【技术实现步骤摘要】
本技术涉及led芯片，具体涉及一种晶圆片的卡塞盒的转运装置。
技术介绍
1、光刻是led芯片制程中的重要工序。led的晶圆片在光刻工艺中，需要装载卡塞盒上，经过腐蚀、光刻胶清洗以及干燥等步骤。其中，晶圆片的腐蚀步骤会使用到丙酮、boe、盐酸等有害溶液。
2、晶圆片在腐蚀后需要从腐蚀容器中转移到清洗机中，由于在转移过程中，晶圆片会携带有害溶液，有害溶液不仅会滴落到生产车间的地面，还容易挥发，严重影响了工作环境。
技术实现思路
1、本技术所要解决的技术问题是：提供一种晶圆片的卡塞盒的转运装置，避免有害溶液影响工作环境。
2、为了解决上述技术问题，本技术采用的一种技术方案为：一种晶圆片的卡塞盒的转运装置，包括本体、蓄水罐、防挥发罩和吸气机构；
3、所述本体上表面设有排水槽；所述蓄水罐设置在本体上并位于排水槽下方，并连通排水槽的槽底；
4、所述防挥发罩罩设在本体的上表面，所述防挥发罩上设有开闭门，所述吸气机构设置在防挥发罩的内壁上。
5、进一步地，所述吸气机构包括竹炭纤维板和干燥剂；所述吸气机构与防挥发罩可拆卸连接。
6、进一步地，还包括斜台，所述斜台设置在本体上表面且位于防挥发罩内，所述斜台的表面设有多个从斜台的高处往低处延伸的导水槽；所述排水槽设置在多个导水槽的底端；
7、所述斜台的表面用于放置卡塞盒。
8、进一步地，相邻的所述导水槽之间的斜台表面设有放置槽。
9、进一步地，所述
10、进一步地，所述本体上铰接有把手。
11、本技术的有益效果在于：本技术提供的晶圆片的卡塞盒的转运装置中，工作人员将装载晶圆片的卡塞盒从腐蚀容器中取出后，打开防挥发罩的开闭门，将卡塞盒放入防挥发罩内，并放在本体的上表面。
12、卡塞盒携带的有害溶液滴落到本体上表面，因为重力，有害液体自动在排水槽汇集后流到蓄水罐中。
13、有害溶液挥发的气体将在防挥发罩内被吸气机构吸收。
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1.一种晶圆片的卡塞盒的转运装置，其特征在于，包括本体、蓄水罐、防挥发罩和吸气机构；
2.根据权利要求1所述晶圆片的卡塞盒的转运装置，其特征在于，所述吸气机构包括竹炭纤维板和干燥剂；所述吸气机构与防挥发罩可拆卸连接。
3.根据权利要求1所述晶圆片的卡塞盒的转运装置，其特征在于，还包括斜台，所述斜台设置在本体上表面且位于防挥发罩内，所述斜台的表面设有多个从斜台的高处往低处延伸的导水槽；所述排水槽设置在多个导水槽的底端；
4.根据权利要求3所述晶圆片的卡塞盒的转运装置，其特征在于，相邻的所述导水槽之间的斜台表面设有放置槽。
5.根据权利要求1所述晶圆片的卡塞盒的转运装置，其特征在于，所述排水槽通过排水管与蓄水罐连通，所述排水管的端部设有外螺纹，所述排水管与蓄水罐螺纹连接。
6.根据权利要求1所述晶圆片的卡塞盒的转运装置，其特征在于，所述本体上铰接有把手。
【技术特征摘要】
1.一种晶圆片的卡塞盒的转运装置，其特征在于，包括本体、蓄水罐、防挥发罩和吸气机构；
2.根据权利要求1所述晶圆片的卡塞盒的转运装置，其特征在于，所述吸气机构包括竹炭纤维板和干燥剂；所述吸气机构与防挥发罩可拆卸连接。
3.根据权利要求1所述晶圆片的卡塞盒的转运装置，其特征在于，还包括斜台，所述斜台设置在本体上表面且位于防挥发罩内，所述斜台的表面设有多个从斜台的高处往低处延伸的导水槽；...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄章挺，郑高林，张帆，
申请(专利权)人：福建兆元光电有限公司，
类型：新型
国别省市：
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