【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及基板传动，具体涉及用于基板镀膜的传动装置及镀膜传动系统。
技术介绍
1、在对基板镀膜时，需要将基板从缓冲室传动至镀膜室，随后再对基板进行镀膜。
2、现有技术中，近空间升华设备是一种常用于cdte沉积的镀膜设备，对镀膜室沉积过程中的气压的稳定有极为严格的要求。气压一旦有波动，会直接影响成膜厚度和成膜质量。目前常见的设备为单缓冲室结构，单缓冲室的一侧与外界大气连通，另一侧与镀膜室连通，在使用的过程中，单缓冲室内部的气压受到外界大气的影响，处于上下波动状态，当单缓冲室与镀膜室连通时，由于单缓冲室的气压不稳定，镀膜室的真空会受到单缓冲室的影响，导致镀膜室的气压波动较大，影响成膜厚度和成膜质量。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术提供了一种用于基板镀膜的传动装置及镀膜传动系统，以解决单缓冲室与镀膜室连通时，镀膜室的真空会受到单缓冲室的影响，导致镀膜室的气压波动较大的问题。
2、第一方面，本专利技术提供了一种用于基板镀膜的传动装置，包括：
3、镀膜室；
4、第一缓冲室，进口处设有第一阀门，所述第一阀门用于与外界连通，适于基板进入所述第一缓冲室内；所述第一缓冲室上设有第一抽气机构，用于抽出所述第一缓冲室内的气体；
5、第二缓冲室，与所述第一缓冲室之间设有第二阀门，适于基板从所述第一缓冲室传动至所述第二缓冲室，所述第二缓冲室与所述镀膜室之间设有第三阀门，所述第二缓冲室经所述第三阀门与所述镀膜室连通；所述第二缓冲室上设有第
6、经所述第二抽气机构和所述第一进气机构调节所述第二缓冲室内的气压，在所述第二缓冲室与所述镀膜室的气压处于相同的状态下，所述第二阀门处于关闭状态且所述第三阀门处于开启状态，适于基板从所述第二缓冲室传动至所述镀膜室。
7、有益效果：此用于基板镀膜的传动装置，当基板传动至第一缓冲室内，通过第一抽气机构将第一缓冲室内的气体抽出，当第一缓冲室内的气压值到达设定值时，开启第二阀门，使第一缓冲室内的基板传动至第二缓冲室内，通过第一进气机构向第二缓冲室内充气和第二抽气机构抽出第二缓冲室内的气体，对第二缓冲室进行气压控制，使得第二缓冲室的气压与镀膜室的气压保持一致，从而在第三阀门开启时，基板从第二缓冲室传动至镀膜室，镀膜室内的气压能够保持稳定状态，减少镀膜室内的气压波动，保证基板成膜厚度的均匀性和成膜质量。
8、在一种可选的实施方式中，所述第一进气机构包括进气总管、第一进气管、第一控制阀和气体存储器，所述第一进气管的一端与所述进气总管连通，另一端与所述第二缓冲室连通，所述气体存储器设于所述第一进气管上，所述气体存储器用于存储所述进气总管内的气体，所述第一控制阀设于所述第一进气管上，用于控制所述气体存储器内的气体经所述第一进气管通道进入所述第二缓冲室。
9、有益效果：通过在第一进气管上设置气体存储器，由气体存储器预先存储进气总管的气体，以便于进气总管内的气体快速通过第一进气管充入至第二缓冲室内，提高第二缓冲室的充气效率。
10、在一种可选的实施方式中，所述第一进气机构还包括第二进气管和气体流量控制器，所述第二进气管的一端与所述第二缓冲室连通，另一端与所述进气总管连通，所述气体流量控制器设于所述第二进气管上。
11、有益效果：在第二缓冲室上设置第二进气管和气体流量控制器，通过气体流量控制第二进气管内的气体精准的进入至第二缓冲室内，实现对第二缓冲室内的气压进行精准调控，进一步保证第二缓冲室内的气压与镀膜室内的气压相同。
12、在一种可选的实施方式中，所述第二抽气机构包括第一抽气管、快抽阀门和第一驱动泵，所述第一驱动泵经所述第一抽气管与所述第二缓冲室连通，所述快抽阀门设于所述第一抽气管上，用于控制所述第一抽气管通道的开启与关闭。
13、有益效果：在快抽阀门开启的状态下，通过第一驱动泵对第一抽气管进行抽气，能够快速将第二缓冲室内的气体抽出，使得第二缓冲室内的气压迅速到达指定范围，进一步提高对第二缓冲室内气体调节的效率。同时能够将第二缓冲室内的杂质气体快速排出。
14、在一种可选的实施方式中，所述第二抽气机构还包括第二抽气管和慢抽阀门，所述第二抽气管与所述第一驱动泵和所述第二缓冲室连通，所述慢抽阀门设于所述第二抽气管上，用于控制所述第二抽气管通道的开启与关闭。
15、有益效果：在慢抽阀门开启的状态下，通过第一驱动泵对第二抽气管进行抽气，能够缓慢的将第二缓冲室内的气体抽出，使得第二缓冲室内的气压精准的到达指定范围，进一步提高对第二缓冲室内气体调节的效率。
16、在一种可选的实施方式中，所述第一抽气机构包括第二驱动泵、第三抽气管和第二控制阀，所述第二驱动泵与所述第三抽气管连接，所述第三抽气管与所述第一缓冲室连通，所述第二控制阀设于所述第三抽气管上，用于控制所述第三抽气管通道的开启与关闭。
17、有益效果：在第二控制阀开启的状态下，通过第二驱动泵对第三抽气管进行抽气，使第一缓冲室内的气体被抽出，让第一缓冲室内的气压处于中等真空范围，在第一缓冲室内的基板传动至第二缓冲室过程中，避免第一缓冲室内过多的杂质气体进入至第二缓冲室。
18、在一种可选的实施方式中，所述第一缓冲室上还设有第二进气机构，所述第二进气机构用于向所述第一缓冲室内充入气体。
19、有益效果：在第一缓冲室内的气体被抽出的情况下，若要开启第一阀门，使外界基板传动第一缓冲室内，由于外界气压与第一缓冲室内的气压存在压差，第一阀门受外界压力作用不易于开启，通过第二进气机构向第一缓冲室内充入空气，使第一缓冲室内的气压与外界气压相同，以便于第一阀门的开启。
20、在一种可选的实施方式中，所述第二进气机构包括第三进气管和第三控制阀，所述第三进气管的一端与所述第一缓冲室连通，另一端与外界连通，所述第三控制阀设于所述第三进气管上，用于控制所述第三进气管通道的开启与关闭。
21、有益效果：通过控制第三控制阀的开启，使外界气体通过第三进气管进入第一缓冲室内，以便于第一阀门开启，结构简单，便于操作。
