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本发明是真空镀膜设备，包括一端设可开闭外腔前门的真空外腔，为镀膜过程提供所需真空环境，工艺加热组件固定在真空外腔内，用于提供镀膜工艺所需要的温度，工艺加热组件一端设内腔抽真空组件，用于抽取工艺内腔真空及工艺内腔反应剩余气体，外腔前门上设有工...
该专利属于艾华（无锡）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾华（无锡）半导体科技有限公司授权不得商用。

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