一种纳米压印模具的图像缺陷检测方法技术

本发明专利技术公开了一种纳米压印模具的图像缺陷检测方法，属于图像处理技术领域，包括以下步骤：

【技术实现步骤摘要】
一种纳米压印模具的图像缺陷检测方法


[0001]本专利技术属于图像处理
，具体涉及一种纳米压印模具的图像缺陷检测方法
。

技术介绍

[0002]纳米压印技术具有高分辨率
、
工艺过程简单
、
超低成本
、
高生产率等优点，被广泛应用于半导体等微纳制造领域
。
纳米压印技术常用的纳米压印模具在工作过程中因自身或外力影响，可能会出现缺点，例如，麻点和凹陷等，常见于模具表面
。
纳米压印模具的缺陷会进而导致加工的产品质量不过关
。
而现有纳米压印模具的图像缺陷检测方法通常采用人为观察，其不稳定且不精确
。

技术实现思路

[0003]本专利技术为了解决以上问题，提出了一种纳米压印模具的图像缺陷检测方法
。
[0004]本专利技术的技术方案是：一种纳米压印模具的图像缺陷检测方法包括以下步骤：
S1、
采集纳米压印模具的当前工作图像，并在数据库中为纳米压印模具的当前工作图像匹配标准工作图像；
S2、
对当前工作图像进行更新，得到最新工作图像；
S3、
将最新工作图像与标准工作图像进行对比，确定最新工作图像的异常区域，将最新工作图像的异常区域作为纳米压印模具的缺陷区域
。
[0005]进一步地，
S1
包括以下子步骤：
S11、
从数据库中获取若干张不存在缺陷的历史工作图像；
S12、
构建图像匹配约束条件，将所有符合图像匹配约束条件的历史工作图像作为匹配图像集合；
S13、
计算匹配图像集合中各张历史工作图像与当前工作图像的匹配相似度，将相似度最大的历史工作图像作为标准工作图像
。
[0006]上述进一步方案的有益效果是：在本专利技术中，数据库中存在多张无缺陷且当前工作图像拍摄内容相似的历史工作图像，可以用于与当前工作图像进行比对，从数据库中如何挑选最合适的历史工作图像与当前工作图像完成后续步骤的图像分析至关重要，标准工作图像的准确选择可以提高检测准确性
。
本专利技术从图像的尺寸和像素点密度等出发，确定最佳标准工作图像，提高检测效率和检测准确率
。
[0007]进一步地，
S12
中，图像匹配约束条件的表达式为：；式中，
a0表示当前工作图像的长，
b0表示当前工作图像的宽，
a
表示历史工作图像的长，
b
表示历史工作图像的宽，
M
表示当前工作图像的像素点个数，
N
表示历史工作图像的像素点个数
。
[0008]进一步地，
S13
中，匹配图像集合中历史工作图像与当前工作图像的匹配相似度
S
的计算公式为：；式中，
a0表示当前工作图像的长，
b0表示当前工作图像的宽，
a
表示历史工作图像的长，
b
表示历史工作图像的宽，
M
表示当前工作图像的像素点个数，
N
表示历史工作图像的像素点个数，
s0表示当前工作图像中单位面积的像素点个数，
s
表示历史工作图像中单位面积的像素点个数
。
[0009]进一步地，
S2
包括以下子步骤：
S21、
提取当前工作图像中各个像素点的像素值，生成像素值序列；
S22、
生成像素值序列的像素权重；
S23、
根据像素值序列的像素权重，确定最新工作图像中各个像素点的像素值
。
[0010]上述进一步方案的有益效果是：在本专利技术中，标准工作图像为纳米压印模具不存在缺陷时的图像，所以不需要进行工作系数计算，而当前工作图像可能为纳米压印模具存在缺陷时的图像，因此需对当前工作图像的像素点进行更新处理，提高图像质量，保证与标准工作图像进行对比的准确性
。
[0011]进一步地，
S22
中，像素值序列的像素权重
ω
的计算公式为：；式中，
p
k
‑1表示像素值序列中第
k
‑1个像素值，
p
k
表示像素值序列中第
k
个像素值，
p
k+1
表示像素值序列中第
k+1
个像素值，
K
表示像素值序列的像素值个数
。
[0012]进一步地，
S23
中，最新工作图像中第
j
个像素点的像素值
P
j
的计算公式为：；式中，
p
＇表示像素值序列的中位数，
p
＇＇表示像素值序列的众数，
ρ
表示最新工作图像中第
j
个像素点在当前工作图像中对应像素点的像素值
。
[0013]进一步地，
S3
包括以下子步骤：
S31、
为最新工作图像生成第一像素矩阵，为标准工作图像生成第二像素矩阵；