22、在一种可选的实施方式中，所述第一缓冲室、所述第二缓冲室与所述镀膜室上分别设有真空计。
23、有益效果：通过在第一缓冲室、第二缓冲室与镀膜室上分别设置真空计，以便于精准控制第一缓冲室、第二缓冲室和镀膜室内部的气压环境。
24、第二方面，本专利技术还提供了一种镀膜传动系统，包括：
25、传动辊；
26、用于基板镀膜的传动装置，所述第一缓冲室、所述第二缓冲室与所述镀膜室内分别设有多个所述传动辊，基板适于由所述传动辊驱动传动。
27、有益效果：此镀膜传动系统，通过传动辊将基板依次传动至第一缓冲室、第二缓冲室与镀膜室内，实现自动化驱动基板传动。通过对第二缓冲室进行气压控制本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第一进气机构（10）包括进气总管（106）、第一进气管（101）、第一控制阀（102）和气体存储器（103），所述第一进气管（101）的一端与所述进气总管（106）连通，另一端与所述第二缓冲室（7）连通，所述气体存储器（103）设于所述第一进气管（101）上，所述气体存储器（103）用于存储所述进气总管（106）内的气体，所述第一控制阀（102）设于所述第一进气管（101）上，用于控制所述气体存储器（103）内的气体经所述第一进气管（101）通道进入所述第二缓冲室（7）。
3.根据权利要求2所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第一进气机构（10）还包括第二进气管（104）和气体流量控制器（105），所述第二进气管（104）的一端与所述第二缓冲室（7）连通，另一端与所述进气总管（106）连通，所述气体流量控制器（105）设于所述第二进气管（104）上。
4.根据权利要求1所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第二抽
5.根据权利要求4所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第二抽气机构（9）还包括第二抽气管（904）和慢抽阀门（905），所述第二抽气管（904）与所述第一驱动泵（903）和所述第二缓冲室（7）连通，所述慢抽阀门（905）设于所述第二抽气管（904）上，用于控制所述第二抽气管（904）通道的开启与关闭。
6.根据权利要求1所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第一抽气机构（6）包括第二驱动泵（601）、第三抽气管（602）和第二控制阀（603），所述第二驱动泵（601）与所述第三抽气管（602）连接，所述第三抽气管（602）与所述第一缓冲室（2）连通，所述第二控制阀（603）设于所述第三抽气管（602）上，用于控制所述第三抽气管（602）通道的开启与关闭。
7.根据权利要求1或6所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第一缓冲室（2）上还设有第二进气机构（11），所述第二进气机构（11）用于向所述第一缓冲室（2）内充入气体。
8.根据权利要求7所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第二进气机构（11）包括第三进气管（111）和第三控制阀（112），所述第三进气管（111）的一端与所述第一缓冲室（2）连通，另一端与外界连通，所述第三控制阀（112）设于所述第三进气管（111）上，用于控制所述第三进气管（111）通道的开启与关闭。
9.根据权利要求1所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第一缓冲室（2）、所述第二缓冲室（7）与所述镀膜室（1）上分别设有真空计（12）。
10.一种镀膜传动系统，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第一进气机构（10）包括进气总管（106）、第一进气管（101）、第一控制阀（102）和气体存储器（103），所述第一进气管（101）的一端与所述进气总管（106）连通，另一端与所述第二缓冲室（7）连通，所述气体存储器（103）设于所述第一进气管（101）上，所述气体存储器（103）用于存储所述进气总管（106）内的气体，所述第一控制阀（102）设于所述第一进气管（101）上，用于控制所述气体存储器（103）内的气体经所述第一进气管（101）通道进入所述第二缓冲室（7）。
3.根据权利要求2所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第一进气机构（10）还包括第二进气管（104）和气体流量控制器（105），所述第二进气管（104）的一端与所述第二缓冲室（7）连通，另一端与所述进气总管（106）连通，所述气体流量控制器（105）设于所述第二进气管（104）上。
4.根据权利要求1所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第二抽气机构（9）包括第一抽气管（901）、快抽阀门（902）和第一驱动泵（903），所述第一驱动泵（903）经所述第一抽气管（901）与所述第二缓冲室（7）连通，所述快抽阀门（902）设于所述第一抽气管（901）上，用于控制所述第一抽气管（901）通道的开启与关闭。
5.根据权利要求4所述的用于基板镀膜的传动装置，其特征在于，所述第二抽气机构（...
【专利技术属性】
技术研发人员：梅治民，席洪峰，罗治湘，俞方旭，王维维，
申请(专利权)人：龙焱能源科技杭州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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