一种钎焊料红外陶瓷封装结构制造技术

技术编号:39938342 阅读:5 留言:0更新日期:2024-01-08 22:21
本技术公开了一种钎焊料红外陶瓷封装结构,包括管壳,所述管壳的顶部开设有放置腔,本技术通过安装有焊料片,通过将焊料片设计成异形结构,其结构包含米字状,叉子状,及十字状多种异形态,目的是为了在规则焊料片的形态上预留空位,使其焊料片在与芯片共晶结合时,即使贴片机的加热台无法将热量定向传导,所涉及的异形焊料片在熔化的过程中也很难形成闭环空间,最大限度避免或减少气体分子残留在焊料内部,从而形成孔洞,最大限度的降低气孔率,提升产品真空度的稳定性,同时减少焊料的使用量,降低材料的使用成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及钎焊料,具体为一种钎焊料红外陶瓷封装结构


技术介绍

1、钎焊料是在对芯片的固定连接的工作中必不可少的装置之一,其能够通过高温熔化,通过氮气冷却后将芯片牢固的固定在基板的顶部,有鉴于此,传统的装置不够完善,没有便于降低焊料片的气孔率的设施,而一种钎焊料红外陶瓷封装结构能够为工作人员提供便捷。

2、专利文件cn102303197b主要公开了一种含硼的钒基合金钎焊料,“该钎焊料由以下重量百分比的原料组成:硼0.2%~6.5%,余量为钒及不可避免的杂质,所述杂质中zn、cd和pb元素的重量百分比含量均不大于0.001%。本专利技术的含硼的钒基合金钎焊料成本低,蒸汽压低,能在真空电子器件高可靠阴极环境中使用,钎焊料的熔化温度为1735℃~1900℃,钎焊温度为1760℃~1980℃,适用于ar气气氛或真空状态下钎焊难熔金属w、mo及其合金,钎焊料与难熔金属w、mo钎焊连接后,润湿性及铺展性良好,焊料的流动性好,填缝能力强,焊缝高温强度好,阴极焊接件在1000℃~1200℃真空工作条件下,钎焊料的蒸汽压低于1×10-5pa”。上述公开文献主要公开了如何能形成良好的扩散层,进一步提高焊缝的结合强度的技术问题。

3、现有的钎焊料片通常设计为片状的规则形状,如长方形和正方形,在进行钎焊料片的高温熔化工作时,由于无法做到一致的由内往外进行熔化结合,若焊料由外往内或不定向熔化,过程中就会产生部分气泡,气泡内的气体会随时间的推移缓慢释放出来,从而降低真空度,造成芯片的性能下降,不便于降低焊料片的气孔率,降低产品性能。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种钎焊料红外陶瓷封装结构,能够解决现有技术中钎焊料片高温熔化时产生气泡,产品性能低的技术问题。

2、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种钎焊料红外陶瓷封装结构,包括管壳,所述管壳的顶部开设有放置腔;

3、所述放置腔的底壁内侧通过连接部件安装有基板,所述基板的顶部安装有焊料片,所述焊料片的顶部安装有芯片,所述管壳的顶部焊接有焊料环,所述焊料环的顶部焊接有锗窗。

4、优选的,所述管壳为陶瓷材料所制造。

5、优选的,所述焊料片设计成异形结构,通过模具冲压出设计所需的异形结构,其结构包含米字状,叉子状,及十字状多种异形态。

6、优选的,所述芯片为mems芯片,工作于真空环境,一般要求真空度为一到五帕斯卡,才能保障mems产品性能。

7、优选的,所述焊料片通过高精度贴片机的加热装置进行高温熔化,高温通过管壳传导到焊料片再传导到mems芯片上,温度根据焊料片的材质所决定,温度一般在一百五十度到三百度之间,持续一到五分钟,使焊料片熔化。

8、优选的,所述焊料环通过钎焊的方式将管壳和锗窗密封连接。

9、与现有技术相比,本技术的有益效果如下:

10、1、本技术通过安装有焊料片,将焊料片设计成异形结构,其结构包含米字状,叉子状,及十字状多种异形态,目的是为了在规则焊料片的形态上预留空位,使其焊料片在与芯片共晶结合时,即使贴片机的加热台无法将热量定向传导,所涉及的异形焊料片在熔化的过程中也很难形成闭环空间,最大限度避免或减少气体分子残留在焊料内部,从而形成孔洞,最大限度的降低气孔率,提升产品真空度的稳定性,同时减少焊料的使用量,降低材料的使用成本。

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【技术保护点】

1.一种钎焊料红外陶瓷封装结构,包括管壳(1),其特征在于:所述管壳(1)的顶部开设有放置腔(2);

2.根据权利要求1所述的一种钎焊料红外陶瓷封装结构,其特征在于:所述管壳(1)为陶瓷材料所制造。

3.根据权利要求1所述的一种钎焊料红外陶瓷封装结构,其特征在于:所述焊料片(4)设计成异形结构,通过模具冲压出设计所需的异形结构,其结构包含米字状,叉子状,及十字状多种异形态。

4.根据权利要求1所述的一种钎焊料红外陶瓷封装结构,其特征在于:所述芯片(5)为MEMS芯片(5),工作于真空环境,一般要求真空度为一到五帕斯卡,才能保障MEMS芯片(5)性能。

5.根据权利要求1所述的一种钎焊料红外陶瓷封装结构,其特征在于:所述焊料片(4)通过高精度贴片机的加热装置进行高温熔化,高温通过管壳(1)传导到焊料片(4)再传导到MEMS芯片(5)上,温度根据焊料片(4)的材质所决定,温度一般在一百五十度到三百度之间,持续一到五分钟,使焊料片(4)熔化。

6.根据权利要求1所述的一种钎焊料红外陶瓷封装结构,其特征在于:所述焊料环(6)通过钎焊的方式将管壳(1)和锗窗(7)密封连接。

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【技术特征摘要】

1.一种钎焊料红外陶瓷封装结构,包括管壳(1),其特征在于:所述管壳(1)的顶部开设有放置腔(2);

2.根据权利要求1所述的一种钎焊料红外陶瓷封装结构,其特征在于:所述管壳(1)为陶瓷材料所制造。

3.根据权利要求1所述的一种钎焊料红外陶瓷封装结构,其特征在于:所述焊料片(4)设计成异形结构,通过模具冲压出设计所需的异形结构,其结构包含米字状,叉子状,及十字状多种异形态。

4.根据权利要求1所述的一种钎焊料红外陶瓷封装结构,其特征在于:所述芯片(5)为mems芯片(5),工作于...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱方元
申请(专利权)人:江苏鼎茂半导体有限公司
类型:新型
国别省市:

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