一种双抗防静电离型膜及其制备工艺制造技术

本发明专利技术涉及离型膜技术领域，具体是一种双抗防静电离型膜及其制备工艺，离型膜包括基膜、抗静电层与离型层，基膜1的两面分别设有抗静电层，抗静电层的表面设有耐磨层，至少其中一个耐磨层的表面设置离型层，在制备工艺中，耐磨层采用聚四氟乙烯制成，既可以提供耐磨特性，同时可以提高耐热特性；离型层的采用非硅离型剂，主要成分为丙烯酸酯、聚氨酯、相容剂、催化剂、稳定剂与锚固剂，本发明专利技术的离型膜通过丙烯酸酯与聚氨酯的共混反应生成，具备良好的断裂拉伸性能，并且具备良好的耐水性与耐溶剂性，避免了含硅离型膜存在的硅转移的问题，设有两层抗静电层，可以降低剥离电压，避免对物造成破坏。造成破坏。造成破坏。

【技术实现步骤摘要】
一种双抗防静电离型膜及其制备工艺


[0001]本专利技术涉及离型膜
，具体是一种双抗防静电离型膜及其制备工艺。

技术介绍

[0002]现在离型膜广泛应用于电子行业，一般会作为手机、平板电脑等电子产品的生产过程的复合模切膜材、柔性电路板的压合或电子封装脱模等，传统的离型膜一般不具有抗静电性能，但是实际的使用过程中，电磁波会对未经屏蔽的敏感性电子元件、电路板、通信设备等产生不同程度的干扰，造成数据失真、通信紊乱，而电磁感应和摩擦产生的静电对各种敏感元件、仪器仪表、某些化工产品等，如因包装薄膜静电积累产生高压放电，造成电子元件的损坏，所以离型膜的抗静电性能也是至关重要的。
[0003]现有的增加离型膜抗静电效果的方式大多是在离型层外部喷涂一层抗静电保护层，技术发展使要求也逐渐提高，需要更高的抗静电能力以防止产生静电斑纹和空气中颗粒尘埃的吸附。
[0004]因此，需要设计一种双抗防静电离型膜。

技术实现思路

[0005]为了解决上述问题，本专利技术提供的双抗防静电离型膜，设有两个抗静电层，并且所使用的离型剂为非硅离本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双抗防静电离型膜，其特征在于，所述离型膜包括基膜、抗静电层与离型层，所述基膜的两面分别设有抗静电层，所述抗静电层的表面设有耐磨层，至少其中一个所述耐磨层的表面设有离型层。2.根据权利要求1所述的一种双抗防静电离型膜，其特征在于，所述离型层的采用非硅离型剂，所述非硅离型剂的成分包括丙烯酸酯乳液、聚氨酯、相容剂、催化剂、固化剂与锚固剂，各成分的比例为：丙烯酸酯乳液为80%
‑
85%，聚氨酯4%
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15%、相容剂5%
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8%、催化剂0.5%
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1%、稳定剂2%
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3%、锚固剂3%
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5%。3.根据权利要求2所述的一种双抗防静电离型膜，其特征在于，所述相容剂为乙酸乙酯。4.根据权利要求1所述的一种双抗防静电离型膜，其特征在于，所述抗静电层的厚度至少为5μm。5.根据权利要求2所述的一种双抗防静电离型膜，其特征在于，所述催化剂为异辛酸锌。6.根据权利要求1所述的一种双抗防静电离型膜，其特征在于，所述基膜为PET膜，所述PET膜的厚度至少为10μm。7.根据权利要求1所述的一种双抗防静电离型膜，...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙刚，杨光辉，陈玉平，
申请(专利权)人：惠州市诺曼新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：