一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备，属于晶圆片双面刷洗技术领域，该设备包括底座

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备


[0001]本技术属于晶圆片双面刷洗
，具体地说，涉及一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备
。

技术介绍

[0002]目前，在晶圆片的制造过程中，众所皆知的是，由已经实施过的制造操作程序所遗留在晶片表面的不必要残留必须加以清洗
。
此般的制造操作范例包括有等离子体蚀刻和化学机械抛光法
。
若不必要的残留物质和微粒在连续的制造操作过程中遗留在晶片的表面，这些残留物质和微粒将会造成如晶片表面刮伤和金属化特征间的不适当的交互作用等瑕疵
。
在一些案例中，此般瑕疵可能导致晶片上的装置变得无法运作
。
欲避免由于丢弃具有无法运作的装置的晶片而所造成的额外费用，因此，当在晶片表面上遗留不必要的残余物的制造操作程序之后，必须适当并有效率地清洗晶片
。
[0003]现有技术，专利申请号：
201320481458.4
公开了晶圆片生产工序间的双面刷洗设备，可以实现对晶圆片的双面刷洗，并配合驱动辊装置对晶圆片进行旋转，达到对晶圆片的全方位刷洗，刷洗效果好，而且工作效率高，毛刷张开机构能够将成对的刷洗轴组件分离开，取出或放下清洗的晶圆片，利用控制系统对移动喷淋装置进行控制，利用多组喷嘴对清洗过程中的晶圆片实现活性剂喷淋和纯水喷淋，自动化程度高，清洗效果好，并且在流转过程中，没有人为对晶圆片进行触碰，完全设置在一个清洗箱里进行，避免了在流转过程中对晶圆片的二次污染，另外，刷洗轴组件为可拆卸式，将刷洗轴组件的毛刷轴和卡接轴的卡接处分开，拆卸下毛刷轴，取下毛刷，就可以很方便地清洗毛刷，它实现了晶圆片表面加工过程中产生的颗粒污染物双面同步刷洗，满足晶圆片在下一道退火前工序的洁净度，代替了人工刷洗不均匀，耗时耗工，效率低和洁净度达不到要求的传统工艺
。
[0004]但是现有的双面刷洗设备的清洗结构以及出料结构较为复杂，增加了生产成本
、
使用成本以及后续的维护成本
。

