【技术实现步骤摘要】
本申请属于显示装置制备，尤其涉及一种掩模版组件和蒸镀装置。
技术介绍
1、在有机发光二极管(organic light-emitting diode，oled)显示面板中，通常采用蒸镀工艺形成有机发光层。掩模版组件在蒸镀工艺中充当重要角色，掩膜版组件包括支撑掩膜板(f-mask)和金属掩膜板(fmm)，在蒸镀过程中用来定义红绿蓝(rgb)子像素层，确保将材料蒸镀在规定位置。
2、在相关技术中，掩膜版组件在蒸镀前的张网过程中，金属掩膜板仅在第一方向被拉伸，在与第一方向相交叉的第二方向上容易产生局部翘曲和/或褶皱，蒸镀时掩膜版组件被吸附后，翘曲和褶皱的存在容易引起蒸镀位置的偏移，蒸镀后容易出现混色问题，影响衬底基板上蒸镀形成的膜层良率，进而影响显示面板的显示良率。尤其是针对尺寸较大的掩膜版组件，褶皱情况更加严重，严重的褶皱容易导致金属掩膜板出现折痕，导致掩膜版组件整体报废，产生一定的经济损失。
3、需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现
【技术保护点】
1.一种掩模版组件，其特征在于，所述掩模版组件包括：
2.如权利要求1所述的掩模版组件，其特征在于，所述外框架上与所述金属掩膜板沿所述第一方向的两侧相对应的区域设有所述第一磁力吸附区，以将所述金属掩膜板吸附在所述外框架上。
3.如权利要求2所述的掩模版组件，其特征在于，至少所述第二支撑板上与所述非蒸镀区沿第二方向相对应的区域设有第二磁力吸附区，以将所述金属掩膜板吸附在所述第二支撑板上，所述第二磁力吸附区的磁力强度小于所述第一磁力吸附区的磁力强度。
4.如权利要求3所述的掩模板组件掩模版组件，其特征在于，所述外框架上与所述非蒸镀区沿第...
【技术特征摘要】
1.一种掩模版组件，其特征在于，所述掩模版组件包括：
2.如权利要求1所述的掩模版组件，其特征在于，所述外框架上与所述金属掩膜板沿所述第一方向的两侧相对应的区域设有所述第一磁力吸附区，以将所述金属掩膜板吸附在所述外框架上。
3.如权利要求2所述的掩模版组件，其特征在于，至少所述第二支撑板上与所述非蒸镀区沿第二方向相对应的区域设有第二磁力吸附区，以将所述金属掩膜板吸附在所述第二支撑板上，所述第二磁力吸附区的磁力强度小于所述第一磁力吸附区的磁力强度。
4.如权利要求3所述的掩模板组件掩模版组件，其特征在于，所述外框架上与所述非蒸镀区沿第二方向相对应的区域设有所述第二磁力吸附区，以将所述金属掩膜板吸附在所述外框架上。
5.如权利要求2所述的掩模版组件，其特征在于，所述第二磁力吸附区的磁力强度由邻近所述蒸镀区向远离所述蒸镀区的方向扩大。
6.如权利要求4所述的掩模版组件，其特征在于，所述外框架、所述第一支撑板以及所述第二支撑板中的至少一处与所述蒸镀区的边角相邻近的区域设有第三磁力吸附区，所述第三磁力吸附区的形状与所述蒸镀区的所述边角结构相匹配。
7.如权利要求6所述的掩模版组件，其特征在于，所述第一磁力吸附区设有多个第一磁力吸附块，多个所述第一磁力吸附块阵列地排布或交错地排布在所...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘浩，王宇钊，沈阔，关新兴，曾琪皓，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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