一种耐刮光学聚酯薄膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种耐刮光学聚酯薄膜的制备方法

【技术实现步骤摘要】
一种耐刮光学聚酯薄膜的制备方法


[0001]本专利技术属于聚酯薄膜领域，涉及一种耐刮光学聚酯薄膜的制备方法
。

技术介绍

[0002]上世纪
90
年代以来，液晶显示技术得到蓬勃发展，与之相关联存在于液晶平板显示器件
‑
光学薄膜有着进一步的发展
。
光学薄膜是一种重要的光学元件，通常由薄的分层介质构成，通过界面传播光束进而实现一定光学功能
。
光学薄膜渗透在我们生活中的各个角落，如：增透膜，增亮膜，棱镜膜
、
汽车贴膜
、
窗膜
、
建筑贴膜
。
[0003]现如今，进行过表面改性的光学薄膜在堆叠搬运，甚至组装在液晶平板显示器中大部分都没有很好的耐刮伤性能，以至于划伤高清屏幕的偏光片
。
[0004]为了实现光学薄膜雾度高
、
遮蔽性强的结构，用来取代背光膜组中的扩散板，人们在基材的最表层通过干式涂覆方法
(
如沉积
、
溅射等
)
和湿式涂覆方法涂布粒子，再经过热固化或者
UV
固化来获得想要的性质
。
[0005]由于干式涂覆方法太昂贵，成本高以至于不能商业制造和销售，实际的商业使用采用湿式涂覆方法，但存在涂布粒子的大小不均一，在光学薄膜运输
、
搬运挤压过程中会造成刮伤
。
[0006]专利
CN201911349237.X<br/>公开了一种光扩散板，具体材料为中空
PMMA@SiO2光扩散剂，其利用光通过中空二氧化硅小球的表面进行无数次光折射达到光扩散的作用，同时光线可以透过这个空心二氧化硅，提高亮度和透光性
。
其使用中空二氧化硅并非为了提高耐刮性
。
专利
CN201010571903.7
公开了一种掺杂改性
SiO2溶胶
、
水溶性紫外光固化树脂
、
助剂和引发剂的紫外光固化涂料，将其应用于聚碳酸酯
(PC)
表面，用于提高
PC
表面硬度
、
耐磨
、
刮伤和热稳定性
。
不同基材性质差别较大，难以直接应用于聚脂薄膜表面
。