技术实现思路

[0005]针对现有的双面刷洗设备的清洗结构以及出料结构较为复杂，增加了生产成本
、
使用成本以及后续的维护成本的问题，本技术提供一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备，该设备包括底座，所述的底座上端一侧滑动连接有双面清洗装置，底座上端另一侧滑动连接有侧面清洗装置，该组件配合使用可以有效解决上述问题
。
[0006]为解决上述问题，本技术采用如下的技术方案
。
[0007]一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备，包括底座，所述的底座上端一侧滑动连接有双面清洗装置，底座上端另一侧滑动连接有侧面清洗装置
。
[0008]具体地，通过双面清洗装置能够对晶圆片的上下两侧进行清洗，通过侧面清洗装置能够对晶圆片的外壁进行清洗
。
[0009]进一步地，所述的底座上端中心处及一侧设置有第二滑槽，底座上端另一侧设置
有第一滑槽，且第一滑槽和两侧第二滑槽的内壁一侧设置有通孔
。
[0010]具体地，通过第二滑槽用于安装双面清洗装置，通过第一滑槽用于安装侧面清洗装置
。
[0011]进一步地，所述的双面清洗装置包括对称的第一电机，两侧第一电机的转动端固定连接有对称的第一双向丝杆，两侧第一双向丝杆的外壁螺纹连接有对称的第一滑块，每个第一滑块的上端转动连接有第一传动轴，前后两侧的两个第一传动轴的外壁套接有第一传送带，每个第一滑块内置动力装置驱动第一传动轴转动，两侧第一传送带的上端设置有
U
型盖，
U
型盖的底部中心处设置有凸块且
U
型盖内置储存仓以及输送泵，的底部固定连接有底板，底板和凸块相对面一侧设置有多个喷头，相对面另一侧设置有棉层，且底板的一侧固定连接有传输板
。
[0012]具体地，通过两侧第一电机转动带动第一双向丝杆转动能够调节两侧第一滑块和第一传送带的间距，能够适应不同大小的晶圆片，通过输送泵将清洗剂通过喷头向晶圆片上喷洒，再通过棉层进行擦洗，能够使得清洁更加干净，通过传输板能够在晶圆片清洗后向侧面清洗装置输送
。
[0013]进一步地，所述的侧面清洗装置包括第二电机，所述的第二电机的转动端固定连接有第二双向丝杆，第二双向丝杆的外壁螺纹连接有对称的第二滑块，两侧第二滑块的上端固定连接有对称的安装板，两侧安装板上设置有对称的第三滑槽，每个第三滑槽的内部设置有两个第三滑块，每个第三滑块内置驱动装置，且两侧的多个第三滑块的相对面转动连接有第二传动轴，第三滑块内置的驱动装置能够带动第二传动轴转动，每一横向的两个第二传动轴的外壁套接有第二传送带，每个第三滑槽的内部转动连接有单向丝杆，每个单向丝杆的上端固定连接有第三电机的转动端，每个第三滑槽靠近底部的第三滑块固定在第三滑槽的内部，每个单向丝杆与每个第三滑槽内部靠近上端的第三滑块螺纹连接，每个安装板上的两个第二传送带之间的内壁上设置有擦洗层
。
[0014]具体地，通过第三电机转动能够调节每个第三滑槽内部靠近上端的第三滑块移动，以便于使用不同厚度的晶圆片，通过第二电机转动带动第二双向丝杆转动能够调整两侧安装板的间距，通过擦洗层能够对晶圆片的外壁进行擦拭清洗，每个单向丝杆与每个靠近底部的第三滑块的上端面转动连接
。
[0015]进一步地，所述的第二滑块与第一滑槽滑动连接，第二双向丝杆转动连接在第一滑槽的内部
。
[0016]进一步地，所述的第一滑块与第二滑槽的内部滑动连接，两侧第一双向丝杆转动连接在两侧第二滑槽的内部，底板活动连接在底座的上端面，且传输板朝侧面清洗装置的方向设置
。
[0017]有益效果
[0018]相比于现有技术，本技术的有益效果为：
[0019](1)
本技术中，在使用时向
U
型盖的内部加入清洗剂，启动两侧第一电机带动两侧第一双向丝杆转动将两侧第一传送带调整至能够夹持晶圆片外壁的位置，启动第二电机带动第二双向丝杆转动使得两侧擦洗层能够夹持晶圆片外壁的位置，此时使得第二传送带和第一传送带转动，将晶圆片从双面清洗装置远离侧面清洗装置一侧的两侧第一传送带内部放入，通过两侧第一传送带转动使得晶圆片向前移动，通过输送泵将清洗剂通过喷头
向晶圆片上喷洒，再通过棉层进行擦洗，能够使得清洁更加干净，清洁完成后通过传输板使得晶圆片的上下两端被第二传送带夹持并向前输送，通过擦洗层能够将晶圆片的外壁进行清洁，从另一侧输出，结构更加简单方便
。
[0020](2)
本技术中，通过第三电机转动能够调节靠近上端的第二传送带与靠近下端的第二传送带之间的距离，能够适应不同厚度的晶圆片进行输送，使得适用范围更加方便
。
附图说明
[0021]图1为本技术中一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备结构示意图；
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种晶圆片生产工序间的双面刷洗设备，其特征在于：包括底座
(1)
，所述的底座
(1)
上端一侧滑动连接有双面清洗装置
(2)
，底座
(1)
上端另一侧滑动连接有侧面清洗装置
(3)
，所述的双面清洗装置
(2)
包括对称的第一电机
(203)
，两侧第一电机
(203)
的转动端固定连接有对称的第一双向丝杆
(204)
，两侧第一双向丝杆
(204)
的外壁螺纹连接有对称的第一滑块
(207)
，每个第一滑块
(207)
的上端转动连接有第一传动轴
(206)
，前后两侧的两个第一传动轴
(206)
的外壁套接有第一传送带
(205)
，每个第一滑块
(207)
内置动力装置驱动第一传动轴
(206)
转动，两侧第一传送带
(205)
的上端设置有
U
型盖
(201)
，
U
型盖
(201)
的底部中心处设置有凸块
(202)
且
U
型盖
(201)
内置储存仓以及输送泵，
(210)
的底部固定连接有底板
(208)
，底板
(208)
和凸块
(202)
相对面一侧设置有多个喷头，相对面另一侧设置有棉层，且底板
(208)
的一侧固定连接有传输板
(209)
，所述的侧面清洗装置
(3)
包括第二电机
(301)
，所述的第二电机
(301)
的转动端固定连接有第二双向丝杆
(302)
，第二双向丝杆
(302)
的外壁螺纹连接有对称的第二滑块
(304)
，两侧第二滑块
(304)
的上端固定连接有对称的安装板
(303)
，两侧安装板
(303)
上设置有对称的第三滑槽
(305)
，每个第三滑槽
(305)
的内部设置有两个第三滑块
(307)
，每个第三滑块
(307)
内置驱动装置，且两侧的多个第三滑块
(307...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈自力，
申请(专利权)人：厦门矽晶科技有限公司，
类型：新型
国别省市：