System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 套刻误差测量方法、装置、系统及存储介质制造方法及图纸_技高网

套刻误差测量方法、装置、系统及存储介质制造方法及图纸

技术编号:39995527 阅读:9 留言:0更新日期:2024-01-09 02:43
本申请提供一种套刻误差测量方法、装置、系统及存储介质;其中方法包括分别获取当层标记和前层标记的空域信号;将空域信号采用傅里叶变换转变为频域信号;根据傅里叶变换对应功率谱得到最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数;其中最大信噪比代表优化获得目标信号与噪声的比例;分别根据当层标记和前层标记对应最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数的最大发生位置得到套刻误差。本说明书实施例通过对采样信号中噪声影响进行优化,进而通过计算最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数对应发生位置的差异得到套刻误差。无需专门设置对应的量测参数,且适用于多种不同套刻标记类型套刻误差的计算,并在可靠性和精准性也有一定提升。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体量测,具体涉及一种套刻误差测量方法、装置、系统及存储介质


技术介绍

1、随着集成电路制造工艺领域先进工艺的提升,对于过程控制的要求越来越严格,套刻标记信号的获取也会随着工艺的变化而变化,进而影响套刻量测的精度。

2、现有技术根据套刻标记求得中心后得到套刻误差,求取过程较大程度依赖于产品对应性质量、成像质量来求得中心后获得。然而由于工艺影响波动较大,测量不确定性高,导致套刻误差准确性较差。另外,还存在测量过程繁琐,或者相同参数难以适应多种套刻类型的测量等问题。

3、因此,需要一种新的套刻误差测量方案。


技术实现思路

1、有鉴于此,本说明书实施例提供一种套刻误差测量方法、装置、系统及存储介质。

2、本说明书实施例提供以下技术方案:

3、本说明书实施例提供一种套刻误差测量方法,所述套刻误差测量方法包括:

4、分别获取当层标记和前层标记的空域信号;

5、将空域信号采用傅里叶变换转变为频域信号;频域信号中包括目标信号与噪声;

6、根据傅里叶变换对应功率谱得到最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数;其中最大信噪比代表优化获得目标信号与噪声的比例;

7、根据当层标记和前层标记分别对应最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数的发生位置得到套刻误差。

8、本说明书实施例还提供一种套刻误差测量装置,所述套刻误差测量装置包括:

9、获取模块,用于分别获取当层标记和前层标记的空域信号;

10、转换模块,用于将空域信号采用傅里叶变换转变为频域信号;频域信号包括目标信号与噪声;

11、变形模块,用于根据傅里叶变换对应功率谱得到最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数;其中最大信噪比代表优化获得目标信号与噪声的比例;

12、得到模块,用于根据当层标记和前层标记分别对应最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数的发生位置得到套刻误差。

13、本说明书实施例还提供另一种套刻误差测量系统,包括:存储器、处理器以及计算机程序,所述计算机程序存储在所述存储器中,所述处理器运行所述计算机程序执行前述技术方案中的所述套刻误差测量方法。

14、本说明书实施例还提供又一种可读存储介质,所述可读存储介质中存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时用于实现前述技术方案中的所述套刻误差测量方法。

15、与现有技术相比,本说明书实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到的有益效果至少包括:

16、通过对采样信号中噪声影响进行优化,进而将优化后的采样标记信号采用傅里叶变换计算获得最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数的最大发生位置,最终获得套刻误差。无需如现有技术为不同工艺、衬底等条件的复杂信号专门设置对应的量测参数,且适用于多种不同套刻标记类型套刻误差的计算,并在可靠性和精准性也有一定提升。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种套刻误差测量方法,其特征在于,所述套刻误差测量方法包括:

2.根据权利要求1所述的套刻误差测量方法,其特征在于,根据当层标记和前层标记分别对应最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数的发生位置得到套刻误差,包括:

3.根据权利要求1所述的套刻误差测量方法,其特征在于,所述套刻误差测量方法还包括:

4.根据权利要求1所述的套刻误差测量方法,其特征在于,分别获取当层标记和前层标记的空域信号,包括:

5.根据权利要求3所述的套刻误差测量方法,其特征在于,光数字信号在预设时域上光信号不变化,获得预设时域上的空域信号,得到目标信号与噪声的信噪比,且目标信号是不变的,噪声是变化的且随机变化。

6.根据权利要求1所述的套刻误差测量方法,其特征在于,在傅里叶变换后采用实时信号和模板信号获得功率谱密度响应函数。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的套刻误差测量方法,其特征在于,获取不同类型套刻标记对应的套刻误差。

8.一种套刻误差测量装置,其特征在于,所述套刻误差测量装置包括:

9.一种套刻误差测量系统,其特征在于,包括:存储器、处理器以及计算机程序,所述计算机程序存储在所述存储器中,所述处理器运行所述计算机程序执行权利要求1-7中任一项所述套刻误差测量方法。

10.一种可读存储介质,其特征在于,所述可读存储介质中存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时用于实现权利要求1-7中任一项所述套刻误差测量方法。

...

【技术特征摘要】

1.一种套刻误差测量方法,其特征在于,所述套刻误差测量方法包括:

2.根据权利要求1所述的套刻误差测量方法,其特征在于,根据当层标记和前层标记分别对应最大信噪比时匹配功率谱密度响应函数的发生位置得到套刻误差,包括:

3.根据权利要求1所述的套刻误差测量方法,其特征在于,所述套刻误差测量方法还包括:

4.根据权利要求1所述的套刻误差测量方法,其特征在于,分别获取当层标记和前层标记的空域信号,包括:

5.根据权利要求3所述的套刻误差测量方法,其特征在于,光数字信号在预设时域上光信号不变化,获得预设时域上的空域信号,得到目标信号与噪声的信噪比,且目标信号是不变的,噪声是变化的且随机变化。

6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:张奇汤庚王志文兰天翔
申请(专利权)人:魅杰光电科技上海有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1