菲涅尔透镜的处理方法技术

本发明专利技术涉及菲涅尔透镜技术领域，公开了菲涅尔透镜的处理方法

【技术实现步骤摘要】
菲涅尔透镜的处理方法、菲涅尔透镜、装置、设备及介质


[0001]本专利技术涉及菲涅尔透镜
，具体涉及菲涅尔透镜的处理方法
、
菲涅尔透镜
、
装置
、
设备及介质
。

技术介绍

[0002]菲涅尔透镜又名螺纹透镜，多是由聚烯烃材料注压而成的薄片，也有玻璃制作的，镜片表面一面为光面，另一面刻录了由小到大的同心圆，它的纹理是根据光的干涉及扰射以及相对灵敏度和接收角度要求来设计的
。
[0003]如图1所示：菲涅尔透镜的截面图为一系列的锯齿状，中心为一个凸面，菲涅尔透镜的这种结构可以将光线调整成平行光或者聚光的效果
。
目前大部分的菲涅尔透镜的制作工艺是通过机加工制作模具，在模具中注塑成型来获得菲涅尔透镜，但是由于加工机床的精度和刀具磨损等因素，菲涅尔透镜的每个锯齿顶部均不能加工成绝对的尖角，而是具有一定弧度的圆角，一般是
R0.02
～
0.05mm
的圆弧，因此菲涅尔透镜存在光效普遍低于
85
％
。
[0004]因此，亟需一种菲涅尔透镜的处理方法，能够克服上述机加工产生的圆弧缺陷，从而保证光线无法透过圆弧，来减少非有效光的干扰
。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本专利技术提供了一种菲涅尔透镜的处理方法
、
菲涅尔透镜
、
装置
、
设备及介质，以解决相关技术中由于机加工产生的圆弧缺陷造成菲涅尔透镜光效较低的问题
。
[0006]第一方面，本专利技术提供了一种菲涅尔透镜的处理方法，包括：
[0007]确定第一菲涅尔透镜的圆心位置以及所有锯齿状结构的齿半径和齿高；所述齿半径为所述锯齿状结构与圆心位置之间的距离，所述齿高为所述锯齿状结构的高度；
[0008]基于所述圆心位置以及所有锯齿状结构的齿半径和齿高，确定杂散光消除结构的打印路径；
[0009]根据所述打印路径，在菲涅尔透镜的每个锯齿状结构的弧面上形成杂散光消除结构，得到第二菲涅尔透镜
。
[0010]本专利技术提供的菲涅尔透镜的处理方法，通过圆心位置以及所有锯齿状结构的齿半径和齿高，确定杂散光消除结构的打印路径；根据打印路径在菲涅尔透镜的每个锯齿状结构的弧面上形成杂散光消除结构，得到第二菲涅尔透镜，能够在菲涅尔透镜上每个锯齿状结构的顶部弧面上打印覆盖形成杂散光消除结构，对经过所述弧面的光线进行遮挡和
/
或吸收，克服机加工产生的圆弧缺陷，从而保证光线无法透过圆弧，来减少非有效光的干扰
。
[0011]在一种可选的实施方式中，基于所述圆心位置以及所有锯齿状结构的齿半径和齿高，确定打印路径，包括：
[0012]基于所述圆心位置
、
第一锯齿状结构的第一齿半径和第一齿高，确定第一打印位置；所述第一锯齿状结构为距离圆心位置最近的锯齿状结构；
[0013]基于多个第二锯齿状结构的第二齿半径和第二齿高，确定多个第二打印位置；所
述多个第二打印位置与所述多个第二锯齿状结构一一对应；所述第二锯齿状结构为除第一锯齿状结构以外的锯齿状结构；
[0014]基于所述第一打印位置和所述多个第二打印位置，构建所述打印路径
。
[0015]本专利技术提供的菲涅尔透镜的处理方法，通过圆心位置
、
第一锯齿状结构的第一齿半径和第一齿高，确定第一打印位置，以及基于多个第二锯齿状结构的第二齿半径和第二齿高，确定多个第二打印位置；通过第一打印位置和多个第二打印位置，能够通过构建打印路径来保证对菲涅尔透镜上的所有锯齿状结构的顶部弧面均进行杂散光消除结构的打印覆盖，保证了光线几乎无法透过圆弧，来减少非有效光的干扰，增加菲涅尔透镜在光学上的应用性能
。
[0016]在一种可选的实施方式中，基于所述圆心位置
、
第一锯齿状结构的第一齿半径和第一齿高，确定第一打印位置，包括：
[0017]基于所述圆心位置以及第一锯齿状结构的第一齿半径，确定第一平面位置；
[0018]基于所述第一平面位置，以及所述第一锯齿状结构的第一齿高，确定所述第一打印位置
。
[0019]在一种可选的实施方式中，基于多个第二锯齿状结构的第二齿半径和第二齿高，确定多个第二打印位置，包括：
[0020]基于预设直线以及每个第二锯齿状结构的第二齿半径，确定每个第二打印位置的第二平面位置；所述预设直线由所述圆心位置和所述第一平面位置确定；
[0021]基于多个第二平面位置，以及与多个第二锯齿状结构的第二齿高，确定多个第二打印位置；其中，每个第二打印位置由对应的第二平面位置和对应的第二锯齿状结构的第二齿高确定
。
[0022]在一种可选的实施方式中，基于多个第二锯齿状结构的第二齿半径和第二齿高，确定多个第二打印位置，包括：
