一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置，包括：耦合棱镜；在耦合棱镜表面蒸镀的金属层；在金属层表面涂覆的传感介质层；形变布拉格反射镜；ＣＣＤ传感器；以及在ＣＣＤ传感器表面涂覆的荧光物质层。宽谱传感光束通过耦合棱镜后，特定波长与棱镜表面金属层发生表面等离子体模式共振，金属层表面介质折射率会对表面等离子体共振波长调制，不同介质折射率对应不同的波长表面等离子体耦合，通过棱镜的传感光束反射光谱由形变布拉格反射镜分光反射至ＣＣＤ探测器上，利用ＣＣＤ探测器不同位置对应波长光谱强度变化探测特定波长的表面等离子体共振光吸收，达到探测棱镜上金属表面介质折射率变化的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在表面等离子体光学传感和生物传感
，特别是 涉及一种利用 光谱强度变化检测介质折射率变化的装置。
技术介绍
表面等离子波是在金属表面存在的自由振动的电子与光子相互作用产生的沿着 金属表面传播的电子疏密波。表面等离子体波在金属_介质表面传输时，它的倏逝波场在 介质中具有一定穿透深度。当介质的折射率出现扰动，表面等离子体的传播常数会发生变 化，表面等离子体共振传感器就是通过测量传播常数的变化来检测折射率的变化。表面等 离子体波的传播常数的变化可以通过检测与表面等离子体耦合的输入光的特性变化来体 现。表面等离子体传感作为一种光学传感技术，无需进行样品标记、能够实时监测生物分子 之间相互作用，近年来发展迅速，成为生物分子检测的有利工具。该检测方法样品用量少， 灵敏度高，抗干扰能力强，在核酸杂交、遗传病诊断、基因突变研究及微生物检测等领域得 到广泛的应用。根据检测光波的特性的不同，常见的表面等离子体传感器可以分为角度调制传感 器，波长调制传感器，强度调制传感器，相位调制传感器，偏振调制传感器五种类型。其中比 较常见是角度调制传感器和波长调制传感器。表面等离子体波激发需要特定条件，真空中光波矢量小于表面等离子体波矢量， 光波可以通过棱镜表面全反射增加光波波矢量，使入射光波矢量与表面等离子体波波矢量 匹配，以棱镜耦合方式激发金属表面等离子体波。表面等离子体波共振激发后，由于入射光 波与表面等离子体波模式耦合，发生全反射的入射光波反射率会大大降低。传感金属层表 面介质折射变化会导致表面等离子体波矢量变化，此时入射光波需要调整入射角度或者波 长使棱镜耦合光波矢量与表面等离子体波矢量匹配，才能达到共振激发表面等离子体波的 目的。通过检测不同入射角度或不同波长的入射光波的反射率变化即可得到表面等离子体 波共振状态变化，通过这一变化可以监测金属表面介质折射率的细微扰动，达到传感目的。常规角度调制表面等离子体传感器传感光源采用单色光源或激光光源，改变入射 光全反射角，检测反射率对于全反射角度的变化，监测金属表面介质折射率变化。探测过程 中需要改变探测光源入射角度，需要精确控制光路变化，对角度控制和样品定位设备精度 要求较高。表面等离子体波长调制传感通常使用宽谱光源，经过棱镜全反射后利用光谱仪 分析反射光谱强度变化得到相应入射光波对金属表面等离子体波共振响应，设备复杂。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术针对上述表面等离子体传感技术不足，提供了一种利用光谱强度变化检测 介质折射率变化的装置，该装置使用形变布拉格反射镜作为光波检测信号的分光装置，反 射光波经过形变布拉格反射镜分光入射至CCD传感器，通过CCD传感器实时监测反射光谱强度变化，达到检测金属表面介质折射率变化目的。( 二 )技术方案为达到上述目的，本专利技术提供了一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置，该装置包括耦合棱镜1 ；在耦合棱镜1表面蒸镀的金属层2 ；在金属层2表面涂覆的传感介质层3 ；形变布拉格反射镜4;CCD传感器5;以及在CXD传感器5表面涂覆的荧光物质层6 ；其中，平行入射光波a经过所述耦合棱镜1入射至所述金属层2发生表面等离子 体谐振耦合，并变为表面等离子体耦合反射光波b ；反射光波b入射至所述形变布拉格反射 镜4，被所述形变布拉格反射镜4反射，形成传感光波c ；传感光波c入射至所述CCD传感器 5表面的荧光物质层6 ；荧光物质层6被激发后由所述CCD传感器5检测荧光强度；发生表 面等离子体耦合的波长在CCD传感器5相应位置体现为暗条纹，通过检测暗条纹位置即可 监测表面等离子体耦合波长，实现对介质折射率变化的检测。上述方案中，所述金属层2采用厚度为40nm的金。上述方案中，所述传感介质层3为经过生物修饰的抗体抗原或其待测溶液。