【技术实现步骤摘要】
智能基板
[0001]本技术与半导体制程使用的基板有关,特别是指一种智能基板
。
技术介绍
[0002]高功率元件例如应用在高频功率的氮化镓高电子迁移率晶体管
(GaN HEMTs)
或者氮化镓萧特基二极管
(GaN Schottky barrier Diode)
,抑或是蓝光激光磊晶结构,制造过程中磊晶所使用的基板材质主要为单晶硅
(Si)、
单晶碳化硅
(SiC)
或单晶蓝宝石
(Sapphire)
,这些传统材质基板中,硅与氮化镓的晶格常数与热膨胀系数的差异大
(17
%与
54
%
)
,容易让氮化镓产生缺陷,甚至破裂,蓝宝石的散热性不佳,只有单晶碳化硅的晶格常数不匹配度较低且导热性较佳,为磊晶品质较佳的选择,然而,单晶碳化硅基板的价格非常高,特别是高频功率应用的碳化硅磊晶基板必须为半绝缘,以6吋晶圆为例其价格约为硅基板的
50
倍,因此,业界长期以来有寻找替代方案的需求
。
技术实现思路
[0003]本技术的一目的在于提供一种智能基板,可于其上形成三族氮化物磊晶或半导体元件后转植到其他载板,相较碳化硅基板可大幅降低成本
。
[0004]为了达成上述目的,本技术的智能基板由一单晶板体
、
一剥离层与一接合层所组成,其中,该剥离层的材质是二维材料且沉积于该单晶板体的表面,该剥离层包含有多个二维材料的单层,该接合 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种智能基板,其特征在于,由一单晶板体
、
一剥离层与一接合层所组成,其中,该剥离层的材质是二维材料且沉积于该单晶板体的表面,该剥离层包含有多个二维材料的单层,该接合层的材质是三族氮化物且沉积于该剥离层的表面
。2.
根据权利要求1所述的智能基板,其特征在于,该二维材料为烯族
、
硫属化合物或二维氧化物
。3.
根据权利要求1所述的智能基板,其特征在于,该二维材料是为过渡金属硫属化合物
MX2,其中
M
为过渡金属原子锰
、
钼
、
铬
、
钛
、
钒
、
锆
、
铌
、
锝
、
钽
、
铪
、
钨或铼,
X
为硫族原子硒
、
硫或碲
。4.
根据权利要求3所述的智能基板,其特征在于,该过渡金属硫...
【专利技术属性】
技术研发人员:何焱腾,陈乃榕,
申请(专利权)人:瑞砻科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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