本实用新型专利技术提供了一种晶振监测组件和真空镀膜装置，涉及镀膜技术领域，目的是解决现有晶振组件监测待镀膜产品的尺寸单一、利用率低的问题，从而扩大晶振组件的应用范围，同时提高利用率。该晶振监测组件包括：固定件、套筒和晶振组件，所述套筒包括相对的第一端和第二端，所述固定件套设在所述套筒的第一端，所述晶振组件与所述套筒的第二端固定连接；其中，所述套筒相对所述固定件可移动，所述晶振组件可随所述套筒的移动而移动。可随所述套筒的移动而移动。可随所述套筒的移动而移动。
【技术实现步骤摘要】
一种晶振监测组件和真空镀膜装置
[0001]本技术涉及镀膜
，尤其涉及一种晶振监测组件和真空镀膜装置。
技术介绍
[0002]真空蒸发镀膜机通常采用晶振组件，监测镀膜时的膜层厚度。现有的晶振组件只能监测行星盘高度处的膜层厚度，监测待镀膜产品的尺寸单一，利用率低。
技术实现思路
[0003]本技术提供一种晶振监测组件和真空镀膜装置，目的是解决现有晶振组件监测待镀膜产品的尺寸单一、利用率低的问题，从而扩大晶振组件的应用范围，同时提高利用率。
[0004]本技术提供一种晶振监测组件，该晶振监测组件包括：固定件、套筒和晶振组件，所述套筒包括相对的第一端和第二端，所述固定件套设在所述套筒的第一端，所述晶振组件与所述套筒的第二端固定连接；其中，所述套筒相对所述固定件可移动，所述晶振组件可随所述套筒的移动而移动。
[0005]根据本技术提供的一种晶振监测组件，所述固定件包括固定法兰。
[0006]根据本技术提供的一种晶振监测组件，所述晶振监测组件还包括：监控装置；所述监控装置与所述固定法兰固定，用于检测所述晶振组件的镀膜厚度。
[0007]根据本技术提供的一种晶振监测组件，所述晶振监测组件还包括：至少一个第一密封圈；所述第一密封圈设置在所述固定法兰和所述套筒之间。
[0008]根据本技术提供的一种晶振监测组件，所述晶振监测组件还包括：密封盖、第二密封圈和冷却管；
[0009]其中，所述套筒的两端分别设置所述密封盖，所述密封盖用于与所述套筒形成封闭空间；所述第二密封圈设置在所述密封盖和所述套筒之间；至少部分所述冷却管设置在所述晶振组件的内部。
[0010]根据本技术提供的一种晶振监测组件，所述晶振监测组件还包括：振子馈线；所述晶振组件包括：晶振片；
[0011]所述振子馈线的一端，穿过设置在所述套筒的第二端的所述密封盖，与所述晶振片相连；所述振子馈线的另一端，从设置在所述套筒的第一端的所述密封盖穿出。
[0012]根据本技术提供的一种晶振监测组件，所述晶振组件包括：外壳和底座，所述外壳和所述底座相固定；
[0013]设置在所述套筒的第二端的所述密封盖与所述外壳固定。
[0014]根据本技术提供的一种晶振监测组件，所述外壳设置有过孔，所述冷却管通过所述过孔进入所述晶振组件的内部。
[0015]根据本技术提供的一种晶振监测组件，所述晶振组件还包括：晶振片；所述晶振片设置在所述底座上。
[0016]本技术还提供了一种真空镀膜装置，包括：蒸镀源、多个行星盘和上述晶振监测组件；
[0017]其中，所述晶振监测组件包括固定件、套筒和晶振组件，所述套筒包括相对的第一端和第二端，所述固定件套设在所述套筒的第一端，所述晶振组件与所述套筒的第二端固定连接；所述晶振组件相比所述套筒，靠近所述蒸镀源；所述晶振监测组件设置在相邻两个所述行星盘之间，所述晶振组件与所述行星盘的设置高度相同。
[0018]本技术提供了一种晶振监测组件和真空镀膜装置，该晶振监测组件包括：固定件、套筒和晶振组件，所述套筒包括相对的第一端和第二端，所述固定件套设在所述套筒的第一端，所述晶振组件与所述套筒的第二端固定连接；其中，所述套筒相对所述固定件可移动，所述晶振组件可随所述套筒的移动而移动。这样，包括该晶振监测组件的真空镀膜装置在镀膜时，可以根据待镀膜产品的尺寸，确定晶振组件的设置高度，然后通过移动套筒进而带动晶振组件达到相应高度，从而解决现有晶振组件监测待镀膜产品的尺寸单一、利用率低的问题，进而扩大晶振组件的应用范围，同时提高利用率。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本技术或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1是本技术提供的真空镀膜装置的结构示意图之一；
