一种吸附膜及其制备方法和包含其的抛光头技术

本发明专利技术提供一种吸附膜及其制备方法和包含其的抛光头，所述吸附膜包括膜本体以及设置在所述膜本体上的聚对二甲苯涂层；所述膜本体的材质为硅胶复合材料

【技术实现步骤摘要】
一种吸附膜及其制备方法和包含其的抛光头


[0001]本专利技术涉及抛光用具
，尤其涉及一种吸附膜及其制备方法和包含其的抛光头
。

技术介绍

[0002]吸附膜是用于抛光头上硅胶复合材料形成的吸附膜，在
CMP(Chemical Mechanical Polish
，化学机械研磨
)
组头中作用是吸附晶圆和分区对晶圆施加不同压力
。
[0003]比如
CN113183009A
公开了一种电子显示屏减薄抛光用吸附垫及其制备方法，其公开了抛光用吸附垫包括吸附垫安装体，所述吸附垫安装体的上表面开设有第一凹槽，第一凹槽的下端设置有第二凹槽，第二凹槽内连接有吸附垫主体，吸附垫安装体的四角上对称开设有收纳槽，收纳槽内活动连接有安装块，收纳槽的上端开设有螺纹孔，螺纹孔与安装块啮合
。
本专利技术提出的一种电子显示屏减薄抛光用吸附垫及其制备方法，抛光垫采用吸附垫安装体和吸附垫主体组成，吸附垫安装体上安装有安装块，用于固定吸附垫安装体，同时设置有密封板，移动密封板能够实现第一泄压孔的开启和密封，吸附垫主体上设置有吸附膜层，吸附膜层内产生负压，从而对显示屏进行吸附
。
[0004]以上表明，吸附膜在抛光过程中极易损坏，如何保护吸附膜不受环境的腐蚀并延长使用寿命十分关键
。

