【技术实现步骤摘要】
一种离子注入工艺匹配的方法
[0001]本专利技术属于半导体制造领域,特别涉及一种离子注入工艺匹配的方法
。
技术介绍
[0002]半导体制造行业是专门生产各类芯片的高科技技术产业,而离子注入则是生产芯片所必须的一种制备工艺
。
在芯片的实际生产中,经常会遇到使用不同类型离子注入机台进行同一个工艺的情况,进而引入不同类型设备之间的工艺匹配问题
。
对于离子注入工艺而言,注入角度会影响器件沟道性能,因此不同类型设备之间离子注入角度的匹配十分重要
。
[0003]传统的离子注入工艺匹配,是通过测量待匹配机台所注入的晶片的电阻值,并与基准机台所注入的晶片的电阻值进行比较
。
通过不断修改待匹配机台的工艺参数,直到所注入的晶片的电阻值与基准机台相同,从而实现机台间的工艺参数匹配
。
[0004]在实际生产中,经常出现即便令机台注入的晶片的电阻值与基准机台已经相同,但是所生产的芯片电学性能仍有显著差距的情况,说明传统的工艺匹配方法存在一定的缺陷
。
离子注入的工艺参数中,注入角度的变化对于电阻值的贡献相对来说较小,因此使用传统的工艺匹配方法容易造成注入角度的失配,进而导致器件电学性能发生显著变化
。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于提供一种离子注入工艺匹配的方法,以解决在离子注入机台工艺中角度失配导致器件电学性能发生显著变化的技术问题
。
[0006]为达到以上目的,本专 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种离子注入工艺匹配的方法,其特征在于,包括:
S101
:在基准机台上对第一硅晶片进行离子注入,热处理,测定热处理后的第一硅晶片方块电阻值,得到第一方块电阻值;
S102
:在待匹配机台上,使用和基准机台相同的工艺参数对第二硅晶片进行离子注入,热处理,测定热处理后的第二硅晶片方块电阻值,得到第二方块电阻值;
S103
:比较第一方块电阻值和第二方块电阻值,如果第一方块电阻值和第二方块电阻值不相等,通过调整待匹配机台注入剂量补偿值重复步骤
S102
,直到第一方块电阻值和第二方块电阻值;第一方块电阻值和第二方块电阻值相等时待匹配机台的剂量补偿值,设定为待匹配机台的注入剂量匹配补偿值;
S104
:使用基准机台生产晶体管器件芯片,并测量所制备晶体管器件芯片的阈值电压
V1
;
S105
:使用待匹配机台使用和基准机台相同的工艺参数生产晶体管器件芯片,并测量所制备晶体管器件芯片的阈值电压
V2
;
S106
:比阈值电压
V1
和
V2
,若不相同,则通过修改待匹配机台的注入角度补偿值重复步骤
S105
,直到阈值电压
V1
和
V2
一致;阈值电压
V1
和
V2
一致时待匹配机台的注入角度补偿值,设定为待匹配机台的注入角度匹配补偿值
。2.
根据权利要求1所述的一种离子注入工艺匹配的方法,其特征在于,所述第一硅晶片和第二硅晶片规格相同;步骤
S1
和步骤
S2
中的热处理工艺相同
。3.
根据权利要求2所述的一种离子注入工艺匹配的方法,其特征在于,所述第一硅晶片和第二硅晶片为
N
型硅晶片或
P
型硅晶片
。4.
根据权利要求2所述的一种离子注入工...
【专利技术属性】
技术研发人员:段鹏冲,周俊,杨文如,赵文静,丁文华,习毓,
申请(专利权)人:西安微晶微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。