一种哑光聚酯薄膜的制备方法技术

技术编号:40084798 阅读:32 留言:0更新日期:2024-01-23 15:17
本发明专利技术公开了一种哑光聚酯薄膜的制备方法。本发明专利技术将C981配合SiO2使用,不仅可以改善SiO2极性粉体易沉降难分散的缺点,避免存储过程中形成无法再分散的硬沉积物。此外,本发明专利技术所制备的哑光聚酯薄膜具有滑爽、抗划伤等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于聚酯薄膜领域,涉及一种哑光聚酯薄膜的制备方法


技术介绍

1、哑光型聚酯薄膜广泛应用在电器、计算机、精密仪器、香烟和酒类等的包装、影像工业、电气工业上以及用作标签、描图纸等。因此开展哑光型聚酯薄膜的研制具有广泛的市场前景和良好的经济效益。哑光薄膜具有表面光泽度低的特点,视感舒适,哑光薄膜一般由哑光聚酯母粒和主料经熔融挤出、双向拉伸制备而成,通常采用加入高浓度的添加剂的方法降低光泽度,通过增加添加剂含量的方式制造的哑光薄膜很难达到高哑度。

2、哑光聚酯薄膜产品,通常是采用加入高浓度的添加剂的方法,浓度越高,雾度越高,光泽度越低。但是,太多的添加剂含量的加入对生产、工艺以及下游企业的使用有很大影响,而且简单通过增加添加剂含量的方式制造的哑光薄膜只能达到中哑度,无法达到高哑度。

3、例如申请号为cn201010185433.0的中国专利公开了一种高透明厚型聚酯薄膜,聚酯薄膜由低结晶速率的共聚酯经双向拉伸得到,薄膜中含有纳米级、亚纳米级和微米级的添加剂。该方法虽然可以制备得到满足光学性能要求较高的薄膜,但仅限于制备厚型哑光膜(本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种哑光聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的哑光聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤3)中的涂布厚度为3-7μm;所述步骤3)中聚酯薄膜厚度为75μm。

3.根据权利要求1所述的哑光聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,所述哑光聚酯薄膜的厚度为78-82μm。

4.根据权利要求1所述的哑光聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤1)中的加热温度为70-90℃,优选80℃。

5.根据权利要求1所述的哑光聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,所述聚氨酯丙烯酸酯的具体型号为EB1290。

6.根据权利要...

【技术特征摘要】

1.一种哑光聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的哑光聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤3)中的涂布厚度为3-7μm;所述步骤3)中聚酯薄膜厚度为75μm。

3.根据权利要求1所述的哑光聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,所述哑光聚酯薄膜的厚度为78-82μm。

4.根据权利要求1所述的哑光聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤1)中的加热温度为70-90℃,优选80℃。

5.根据权利要求1所述的哑光聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,所述聚氨酯丙烯酸酯的具体型号为eb1290。

6.根据权利要求1所述的哑光聚酯...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘彩容曹建沈渊周鹏吴晶晶刘斌艳宋梦翔
申请(专利权)人:凯鑫森上海功能性薄膜产业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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