[0021]图2是本技术提供的晶振监测组件的结构示意图；
[0022]图3是本技术提供的晶振监测组件的剖视图；
[0023]图4是本技术提供的晶振组件的爆炸图；
[0024]图5是本技术提供的真空镀膜装置的结构示意图之二。
具体实施方式
[0025]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术中的附图，对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0026]在本技术的实施例中，采用“第一”、“第二”等字样对功能和作用基本相同的相同项或相似项进行区分，仅为了清楚描述本技术实施例的技术方案，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。
[0027]在本技术的实施例中，“至少一个”的含义是一个或一个以上，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0028]在本技术的实施例中，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实
用新型的限制。
[0029]真空蒸镀：简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。
[0030]目前真空蒸发镀膜机通常采用晶振组件，监测镀膜时的膜层厚度。真空蒸发镀膜机工作时，晶振组件可以根据晶振片上膜的厚度计算出被镀膜产品的膜厚度，从而精准的控制镀膜。参考图1所示，现有的晶振探头1大多采用不可调节的方法固定在某一高度，只能监控固定行星盘2高度处的膜层厚度，监测待镀膜产品的尺寸单一，利用率低；若待镀膜元件的尺寸较大，会出现无法监测的问题。图1中，坩埚3用于形成蒸镀气体，图1中的虚线表示蒸镀气体向固定行星盘2和晶振探头1蒸发的路径。
[0031]基于上述，本技术的实施例提供了一种晶振监测组件，参考图2和图3所示，包括：固定件(图2和图3中固定件包括固定法兰103)、套筒101和晶振组件102，套筒101包括相对的第一端(图3未标记)和第二端(图3未标记)，固定件套设在套筒101的第一端，晶振组件102与套筒101的第二端固定连接；其中，套筒101相对固定件103可移动，晶振组件102可随套筒101的移动而移动。
[0032]上述晶振组件与套筒的第二端固定连接，这里对于固定连接的方式不做本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种晶振监测组件，其特征在于，包括：固定件、套筒和晶振组件，所述套筒包括相对的第一端和第二端，所述固定件套设在所述套筒的第一端，所述晶振组件与所述套筒的第二端固定连接；其中，所述套筒相对所述固定件可移动，所述晶振组件可随所述套筒的移动而移动。2.根据权利要求1所述的晶振监测组件，其特征在于，所述固定件包括固定法兰。3.根据权利要求2所述的晶振监测组件，其特征在于，所述晶振监测组件还包括：监控装置；所述监控装置与所述固定法兰固定，用于检测所述晶振组件的镀膜厚度。4.根据权利要求2所述的晶振监测组件，其特征在于，所述晶振监测组件还包括：至少一个第一密封圈；所述第一密封圈设置在所述固定法兰和所述套筒之间。5.根据权利要求1所述的晶振监测组件，其特征在于，所述晶振监测组件还包括：密封盖、第二密封圈和冷却管；其中，所述套筒的两端分别设置所述密封盖，所述密封盖用于与所述套筒形成封闭空间；所述第二密封圈设置在所述密封盖和所述套筒之间；至少部分所述冷却管设置在所述晶振组件的内部。6.根据权利要求5所述的晶振监测组件，其特征在于，所述晶振监测组件还包括：振子馈线；所述晶...
【专利技术属性】
技术研发人员：曾强，冯志新，
申请(专利权)人：北京创思镀膜有限公司，
类型：新型
国别省市：
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