一种曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于在半导体产品生产技术领域的曝光装置

【技术实现步骤摘要】
一种曝光装置


[0001]本技术属于在半导体产品生产
，更具体地说，是涉及一种曝光装置
。

技术介绍

[0002]本技术涉及原曝光灯的改造，现有技术中的曝光灯为水银灯，使为点状光源，光线的平行性无法达到标准，并且水银灯所照射波长
365
μ
m
光并不纯正，会掺杂不同波长的光，所以无法做出5μ
m
的线条宽度与线条间距的效果，现有技术中的结构无法满足使用要求
。
[0003]现有技术中有名称为“曝光装置
、
控制曝光装置的方法和用于曝光的对齐方法”、
公开号为“103869631A”的技术，该技术曝光装置包括：主台，被配置为调整基板的位置；光束照射单元，用于将光束照射到掩膜上；以及光束监视单元，具有相对于所述主台固定的位置，并且用于识别从所述光束照射单元发出且穿过所述掩膜中的开口以形成特定图案的光束
。
[0004]然而，该技术没有涉及本申请的技术问题和技术方案
。

技术实现思路

[0005]本技术所要解决的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种曝光装置，其特征在于：灯源（1）前方设置小透镜（2）
、
小透镜（2）前方设置第一大透镜（3），第一大透镜（3）前方设置第二大透镜（4），第二大透镜（4）前方设置第一复眼（5），第一复眼（5）前方设置第二复眼（6），所述的灯源（1）为
LED
灯
。2.
根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：所述的第一大透镜（3）和第二大透镜（4）均为凸透镜，凸透镜包括凸部（8）和凹部（9）
。3.
根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于：所述的第一大透镜（3）的凸部面向小透镜（2），第一大透镜（3）的凹部面向第二大透镜（4）
。4.
根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于：所述的第二大透镜（4）的凹部（9）面向第一大透镜（3）的凹部（9），第二大透镜（4）的凸部（8）面向第一复眼（5）
。...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨星豪，赵存根，余志辉，钟素文，袁发根，于雷铜，
申请(专利权)人：芜湖长信科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：