【技术实现步骤摘要】
一种使用非阵列探测器实现高光谱成像的系统
[0001]本专利技术涉及一种用于实现高光谱成像的系统,尤其是涉及应用单像素计算成像技术与纳米晶体材料,使用非阵列探测器实现高光谱成像的系统,属于高光谱成像
。
技术介绍
[0002]高光谱成像技术是认知世界的一种重要手段,能够同时捕获空间信息和光谱信息,常常用来检测目标物体的物理结构
、
化学成分等信息
。
高光谱成像技术已广泛应用在遥感领域
、
食品安全领域
、
生物医药领域以及军事等领域
。
[0003]目前已有的高光谱成像技术主要有以下几种:点扫描
、
线阵扫描
、
光谱阵列扫描以及快照式成像
。
点扫描使用光栅或棱镜等分光器件,与线阵探测器配合,测量目标物体中单个像素点处的所有光谱信息
。
之后通过两个自由度的机械运动控制,在
x,y
空间中的每一个像素点进行点扫描
。
这种成像方式由于引入了复杂的机械运动装置,所以成像速度慢,空间分辨率低
。
同时,这种成像方式需要线阵探测器对分光信号进行探测,对这种器件存在依赖,限制了使用场景
。
[0004]线阵扫描能够在一次测量中测量目标物体中一条线上所有像素点的光谱信息,之后通过使用机械运动装置,在另一个维度上进行扫描
。
线阵扫描的工作原理与点扫描类似,不同点在于点扫描获取的是单个像素 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种使用非阵列探测器实现高光谱成像的系统,其特征是:包括成像模块
、
振幅调制模块
、
光谱调制模块
、
接收模块和计算机;所述成像模块:通过红外光源照明目标物体之后,使用成像镜头对目标物体的反射光进行收集,成像到数字微镜器件的靶面上;所述振幅调制模块:数字微镜器件作为空间光调制器,对其靶面上的成像进行振幅调制;数字微镜器件上投影的调制图案是经过随机化的哈达玛矩阵;经过振幅调制之后的信号光由反射镜调整出射方向,出射的信号光进入光谱调制模块;所述光谱调制模块:使用纳米晶体材料滤波片对从振幅调制模块出射的信号光进行光谱调制;经过振幅调制和光谱调制之后的信号光直接出射后进入接收模块;所述接收模块:包括接收端的收集透镜
、
光电探测器以及数据采集器件;收集透镜使用凸透镜,对信号光进行聚焦,汇聚到光电探测器的靶面上;光电探测器是单像素探测器,将经过调制之后的光信号转化为模拟电压信号,调制过程中不同强度的信号光会转化为不同的电压数值;数据采集器件将模拟电压信号转化为计算机能够识别的数字信号,同时具有同步触发功能,实现加载到数字微镜器件上的调制图案与光电探测器输出的电压值信号一一对应的关系;所述计算机:接收数据采集器件输送的电压数据,通过将光电探测器输出的一维强度信号作为测量值矩阵,将随机化的哈达玛矩阵和纳米晶体材料滤波片的透射光谱作为测量矩阵,进行压缩感知数据处理和运算,重构出目标物体的三维数据立方体
。2.
根据权利要求1所述的使用非阵列探测器实现高光谱成像的系统,其特征是,所述振幅调制模块中数字微镜器件上投影的调制图案的生成过程如下所述:调制图案的分辨率与目标物体的分辨率直接相关;在目标物体的成像生成哈达玛矩阵之后进行随机化处理,即将生成的哈达玛矩阵与一个随机生成的相同大小的二值矩阵进行逻辑异或,之后采用差分测量的方式对目标物体进行振幅调制,差分测量是指在加载调制图案时,除了投影一张已生成的调制图案之外,另外投影一张将该调制图案取反之后得到的调制图案;生成调制图案时将得到的矩阵的所有行都单独提取,并转化行矩阵为一个二维矩阵,并以此作为加载到数字微镜器件上的调制图案
。3.
根据权利要求1所述的使用非阵列探测器实现高光谱成像的系统,其特征是,所述光谱调制模块中纳米晶体材料滤波片的制备过程如下所述:(1)将纳米晶体材料分散到有机溶剂中,得到纳米晶体材料溶液;(2)玻璃片清洗处理;(3)将纳米晶体材料溶液滴加到清洗后的玻璃片上,布满整个玻璃片,罩住玻璃片,静置使溶剂完全挥发,在玻璃片上形成纳米晶体材料薄膜,得到纳米晶体材料滤波片
。4.
根据权利要求3所述的使用非阵列探测器实现高光谱成像的系统,其特征是,所述(2)玻璃片清洗处理的过程是:将玻璃片放入装有异丙醇的容器中超声清洗三十分钟,烘干后放入真空等离子体清洗机中进行清洗
。5.
根据权利要求3所述的使用非阵列探测器实现高光谱成像的系统,其特征是,所述(3)中纳米晶体材料薄膜的厚度为
50nm
‑
200nm。6.
根据权利要求1所述的使用非阵列探测器实现高光谱成像的系统,其特征是,所述光谱调制模块中使用纳米晶体材料滤波片对从振幅调制模块出射的信号光进行光谱调制的
过程是;每在光路中放置一个纳米晶体材料滤波片,都进行一次单像素成像,获得一张单像素成像重构结果图像,这张图像包含了在该纳米晶体材料滤波片调制下的图像信息;接着切换到下一个纳米晶体材料滤波片,重复进行单像素成像;这样一直重复,...
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