S32、
根据第一像素矩阵和第二像素矩阵，确定像素异常阈值；
S33、
将最新工作图像中小于像素异常阈值的像素值对应的像素点顺时针连接，作为最新工作图像的异常区域，将最新工作图像的异常区域作为纳米压印模具的缺陷区域
。
[0014]上述进一步方案的有益效果是：在本专利技术中，对最新工作图像和标准工作图像进行分块处理，第一矩形块对应左上，第二矩形块对应右上，第三矩形块对应左下，第四矩形块对应右下
。
各个矩形块的像素值均值可以反映该部分的像素情况，再对各个矩形块的像素值均值做平均运算，可以生成3×3的像素矩阵，由像素矩阵确定一个筛选异常像素点的异常阈值，可以快速确定异常区域，该异常区域对应的纳米压印模具部分即为缺点区域
。
[0015]进一步地，
S31
中，为最新工作图像生成第一像素矩阵的具体方法为：将最新工作图像均匀划分为四个矩形块，并确定各个矩形块中所有像素点的像素值均值，生成第一像
素矩阵
X
，其表达式为：；式中，
d1表示最新工作图像的第一矩形块中所有像素点的像素值均值，
d2表示最新工作图像的第二矩形块中所有像素点的像素值均值，
d3表示最新工作图像的第三矩形块中所有像素点的像素值均值，
d4表示最新工作图像的第四矩形块中所有像素点的像素值均值；
S31
中，为标准工作图像生成第二像素矩阵的具体方法为：将标准工作图像均匀划分为四个矩形块，并确定各个矩形块中所有像素点的像素值均值，生成第二像素矩阵
Y
，其表达式为：；式中，
D1表示标准工作图像的第一矩本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种纳米压印模具的图像缺陷检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、
采集纳米压印模具的当前工作图像，并在数据库中为纳米压印模具的当前工作图像匹配标准工作图像；
S2、
对当前工作图像进行更新，得到最新工作图像；
S3、
将最新工作图像与标准工作图像进行对比，确定最新工作图像的异常区域，将最新工作图像的异常区域作为纳米压印模具的缺陷区域
。2.
根据权利要求1所述的纳米压印模具的图像缺陷检测方法，其特征在于，所述
S1
包括以下子步骤：
S11、
从数据库中获取若干张不存在缺陷的历史工作图像；
S12、
构建图像匹配约束条件，将所有符合图像匹配约束条件的历史工作图像作为匹配图像集合；
S13、
计算匹配图像集合中各张历史工作图像与当前工作图像的匹配相似度，将相似度最大的历史工作图像作为标准工作图像
。3.
根据权利要求2所述的纳米压印模具的图像缺陷检测方法，其特征在于，所述
S12
中，图像匹配约束条件的表达式为：；式中，
a0表示当前工作图像的长，
b0表示当前工作图像的宽，
a
表示历史工作图像的长，
b
表示历史工作图像的宽，
M
表示当前工作图像的像素点个数，
N
表示历史工作图像的像素点个数
。4.
根据权利要求2所述的纳米压印模具的图像缺陷检测方法，其特征在于，所述
S13
中，匹配图像集合中历史工作图像与当前工作图像的匹配相似度
S
的计算公式为：；式中，
a0表示当前工作图像的长，
b0表示当前工作图像的宽，
a
表示历史工作图像的长，
b
表示历史工作图像的宽，
M
表示当前工作图像的像素点个数，
N
表示历史工作图像的像素点个数，
s0表示当前工作图像中单位面积的像素点个数，
s
表示历史工作图像中单位面积的像素点个数
。5.
根据权利要求1所述的纳米压印模具的图像缺陷检测方法，其特征在于，所述
S2
包括以下子步骤：
S21、
提取当前工作图像中各个像素点的像素值，生成像素值序列；
S22、
生成像素值序列的像素权重；
S23、
根据像素值序列的像素权重，确定最新工作图像中各个像素点的像素值
。6.
根据权利要求5所述的纳米压印模具的图像缺陷检测方法，其特征在于，所述
S22
中，像素值序列的像素权重
ω
的计算公式为：；式中，
p
k
‑1表示像素值序列中第
k
‑1个像素值，
p
k
表示像素...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，房臣，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：