一种真空镀膜设备制造技术

本发明专利技术是真空镀膜设备，包括一端设可开闭外腔前门的真空外腔，为镀膜过程提供所需真空环境，工艺加热组件固定在真空外腔内，用于提供镀膜工艺所需要的温度，工艺加热组件一端设内腔抽真空组件，用于抽取工艺内腔真空及工艺内腔反应剩余气体，外腔前门上设有工艺气体匀流组件，用于保证工艺反应用的气体在工艺内腔内均匀分布，工艺气体匀流组件连接两端开口的晶圆载具其中一端开口，晶圆载具放置在与工艺气体匀流组件相连的伸缩滑轨上，工艺气体匀流组件与真空外腔内壁之间连接有压缩连杆，用于为工艺气体匀流组件提供驱动力控制开闭，外腔前门关闭时，晶圆载具另一端开口接触内腔抽真空组件，匀流组件

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备


[0001]本专利技术涉及的是一种真空镀膜设备，具体涉及一种原子层沉积真空镀膜设备
。

技术介绍

[0002]现有技术中，原子层沉积镀膜设备一般设置预热腔和工艺腔两个炉腔，产品需要在预热腔内加热后再搬运到工艺腔，搬运时在大气环境中进行，搬运过程中接触的空气会对产品产生污染，导致产品发生各种不良
。
[0003]另一方面，设备加热腔只通过靠近加热腔的6个内壁进行加热，而由于腔内空间大，导致腔内各处的温差大，升温速度慢，尤其是腔内中间部位置升温很慢，设备生产效率低
。

技术实现思路

[0004]本专利技术提出的是一种真空镀膜设备，其目的旨在克服现有技术存在的上述不足，避免污染产品，提高加热效率
。
[0005]本专利技术的技术解决方案：一种真空镀膜设备，使产品整个加工过程都在真空环境下进行，不会产生污染，以提高产品的良率；并使产品加工时加热均匀，升温快速，提高产品镀膜厚度的均匀性
。
[0006]具体的，包括一端设有可开闭的外腔前门的真空外腔，为镀膜过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种真空镀膜设备，其特征在于，包括一端设有可开闭的外腔前门（
11
）的真空外腔（1），工艺加热组件（4）固定在真空外腔（1）内，工艺加热组件（4）一端设内腔抽真空组件（6），外腔前门（
11
）上设有工艺气体匀流组件（3），工艺气体匀流组件（3）连接两端开口的晶圆载具（2）其中一端开口，晶圆载具（2）放置在与工艺气体匀流组件（3）相连的伸缩滑轨上，工艺气体匀流组件（3）与真空外腔（1）内壁之间连接有压缩连杆（5），外腔前门（
11
）关闭时，晶圆载具（2）另一端开口接触内腔抽真空组件（6），工艺气体匀流组件（3）
、
晶圆载具（2）和内腔抽真空组件（6）组成工艺内腔
。2.
如权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述的真空外腔（1）包括固定安装且外壁包裹隔热层的外腔主体（
12
），外腔主体（
12
）通过外腔抽真空接口（
14
）外接抽真空装置，外腔主体（
12
）一端为可水平开闭的外腔前门（
11
）
...

【专利技术属性】
技术研发人员：宣荣卫，钱刚祥，
申请(专利权)人：艾华无锡半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：