图案的归一化图像对数斜率量测...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：华芯程杭州科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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