【技术实现步骤摘要】
本技术的实施例一般涉及液压气动系统领域，并且更具体地，涉及一种应用于腐蚀性管路中的蓄能装置。
技术介绍
1、目前，随着在半导体制成的多样化设备中很多清洗刻蚀显影等设备的工艺很复杂，在半导体清洗剥离工艺中会应用一些具有腐蚀性化学品经过加压装置如高压泵，喷洒在晶圆表面，为保证工艺稳定性，维持管路中压力恒定，管路中常常设置有蓄能器进行压力补偿。
2、现有技术中存在的问题：首先，化学品中经常会含有一些具有腐蚀性的化学品，在蓄能器长期使用中，会对蓄能器造成腐蚀。其次现有的蓄能器常常采用弹性的气囊充斥气体，然后在使用中，弹性气囊材料多数不具备耐腐蚀性，在使用过程中会发生气囊损坏，降低其使用寿命，针对现有技术中，为了维持管路中的压力恒定，避免腐蚀性化学品腐蚀损坏蓄能器，造成其内弹性气囊损坏，造成工艺缺陷，使晶圆良率降低，影响后续晶圆性能，并影响正常使用，提高晶圆检查成本与蓄能器维修成本。
技术实现思路
1、根据本技术的实施例，提供了一种蓄能装置，解决了为了维持管路中的压力恒定，避免腐蚀性化学品腐蚀损坏蓄能器，造成其内弹性气囊损坏，造成工艺缺陷，使晶圆良率降低，影响后续晶圆性能，并影响正常使用，提高晶圆检查成本与蓄能器维修成本。
2、在本技术的，提供了一种蓄能装置。该蓄能装置包括：气缸主体，所述气缸主体内设有蓄能腔，所述蓄能腔用于气体填充；活塞主体，所述活塞主体设于所述气缸主体一侧，所述活塞主体用于连通腐蚀性物质；调节机构，所述调节机构用于调节蓄能腔腔体尺寸；所述调节机构包
3、进一步地，所述气缸主体内还包括气缸轴；所述气缸轴设置于所述蓄能腔内，所述气缸轴一侧为长轴、另一侧为短轴，所述气缸轴长轴一侧的端部设有螺纹，所述气缸轴短轴一侧的端部设有凹槽，所述气缸轴上设有挡块，所述挡块与所述气缸主体内壁紧密相抵。
4、进一步地，所述调节机构还包括：调节螺母，所述调节螺母设于所述调节主体另一侧，所述调节螺母内设有螺纹槽，所述气缸轴长轴一侧贯穿所述调节主体，与所述调节螺母通过螺纹连接，用于转动所述调节螺母带动气缸轴移动。
5、进一步地，所述活塞主体包括流体入口和流体出口；所述流体入口和流体出口设置于所述活塞主体上，所述活塞主体内设有活塞空腔，所述活塞空腔与所述流体入口和流体出口之间设有第一管道和第二管道，用于使腐蚀性物质通过流体入口流入活塞空腔，通过流体出口流出。
6、进一步地，所述活塞主体还包括活塞杆，所述活塞杆设置于所述活塞空腔内；所述活塞杆一端为连接端，另一端为受力端，所述连接端与所述凹槽滑动连接，所述受力端相抵于所述活塞空腔内壁面上，用于在通入腐蚀性物质时，所述受力端向所述连接端移动，使所述活塞杆整体位移，并推动气缸轴位移。
7、进一步地，所述活塞杆受力端一侧上依次设有垫片，活塞和锁紧螺母；所述垫片与所述活塞空腔内壁紧密相抵，用于调平所述活塞杆并保证所述活塞杆进行稳定轴向移动；所述活塞与所述活塞空腔滑动接触，用于使所述活塞杆平稳滑动；所述锁紧螺母与所述活塞杆通过螺纹连接，用于固定锁紧所述垫片和所述活塞。
8、进一步，所述活塞主体还包括排气通道；所述排气通道贯穿设置于所述活塞主体侧壁上，用于外界与所述活塞空腔连通，从而平衡活塞空腔内部气压。
9、应当理解，
技术实现思路
部分中所描述的内容并非旨在限定本技术的实施例的关键或重要特征，亦非用于限制本技术的范围。本技术的其它特征将通过以下的描述变得容易理解。
10、本技术通过通入腐蚀性物质，带动活塞杆与气缸轴轴向移动，进而增大、减小蓄能腔内的气体压力，从而达到蓄能、释放的目的。
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1.一种蓄能装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的蓄能装置，其特征在于，所述调节机构还包括：
3.根据权利要求1所述的蓄能装置，其特征在于，所述活塞杆(21)受力端一侧上依次设有垫片(22)，活塞(23)和锁紧螺母(24)；
4.根据权利要求1所述的蓄能装置，其特征在于，所述活塞主体(2)还包括排气通道(25)；
【技术特征摘要】
1.一种蓄能装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的蓄能装置，其特征在于，所述调节机构还包括：
3.根据权利要求1所述的蓄能装置，其特征在于，所述活...
【专利技术属性】
技术研发人员：王阳，魏猛，张佳男，
申请(专利权)人：芯达半导体设备苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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