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本申请公开了一种光学邻近校正模型的建模方法、使用方法及相关装置，属于光刻技术领域。本申请在光学邻近模型建模时收集多个不同图案在不同曝光剂量下的关键尺寸量测值，并以此得到每个图案的图像斜率。在优化模型参数时将仿真和量测的图像斜率值的差别加入目...
该专利属于华芯程（杭州）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华芯程（杭州）科技有限公司授权不得商用。

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