一种化学气相沉积设备的基座沉积物清洁方法技术

本发明专利技术公布了一种化学气相沉积设备的基座沉积物清洁方法，该方法需要使用以下装置：基座本体、底座、顶座、转盘、电机、刷头、移动装置和供液装置，本发明专利技术的有益效果是，基座本体可拆卸式连接在沉积箱的底部，在清洁时可以将基座本体拆下，清洁时无需受到沉积箱容积的限制，在清洁的过程中，通过供液装置进行清洁液的喷洒，通过电机驱动转盘转动，从而带动刷头转动，在此过程中移动装置使得刷头径向移动，从而对基座本体进行全方位的刷洗，提高清洁的效果。效果。效果。

【技术实现步骤摘要】
一种化学气相沉积设备的基座沉积物清洁方法


[0001]本专利技术涉及化学气相沉积
，具体涉及一种化学气相沉积设备的基座沉积物清洁方法。

技术介绍

[0002]化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法，化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。
[0003]化学气相沉积反应一般在沉积箱中进行，但是在反应的过程中，沉积箱的底部会形成一层沉淀物，需要定期对其进行清洁，现有技术中的沉积箱底板为不可分离式，在清洁的过程中，受制于沉积箱的容积有限，对沉积箱底板的清洁十分困难。
[0004]现有技术中，对沉积箱的底板进行清洁时，首先需要将碱性的清洁液喷洒到沉积箱的底板上，然后人工使用清洁刷进行刷洗，刷洗完成后，需要将清洁箱中的废液倾倒，操作十分繁琐，效率低下，且清洁的效果十分不理想。

技术实现思路

[0005]为解决上述问题，本专利技术提供了一种化学气相沉积设备的基座沉积物清洁方法，本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化学气相沉积设备的基座沉积物清洁方法，其特征在于，该方法需要使用以下装置：基座本体、底座、顶座、转盘、电机、刷头、移动装置和供液装置；所述基座本体可拆卸式连接在沉积箱的底部；所述顶座位于底座的正上方，顶座可相对底座进行竖向的升降运动；所述转盘转动连接在顶座内并通过电机驱动，所述刷头通过移动装置连接在转盘的下方；该方法包括以下步骤：S1：将基座本体与沉积箱分离，并将基座本体放置在底座上；S2：将顶座下移，进而使得刷头与基座本体的上表面接触，启动供液装置，通过供液装置将碱性清洗液喷洒在基座本体的上表面；S3：通过电机驱动转盘转动，转盘带动刷头对基座本体的上表面进行刷洗，与此同时，移动装置驱动刷头径向移动，从而对基座本体的上表面进行全方位的刷洗。2.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备的基座沉积物清洁方法，其特征在于，所述基座本体的下表面圆周均匀固接有定位杆，所述沉积箱的底板上表面开设有与定位杆对应的插槽，基座本体通过定位杆和插槽的配合可拆卸式连接在沉积箱的底部。3.根据权利要求2所述的一种化学气相沉积设备的基座沉积物清洁方法，其特征在于，所述底座的上表面开设有与定位杆对应的定位插孔，底座的上表面还圆周均匀固接有同步电动伸缩杆，各同步电动伸缩杆的顶部一体固接所述顶座，顶座在电动伸缩杆的作用下进行竖向的升降运动。4.根据权利要求3所述的一种化学气相沉积设备的基座沉积物清洁方法，其特征在于，所述顶座的下表面开设有通槽，所述通槽的直径等于基座本体的直径，通槽上方的顶座内开设有排水槽，所述排水槽上方的顶座内开设有安装腔，所述转盘位于安装腔内，所述转盘的上表面对称固接有环形的滑块，所述安装腔的顶面和底面固接有与滑块对应的滑轨，所述滑块滑动连接在对应的滑轨中...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟兴进，罗长诚，何淑英，冯嘉荔，
申请(专利权)人：广东鸿浩半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：