上述方案中，所述形变布拉格反射镜4采用倾斜镀膜技术制作，在离子束溅射介 质膜同时依次按照固顶角度改变衬底与反应室托盘夹角，由于溅射区域与溅射源位置不 同，得到厚度逐渐变化的多层薄膜，形成形变布拉格反射镜4。上述方案中，所述形变布拉格反射镜4通过多层介质薄膜叠加制作，使用厚度均 勻变化介质薄膜按照相同的厚度变化方向周期性堆叠而成。 上述方案中，所述形变布拉格反射镜4，对应传感波长位置单层介质膜厚度为传感 光波波长的四分之一，对此波长形成全反射；由于介质膜厚度均勻变化，在形变布拉格反射 镜表面不同位置对应不同波长形成全反射，其他波长成分完全透过布拉格反射镜。上述方案中，所述平行入射光波a是波长为800nm-900nm宽谱光源，则与该平行入 射光波a对应的形变布拉格反射镜4介质膜厚度变化区域为200nm至225nm范围。上述方案中，所述形变布拉格反射镜4对耦合棱镜1反射的反射光波b分光，得到 的传感光波c按照波长顺序入射至所述CCD传感器5的不同位置，发生表面等离子体共振 的波长光谱强度由于能量为最低；通过检测入射至所述CCD传感器5表面不同位置光谱，能 够得到发生表面等离子体共振的光波的波长，通过检测表面等离子体共振波长的变化监控 传感介质折射率的变化。上述方案中，所述荧光物质层6通过所述CCD传感器5监测传感光波激发不同位 置的荧光物质发光而检测共振波长变化。(三)有益效果本专利技术提供的利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置，使用形变布拉格反 射镜结合表面等离子体耦合进行波长调制传感，传感光波直接被形变布拉格反射镜分光， 利用CCD传感器直接检测形变布拉格反射镜不同位置对应波长光谱强度变化。传感光路简单，检测不需使用光谱仪等设备，检测方式简化。可以直观实时地通过CCD传感器检测点信 号强度变化检测传感介质折射率微小扰动，具有较高的灵敏度。另外，检测波长范围存在变 化时，可以改变入射至形变布拉格反射镜光波位置，利用形变布拉格反射镜不同的厚度区 域进行传感，波长调制传感范围灵活可控。附图说明图1为本专利技术提供的利用光谱强度变化检测介质折射率变化装置的示意图；其中1耦合棱镜2金属层3传感介质层4形变布拉格反射镜5CCD 传感器6荧光物质层a平行入射光波b表面等离子体耦合的反射光波c布拉格反射镜反射的传感光波具体实施例方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照 附图，对本专利技术进一步详细说明。如图1所示，图1为本专利技术提供的利用光谱强度变化检测介质折射率变化装置的 示意图，该装置包括耦合棱镜1 ；在耦合棱镜1表面蒸镀的金属层2 ；在金属层2表面涂覆的传感介质层3 ；形变布拉格反射镜4 ；CCD传感器5 ；以及在CXD传感器5表面涂覆的荧光物质层6 ；其中，平行入射光波a经过所述耦合棱镜1入射至所述金属层2发生表面等离子 体谐振耦合，并变为表面等离子体耦合反射光波b ；反射光波b入射至所述形变布拉格反射 镜4，被所述形变布拉格反射镜4反射，形成传感光波c ；传感光波c入射至所述CCD传感器 5表面的荧光物质层6 ；荧光物质层6被激发后由所述CCD传感器5检测荧光强度；发生表 面等离子体耦合的波长在CCD传感器5相应位置体现为暗条纹，通过检测暗条纹位置即可 监测表面等离子体耦合波长，实现对介质折射率变化的检测。金属层2采用厚度为40nm的金。传感介质层3为经过生物修饰的抗体抗原或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置，其特征在于，该装置包括：耦合棱镜（１）；在耦合棱镜（１）表面蒸镀的金属层（２）；在金属层（２）表面涂覆的传感介质层（３）；形变布拉格反射镜（４）；ＣＣＤ传感器（５）；以及在ＣＣＤ传感器（５）表面涂覆的荧光物质层（６）；其中，平行入射光波ａ经过所述耦合棱镜（１）入射至所述金属层（２）发生表面等离子体谐振耦合，并变为表面等离子体耦合反射光波ｂ；反射光波ｂ入射至所述形变布拉格反射镜（４），被所述形变布拉格反射镜（４）反射，形成传感光波ｃ；传感光波ｃ入射至所述ＣＣＤ传感器（５）表面的荧光物质层（６）；荧光物质层（６）被激发后由所述ＣＣＤ传感器（５）检测荧光光谱强度；发生表面等离子体耦合的波长在ＣＣＤ传感器（５）相应位置体现为暗条纹，通过检测暗条纹位置即可监测表面等离子体耦合波长，实现对介质折射率变化的检测。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘宏伟，阚强，王春霞，陈弘达，
申请(专利权)人：中国科学院半导体研究所，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]