[0023]基于第一锯齿状结构和多个第二锯齿状结构构建锯齿状结构集合，其中，所述锯齿状结构集合中的锯齿状结构按照齿半径由小到大排列；
[0024]确定所述锯齿状结构集合中每两个相邻锯齿状结构的齿间距，并基于多个齿间距构建齿间距集合；
[0025]根据第一平面位置，以及前
N
个齿间距之和，确定第
N
个第二平面位置；
[0026]基于多个第二平面位置，以及与多个第二锯齿状结构的第二齿高，确定多个第二打印位置；其中，每个第二打印位置由对应的第二平面位置和对应的第二锯齿状结构的第二齿高确定
。
[0027]在一种可选的实施方式中，所述杂散光消除结构为材料为聚氨酯丙烯酸的不透光膜层，所述不透光膜层的厚度
X
范围为5μ
m≤X≤20
μ
m。
[0028]在一种可选的实施方式中，所述不透光膜层的光密度
Y
范围为
Y≥3。
[0029]第二方面，本专利技术提供了一种菲涅尔透镜，所述菲涅尔透镜为第一方面中所述的第二菲涅尔透镜；所述菲涅尔透镜的至少一面具有多个锯齿状结构；
[0030]所述锯齿状结构包括入光面
、
侧面以及连接所述入光面和所述侧面的弧面；
[0031]所述菲涅尔透镜还包括覆盖在所述弧面上的杂散光消除结构；
[0032]所述杂散光消除结构被配置为将经过所述弧面的光线进行遮挡和
/
或吸收
。
[0033]本专利技术提供的菲涅尔透镜，通过在菲涅尔透镜上每个锯齿状结构的顶部弧面上打印覆盖形成杂散光消除结构，能够对经过所述弧面的光线进行遮挡和
/
或吸收，能够克服机加工产生的圆弧缺陷，从而保证光线无法透过圆弧，来减少非有效光的干扰
。
[0034]在一种可选的实施方式中，所述杂散光消除结构的横截面呈环形
。
[0035]本专利技术提供本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种菲涅尔透镜的处理方法，其特征在于，所述方法包括：确定第一菲涅尔透镜的圆心位置以及所有锯齿状结构的齿半径和齿高；所述齿半径为所述锯齿状结构与圆心位置之间的距离，所述齿高为所述锯齿状结构的高度；基于所述圆心位置以及所有锯齿状结构的齿半径和齿高，确定杂散光消除结构的打印路径；根据所述打印路径，在菲涅尔透镜的每个锯齿状结构的弧面上形成杂散光消除结构，得到第二菲涅尔透镜
。2.
根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述圆心位置以及所有锯齿状结构的齿半径和齿高，确定打印路径，包括：基于所述圆心位置
、
第一锯齿状结构的第一齿半径和第一齿高，确定第一打印位置；所述第一锯齿状结构为距离圆心位置最近的锯齿状结构；基于多个第二锯齿状结构的第二齿半径和第二齿高，确定多个第二打印位置；所述多个第二打印位置与所述多个第二锯齿状结构一一对应；所述第二锯齿状结构为除第一锯齿状结构以外的锯齿状结构；基于所述第一打印位置和所述多个第二打印位置，构建所述打印路径
。3.
根据权利要求2所述的方法，其特征在于，基于所述圆心位置
、
第一锯齿状结构的第一齿半径和第一齿高，确定第一打印位置，包括：基于所述圆心位置以及第一锯齿状结构的第一齿半径，确定第一平面位置；基于所述第一平面位置，以及所述第一锯齿状结构的第一齿高，确定所述第一打印位置
。4.
根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，基于多个第二锯齿状结构的第二齿半径和第二齿高，确定多个第二打印位置，包括：基于预设直线以及每个第二锯齿状结构的第二齿半径，确定每个第二打印位置的第二平面位置；所述预设直线由所述圆心位置和第一平面位置确定；基于多个第二平面位置，以及与多个第二锯齿状结构的第二齿高，确定多个第二打印位置；其中，每个第二打印位置由对应的第二平面位置和对应的第二锯齿状结构的第二齿高确定
。5.
根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，基于多个第二锯齿状结构的第二齿半径和第二齿高，确定多个第二打印位置，包括：基于第一锯齿状结构和多个第二锯齿状结构构建锯齿状结构集合，其中，所述锯齿状结构集合中的锯齿状结构按照齿半径由小到大排列；确定所述锯齿状结构集合中每两个相邻锯齿状结构的齿间距，并基于多个齿间距构建齿间距集合；根据第一平面位置，以及前
...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦烯皓，曹方义，曹航超，李诗卉，苏东东，
申请(专利权)人：芯体素杭州科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：