技术实现思路

[0007]为了解决现有技术中的技术问题，本专利技术提供了一种耐刮伤性能良好的光学聚酯薄膜的制备方法
。
[0008]本专利技术目的在于提供一种具有优异耐刮伤表面的光学聚酯薄膜，该光学聚酯薄膜具有优异的耐刮伤表面，并可有效防止划伤高清屏幕的偏光片，降低生产成本
。
[0009]本专利技术一方面提供了一种耐刮光学聚酯薄膜的制备方法，包括以下步骤：
[0010]1)
将1重量份十六烷基三甲基溴化铵
、1
‑2重量份乙酸分散于二甲苯中，在
30
‑
50℃
下加热
10
‑
40min
至澄清；再加入4‑5重量份的
SiO2纳米颗粒搅拌
、
超声至分散均匀，得到
SiO2悬浮液；将
SiO2悬浮液加热至
40
‑
80℃
，并在搅拌下缓慢滴入1‑2重量份硅烷偶联剂，最后回流6‑
24h
；将沉淀物过滤洗涤得到改性的
SiO2纳米颗粒；
[0011]2)
将得到的改性的
SiO2纳米颗粒均匀分散于二甲苯中，得到澄清的改性
SiO2悬浮液，加入
0.2
‑
0.6
重量份的过氧化二苯甲酰，在氮气氛围下加热至
20
‑
60℃
搅拌至少
30min
；将上述混合物加热至
60
‑
90℃
并持续搅拌，并滴入
20
‑
60
重量份甲基丙烯酸；经过1‑
2h
后冰
浴淬火停止聚合；产物经
6000
‑
8000r/min
离心沉淀纯化，再在丙酮溶液中纯化得到
SiO2@PMMA
纳米颗粒；
[0012]3)
将得到的
SiO2@PMMA
纳米颗粒与水性聚丙烯酸酯胶乳按质量比
(0.5
‑
1)
：1搅拌混合；然后使用涂布机涂在
100
‑
125
μ
m
光学级
PET
薄膜上，加热烘烤得到所述耐刮光学聚酯薄膜
。
[0013]其中，步骤
1)
中的洗涤是为了去除未反应的
KH
‑
570、
十六烷基三甲基溴化铵和乙酸
。
此外，在一些优选的条件下还需将在无水乙醇中洗涤纯化，得到改性的
SiO2纳米颗粒
。
[0014]作为优选，步骤
1)
中所述
SiO2纳米颗粒的平均粒径为
10
‑
30nm
，优选
20nm。
[0015]作为优选，步骤
1)
中的分散
SiO2纳米颗粒所用的搅拌转速为
300rpm、
搅拌时间至少为
30min
；所用的超声功率为
400W、
超声时间为
20min。
[0016]作为优选，步骤
1)
中的硅烷偶联剂优选
KH
‑
570。
[0017]作为优选，步骤
2)
产物在丙酮溶液中纯化的具体方法为：
[0018]沉淀物在丙酮中溶解过滤
、
旋干三次，再在
60
‑
80℃
真空干燥
12
‑
24h
后，得到
SiO2@PMMA
纳米颗粒粗产品；最后在丙酮溶液中加热回流
48
‑
72h
冷却重结晶得到
SiO2@PMMA
纳米颗粒
。
[0019]步骤
2)
中在丙酮溶液中多次分散的目的在于去除所得均聚物，并通过回流确保所得均聚物完全去除
。
[0020]作为优选，步骤
3)
中涂布机将混合物涂布3‑7μ
m
厚度在
100
‑
125
μ
m
的光学级
PET
薄膜上
。
[0021]作为优选，步骤
3)
中加热烘烤的具体条件为
60
‑
80℃...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种耐刮光学聚酯薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)
将1重量份十六烷基三甲基溴化铵
、1
‑2重量份乙酸分散于二甲苯中，在
30
‑
50℃
下加热
10
‑
40min
至澄清；再加入4‑5重量份的
SiO2纳米颗粒搅拌
、
超声至分散均匀，得到
SiO2悬浮液；将
SiO2悬浮液加热至
40
‑
80℃
，并在搅拌下缓慢滴入1‑2重量份硅烷偶联剂，最后回流6‑
24h
；将沉淀物过滤洗涤得到改性的
SiO2纳米颗粒；
2)
将得到的改性的
SiO2纳米颗粒均匀分散于二甲苯中，得到澄清的改性
SiO2悬浮液，加入
0.2
‑
0.6
重量份的过氧化二苯甲酰，在氮气氛围下加热至
20
‑
60℃
搅拌至少
30min
；将上述混合物加热至
60
‑
90℃
并持续搅拌，并滴入
20
‑
60
重量份甲基丙烯酸；经过1‑
2h
后冰浴淬火停止聚合；产物经
6000
‑
8000r/min
离心沉淀纯化，再在丙酮溶液中纯化得到
SiO2@PMMA
纳米颗粒；
3)
将得到的
SiO2@PMMA
纳米颗粒与水性聚丙烯酸酯胶乳按质量比
(0.5
‑
1)
：1搅拌混合；然后使用涂布机涂在
100
‑
125
μ
m
光学级
PET
薄膜上，加热烘烤得到所述耐刮光学聚酯薄膜
。2.
根据权利要求1所述的耐刮光学聚酯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤
1)
中所述
SiO2纳米颗粒的平均粒径为
10
‑
30nm
，优选
20nm。3.
根据权利要求1所述的耐刮光学聚酯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤

【专利技术属性】
技术研发人员：刘斌艳，曹建，沈渊，周鹏，刘彩容，徐宇，宋梦翔，
申请(专利权)人：凯鑫森上海功能性薄膜产业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：