喷淋板组件及薄膜沉积设备制造技术

本发明专利技术提供了喷淋板组件及薄膜沉积设备

【技术实现步骤摘要】
喷淋板组件及薄膜沉积设备


[0001]本专利技术涉及半导体加工领域，尤其涉及薄膜沉积设备
。

技术介绍

[0002]在半导体的加工过程中，例如薄膜沉积工艺，会采用喷淋板喷淋气体至待加工的半导体表面，在喷淋板内部的喷淋腔室中，如何增强腔室内部气体流动的均匀性，对提升产品的工艺加工质量至关重要
。
[0003]通常，气体管路通到喷淋组件的过程中，气体是从中间慢慢扩散至边缘，由此导致目标薄膜的厚度呈阶梯状，厚度均匀性差，一般表现为中间厚，边缘薄，这会影响产品良率，甚至导致产品异常
。
[0004]因此，亟需一种能改善薄膜沉积均匀性的喷淋板组件
。

技术实现思路

[0005]为了改善薄膜沉积设备在薄膜沉积过程中反应气体流动不均匀
、
成膜不均匀的问题，本专利技术提供了一种喷淋板组件
。
[0006]该喷淋板组件包括喷淋板和上盖板
。
该上盖板位于该喷淋板上方，该上盖板的中心具有进气口，该上盖板上呈放射状自该进气口延径向设置有多排通气单元，该多本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种喷淋板组件，其特征在于，包括：喷淋板；上盖板，该上盖板位于该喷淋板上方，该上盖板的中心具有进气口，该上盖板上呈放射状自该进气口延径向设置有多排通气单元，该多排通气单元的下部贯穿该上盖板的下表面，朝向该喷淋板的上部通气
。2.
如权利要求1所述的喷淋板组件，其特征在于，该多排通气单元中的每排通气单元包括一个导管和多个圆管，该导管的轴向为延该上盖板的径向方向设置，该导管的靠该上盖板的中心方向的一端与该进气口连通，另一端封口；该多个圆管并排设置，该多个圆管的轴向与该导管的轴向垂直，每个圆管的上端均与该导管连通，下端贯穿该上盖板的底部，该多个圆管的孔径由中心向该上盖板的圆周方向逐渐增大
。3.
如权利要求2所述的喷淋板组件，其特征在于，该进气口与一进气管路的下部连通，该进气管路的下部的侧面设有多个通孔，分别与该导管连通
。4.
如权利要求1所述的喷淋板组件，其特征在于，该喷淋板上分布多圈水滴形喷淋孔
。5.
如权利要求4所述的喷淋板组件，其特征在于，该喷淋孔内圈孔数少于外圈，且该喷淋板上的喷淋孔整体呈旋流式排布
。6.
如权利要求4所述的喷淋板组件，其特征在于，该水滴形的尖部朝向该喷淋板的中心方向
。7.
一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括：进气管路
、
喷淋板组件
...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏薇，张赛谦，王婷，刘肖朦，
申请(专利权)人：拓荆创益沈阳半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：