【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】即时生成简化的块模型视图
[0001]相关申请
[0002]本申请要求于2021年03月24日提交的美国临时申请序列号63/165624的权益,出于所有目的,其内容通过引用以其整体并入本文。
[0003]本公开涉及一种电子设计自动化(EDA)系统。更具体地,本公开涉及用于即时生成简化的块模型视图的系统和方法。
技术介绍
[0004]工艺技术的进步以及对计算和存储的不断增加的需求已经推动了IC设计的尺寸和复杂性的增加。期望改进用于分析和调试较大且复杂的IC设计的IC设计工具的性能和容量。
技术实现思路
[0005]本文描述的实施例可以以即时(on
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fly)向IC设计分析系统生成简化的块模型视图为特征。IC设计分析系统的示例包括但不限于时钟域交叉(CDC)分析系统、复位域交叉(RDC)分析系统、低功率(LP)分析系统或结构分析系统。字级设计模型可以被加载到存储器中。接下来,可以创建掩蔽层(masking layer),掩蔽层包括字级设计模型中不被IC设计分析系统所使用的对象。然后,可以使用掩蔽层来即时向IC设计分析系统提供简化的块模型视图。
[0006]在本文描述的一些实施例中,可以接收来自IC设计分析系统的对字级设计模型中的连接性信息的请求。接下来,可以基于字级设计模型和掩蔽层来确定连接性信息。然后,可以将连接性信息提供给IC设计分析系统。
[0007]在本文描述的一些实施例中,可以通过首先通过从输入端口和输出端口起执行字级 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种方法,包括:将表示集成电路(IC)设计的字级设计模型加载到存储器中;由处理器创建掩蔽层,所述掩蔽层包括所述字级设计模型中不被IC设计分析系统所使用的对象;以及使用所述掩蔽层来即时向所述IC设计分析系统提供简化的块模型视图。2.根据权利要求1所述的方法,其中使用所述掩蔽层来即时向所述IC设计分析系统提供所述简化的块模型视图包括:接收来自所述IC设计分析系统的对所述字级设计模型中的连接性信息的请求;基于所述字级设计模型和所述掩蔽层,来确定所述连接性信息;以及向所述IC设计分析系统提供所述连接性信息。3.根据权利要求1所述的方法,其中创建包括所述字级设计模型中不被所述IC设计分析系统所使用的对象的所述掩蔽层包括:通过从输入端口和输出端口起执行字级遍历,来标识所述字级设计模型中的对象的子集;以及将不在所述对象的子集中的对象添加到所述掩蔽层。4.根据权利要求3所述的方法,其中通过从输入端口和输出端口起执行字级遍历来标识所述字级设计模型中的所述对象的子集包括:标识从端口到第一级顺序寄存器的路径中的对象。5.根据权利要求3所述的方法,其中通过从输入端口和输出端口起执行字级遍历来标识所述字级设计模型中的所述对象的子集包括:选择第一端口,所述第一端口连接到第一时钟域交叉(CDC)同步电路;选择第二端口,所述第二端口连接到第二CDC同步电路;以及标识从所述第一端口起的第一路径中的对象和从所述第二端口起的第二路径中的对象,所述第一路径和所述第二路径汇聚在顺序寄存器处。6.根据权利要求3所述的方法,其中通过从输入端口和输出端口起执行字级遍历来标识所述字级设计模型中的所述对象的子集包括:并行地标识所述字级设计模型的不同块中的对象;以及将在所述字级设计模型的所述不同块中标识的所述对象聚合,以获得所述对象的子集。7.根据权利要求6所述的方法,其中所述IC设计是片上系统(SoC)设计,其中所述简化的块模型视图对应于所述SoC设计中的顶层视图,并且其中所述字级设计模型的所述不同块对应于所述SoC设计的所述顶层视图中的不同块。8.根据权利要求1所述的方法,其中所述IC设计分析系统是时钟域交叉(CDC)分析系统、复位域交叉(RDC)分析系统、低功率(LP)分析系统,或结构分析系统中的一种系统。9.一种非暂态计算机可读存储介质,所述非暂态计算机可读存储介质存储指令,所述指令在由处理器执行时,使得所述处理器:将表示集成电路(IC)设计的字级设计模型加载到存储器中;创建掩蔽层,所述掩蔽层包括所述字级设计模型中不被IC设计分析系统使用的对象;以及
使用所述掩蔽层来即时向所述IC设计分析系统提供简化的块模型视图。10.根据权利要求9所述的非暂态计算机可读存储介质,其中使用所述掩蔽层来即时向所述IC设计分析系统提供所述简化的块模型视图包括:接收来自所述IC设计分析系统的对所述字级设计模型中的连接性信息的请求;基于所述字级设计模型和所述掩蔽层,来确定所述连接性信息;以及向所述IC设计分析系统提供所述连接性信息。11.根据权利要求9所述的非暂态计算机可读存储介质,其中创建包括所述字级设计模型中不被IC设计分析系统所使用的对象的所述掩...
【专利技术属性】
技术研发人员:M,
申请(专利权)人:美商新思科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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