【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学，尤其涉及一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法及固定器件。
技术介绍
1、在光学薄膜领域，紫外波段消偏振膜的研究是一个备受关注的领域。紫外波段的消偏振膜主要用于滤除或减少紫外光的偏振效应，应用于紫外光学器件和系统中。随着光学科技的发展，紫外波段消偏振膜系的研究目前面临严峻的挑战，例如材料选择、工艺优化等问题，甚至加工的机台设备都有很严格的要求。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的问题，本专利技术实施例提供一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法及固定器件。
2、本专利技术提供一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，包括：
3、提供相同的两个三棱镜，所述三棱镜包含形状为上下两个底面，以及设置在所述两个底面之间的第一侧面、第二侧面和第三侧面；
4、在两个所述三棱镜的所述第一侧面和所述第二侧面分别镀制增透膜；
5、在一个所述三棱镜的所述第三侧面镀制消偏振膜；
6、将两个所述三棱镜的所述第三侧面进行粘接，得到消偏振膜系光学薄膜元件。
7、根据本专利技术提供的一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，所述三棱镜为直角三棱镜，所述第一侧面为第一直角面，所述第二侧面为第二直角面，所述第三侧面为斜面；
8、所述在两个所述三棱镜的所述第一侧面和所述第二侧面分别镀制增透膜，包括：
9、针对两个所述三棱镜的所述第一直角面和所述第二直角面中的任一直角面，执行以下操作：
10、在所述直角面上
11、根据本专利技术提供的一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，所述在所述直角面上依次镀制增透膜的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层，包括：
12、根据所述消偏振膜系光学薄膜元件的光学曲线指标，分别确定所述第一膜层至所述第四膜层的第一厚度；
13、按照所述第一厚度，在所述直角面上依次镀制增透膜的所述第一膜层、所述第二膜层、所述第三膜层和所述第四膜层。
14、根据本专利技术提供的一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，所述在一个所述三棱镜的所述第三侧面镀制消偏振膜，包括：
15、针对两个所述三棱镜中的任意一个所述三棱镜，在所述三棱镜的斜面上，依次镀制消偏振膜的37个膜层，所述消偏振膜的膜层材料包括三氧化二铝、五氧化二钽和二氧化硅。
16、根据本专利技术提供的一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，所述在所述三棱镜的斜面上，依次镀制消偏振膜的37个膜层，包括：
17、根据所述消偏振膜系光学薄膜元件的光学曲线指标，分别确定所述37个膜层的第二厚度；
18、按照所述第二厚度，在所述三棱镜的斜面上依次镀制所述37个膜层。
19、根据本专利技术提供的一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，所述37个膜层中的第1个膜层、第4个膜层、第7个膜层、第11个膜层、第14个膜层、第17个膜层、第20个膜层、第23个膜层、第25个膜层、第28个膜层、第31个膜层和第33个膜层的膜层材料，均为三氧化二铝；
20、所述37个膜层中的第2个膜层、第5个膜层、第8个膜层、第10个膜层、第13个膜层、第16个膜层、第19个膜层、第22个膜层、第26个膜层、第29个膜层、第32个膜层、第34个膜层和第36个膜层的膜层材料，均为五氧化二钽；
21、所述37个膜层中的第3个膜层、第6个膜层、第9个膜层、第12个膜层、第15个膜层、第18个膜层、第21个膜层、第24个膜层、第27个膜层、第30个膜层、第35个膜层和第37个膜层的膜层材料，均为二氧化硅。
22、根据本专利技术提供的一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，所述37个膜层中的第8个膜层、第9个膜层、第10个膜层、第22个膜层和第34个膜层均为敏感膜层，所述37个膜层中除第8个膜层、第9个膜层、第10个膜层、第22个膜层和第34个膜层以外的膜层均为非敏感膜层；
23、所述在所述三棱镜的斜面上，依次镀制消偏振膜的37个膜层，包括：
24、对于消偏振膜的37个膜层中的所述非敏感膜层，以第一镀膜速率在所述三棱镜的斜面上进行镀制；
25、对于消偏振膜的37个膜层中的所述敏感膜层，以第二镀膜速率在所述三棱镜的斜面上进行镀制，所述第二镀膜速率小于或等于所述第一镀膜速率的二分之一。
26、根据本专利技术提供的一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，所述在所述三棱镜的斜面上，依次镀制消偏振膜的37个膜层之前，还包括：
27、采用离子源对所述三棱镜的斜面进行刻蚀，刻蚀时长为10-15分钟；
28、保持所述三棱镜的斜面的真空度低于2*10-3pa、沉积温度为200-250℃并恒温30分钟；
29、所述在所述三棱镜的斜面上，依次镀制消偏振膜的37个膜层，包括：
30、开启所述离子源；
31、控制所述离子源的偏压为100v和放电电流为60a，在所述三棱镜的斜面上依次镀制消偏振膜的37个膜层。
32、根据本专利技术提供的一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，
33、本专利技术还提供一种固定器件，应用于固定三棱镜，所述三棱镜包含形状为上下两个底面，以及设置在所述两个底面之间的第一侧面、第二侧面和第三侧面；
34、所述固定器件包括：行星盘外廓、以及设置在所述行星盘外廓内的卡具和工件盘子；所述行星盘外廓用于承载所述卡具和所述工件盘子；所述工件盘子用于承载所述卡具；
35、所述卡具包括用于承载陪镀片的第一卡具和用于承载所述三棱镜的第二卡具；
36、所述卡具包括内壁设置有螺纹结构的固定部件和外侧设置有螺纹结构的下沉部件，所述螺纹结构用于调整所述下沉部件的下沉高度。
37、本专利技术提供的消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法及固定器件，消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法包括：提供相同的两个三棱镜，所述三棱镜包含形状为上下两个底面，以及设置在所述两个底面之间的第一侧面、第二侧面和第三侧面；在两个所述三棱镜的所述第一侧面和所述第二侧面分别镀制增透膜；在一个所述三棱镜的所述第三侧面镀制消偏振膜；将两个所述三棱镜的所述第三侧面进行粘接，得到消偏振膜系光学薄膜元件。该制备方法通过先镀制增透膜，再镀制消偏振膜，可以很好的保护消偏振膜，再将两个三棱镜进行粘接，保证了消偏振膜系光学薄膜元件的精度。
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1.一种消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，其特征在于，所述三棱镜为直角三棱镜，所述第一侧面为第一直角面，所述第二侧面为第二直角面，所述第三侧面为斜面；
3.根据权利要求2所述的消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，其特征在于，所述在所述直角面上依次镀制增透膜的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层，包括：
4.根据权利要求2所述的消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，其特征在于，所述在一个所述三棱镜的所述第三侧面镀制消偏振膜，包括：
5.根据权利要求4所述的消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，其特征在于，所述在所述三棱镜的斜面上，依次镀制消偏振膜的37个膜层，包括：
6.根据权利要求4或5所述的消偏振膜系光学薄膜元件的制备方法，其特征在于，所述37个膜层中的第1个膜层、第4个膜层、第7个膜层、第11个膜层、第14个膜层、第17个膜层、第20个膜层、第23个膜层、第25个膜层、第28个膜层、第31个膜层和第33个膜层的膜层材料，均为三氧化二铝；
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