技术实现思路

[0005]鉴于现有技术中存在的问题，本专利技术提供一种吸附膜及其制备方法和包含其的抛光头，通过选择特定的吸附膜材质，并在该硅胶复合材料上涂覆聚对二甲苯涂层，起到了较佳的保护吸附膜不受环境的腐蚀和延长使用寿命的效果
。
[0006]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0007]第一方面，本专利技术提供一种吸附膜，所述吸附膜包括膜本体以及设置在所述膜本体上的聚对二甲苯涂层；所述膜本体的材质为硅胶复合材料
。
[0008]本专利技术提供的吸附膜为硅胶复合材料，其材质本身具有低硬度和高塑性，尽管相较于常规吸附膜材质已经能够延长吸附膜的使用寿命，但其疏水性能较弱，容易吸附杂质对吸附膜造成腐蚀，而且由于硅胶本身具有一定的粘性，倒是其在装配时难以与陶瓷环匹配
。
因此本专利技术通过在膜本体上设置聚对二甲苯涂层，所得吸附膜的硬度
、
断裂强度
、
撕裂强度显著提升，接触角显著降低，表面疏水性显著提升，有利于提升吸附膜的寿命以及与陶瓷环匹配的能力
。
[0009]优选地，所述硅胶复合材料的组分按质量份数包括：第一硅橡胶
26
‑
32
份，第二硅橡胶
64
‑
80
份，硫化剂
1.2
‑
2.5
份
。
[0010]其中，第一硅橡胶
26
‑
32
份，例如可以是
26
份
、27
份
、28
份
、29
份
、30
份
、31
份或
32
份等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用
。
[0011]第二硅橡胶
64
‑
80
份，例如可以是
64
份
、65
份
、68
份
、70
份
、71
份
、72
份
、75
份
、78
份或
80
份等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用
。
[0012]硫化剂
1.5
‑
2.5
份，例如可以是
1.5
份
、1.6
份
、1.7
份
、1.8
份
、1.9
份
、2.0
份
、2.2
份
、2.4
份或
2.5
份等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用
。
[0013]优选地，所述第一硅橡胶与第二硅橡胶的质量比为
1:(2.4
‑
3.1)
，例如可以是
1:2.4、1:2.5、1:2.8
或
1:3.1
等，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用
。
[0014]所述第一硅橡胶与第二硅橡胶的质量比在合理范围内，可以获得力学性能较好的硅胶复合材料，比例过低或过高，制得硅胶复合材料的硬度
、
断裂伸长率
、
断裂强度以及撕裂强度等性能有所下降
。
[0015]优选地，所述第一硅橡胶的型号为
TSE260
‑
3U
，第二硅橡胶的型号为
TSE260
‑
5U。
[0016]本专利技术提供通过调整合理的原料配比，选择的硅胶复合材料具有较低的硬度与较高的塑性，力学性能较市售的硅胶复合材料优异，进而使得形成背膜具有较强的吸附力和分区保压能力，使用寿命显著延长
。
[0017]优选地，所述硫化剂包括双二五硫化剂和
/
或双二四硫化剂
。
[0018]优选地，所述硅胶复合材料的制备方法包括如下步骤：
[0019]A.
在混料机中按配方量均匀混合第一硅橡胶与第二硅橡胶，然后加入硫化剂继续混合均匀，得到混合料；
[0020]B.
步骤
A
所得混合料依次在
150
～
180℃、5
～
10MPa
下的硫化机中第一硫化处理2～
10min、160
～
230℃
下的烘箱中第二硫化处理4～
8h
，然后冷却至室温，得到所述硅胶复合材料
。
[0021]本专利技术采用二次硫化的方法，对混合料进行硫化处理，可以稳固一次硫化，并加速小分子的挥发，搭配合理的硫化工艺参数，使得硅胶复合材料的力学性能有所提高
。
[0022]优选地，所述聚对二甲苯涂层的厚度为1～3μ
m
，例如可以是1μ
m、1.3
μ
m、1.5
μ
m、1.7
μ
m、1.9
μ
m、2.2
μ
m、2.4
μ
m、2.6
μ
m、2.8
μ
m
或3μ
m
等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用
。
[0023]本专利技术中聚对二甲苯涂层的厚度对于最终吸附膜的性能影本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种吸附膜，其特征在于，所述吸附膜包括膜本体以及设置在所述膜本体上的聚对二甲苯涂层；所述膜本体的材质为硅胶复合材料
。2.
根据权利要求1所述的吸附膜，其特征在于，所述硅胶复合材料的组分按质量份数包括：第一硅橡胶
26
‑
32
份，第二硅橡胶
64
‑
80
份，硫化剂
1.2
‑
2.5
份；优选地，所述硫化剂包括双二五硫化剂和
/
或双二四硫化剂
。3.
根据权利要求1或2所述的吸附膜，其特征在于，所述聚对二甲苯涂层的厚度为1～3μ
m
；优选地，所述聚对二甲苯涂层的硬度为邵氏
43A
以上；优选地，所述聚对二甲苯涂层的数均分子量为
650
～
750W
；优选地，所述聚对二甲苯涂层的断裂伸长率在
660
～
680
％；优选地，所述聚对二甲苯涂层的撕裂强度为
34
～
36N/mm
；优选地，所述聚对二甲苯涂层与水接触的接触角为
105
～
115
°
。4.
一种根据权利要求1～3任一项所述的吸附膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：
(1)
吸附膜的膜本体经清洗，得到清洗后膜本体；
(2)
利用化学气相沉积在所述清洗后膜本体上沉积聚对二甲苯层，得到所述吸附膜
。5.
根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤
(1)
中所述清洗包括依次进行的乙醇洗
、
干燥和等离子体清洗；优选地，所述乙醇洗包括用乙醇擦拭所述膜本体；优选地，所述干燥包括烘干；优选地，所述干燥的温度为
50
～
70℃
；优选地，所述干燥的时间为
50
～
70min
；优选地，所述等离子体清洗的时间为
120
～
240s。6.
根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤
(2)
中所述化学气相沉积包括：聚对二甲苯置于化学气相沉积的料仓内，膜本体置于腔体内的转台上，控制聚对二甲苯的沉积速率，进行化学气相沉积；优选地，所述聚对二甲苯的沉积速率为
7.
根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述化学气相沉积的温度控制包括：打开冷阱部件和抽真空系统；打开裂解室的加热系统；当裂解室的温度上升至第一温度时，打开转台
、
料仓门及蒸发室加热，并控制蒸发室的温度小于第二温度；当料仓门的温度上升至第三温度时，蒸发室的温度升至第四温度，此时真空度达标，进行化学气相沉积；优选地，所述第一温度为
600
～
...

【专利技术属性】
技术研发人员：惠宏业，姚力军，查得志，脱博，左威，赵梓聿，柏钧天，
申请(专利权)人：宁波润平电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：