衬底处理设备和衬底处理方法技术

本发明专利技术提供一种衬底处理装置以及衬底处理方法。本发明专利技术的衬底处理设备包括：衬底处理单元，所述衬底处理单元用于通过向衬底排放化学液体来处理所述衬底；化学品存储单元，所述化学品存储单元通过化学液体供应管线和化学液体回收管线连接到所述衬底处理单元；和液体补充单元，所述液体补充单元包括用于测量所述化学液体中所含的水的蒸发量的蒸发测量构件和用于向所述化学液体供应水的供水构件。和用于向所述化学液体供应水的供水构件。和用于向所述化学液体供应水的供水构件。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理设备和衬底处理方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2022年5月10日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10
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2022
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0056957的优先权，该申请的公开内容通过引用整体并入本文。


[0003]本公开的实施例涉及衬底处理设备和衬底处理方法。

技术介绍

[0004]通常，可能存在一个补给系统，该补给系统通过反馈箱中的化学液体的浓度来反馈化学液体的浓度，从而校正浓度，而在循环化学液体的系统中，被再循环的化学液体的浓度不是定期管理的。
[0005]在化学液体再循环系统中，用于存储化学液体以输入化学液体的存储单元可以包括调节箱、主箱和再循环箱。
[0006]这里，为了管理被再循环的化学液体的浓度，由于可能已经使用了通过简单地按照一定的时间段向调节箱供应水来补充液体的系统，所以在考虑到根据化学液体的排放时间蒸发的水量的情况下，水可能不会被保留，使得可能存在局限性，因为化学液体的浓度难以统一管理。
[0007]具体地，如图1所示，在执行本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底处理设备，包括：衬底处理单元，所述衬底处理单元用于通过向衬底排放化学液体来处理所述衬底；化学品存储单元，所述化学品存储单元通过化学液体供应管线和化学液体回收管线连接到所述衬底处理单元；和液体补充单元，所述液体补充单元包括用于测量所述化学液体中所含的水的蒸发量的蒸发测量构件和用于向所述化学液体供应水的供水构件。2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述蒸发测量构件是被安装在所述化学品存储单元中的箱中的液位传感器，所述化学液体被容纳在所述箱中。3.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中，所述液体补充单元还包括：控制单元，所述控制单元用于基于通过由所述液位传感器测量的水位计算出的水的蒸发量来自动控制所述供水构件的供水量。4.根据权利要求3所述的衬底处理设备，其中，所述控制单元基于所述水的蒸发量和通过所述衬底的蚀刻反应的机理引起的所述化学液体的浓度的降低速率来自动控制所述供水构件的所述供水量。5.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述供水构件连接到喷嘴部分，所述喷嘴部分用于在所述衬底处理单元中排放所述化学液体。6.根据权利要求5所述的衬底处理设备，其中，所述供水构件将水供应到所述衬底的上表面或所述衬底的下表面。7.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述供水构件连接到所述化学液体回收管线。8.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述供水构件连接到所述化学液体存储单元。9.一种衬底处理设备，包括：衬底处理单元，所述衬底处理单元包括处理容器、支撑单元和喷嘴部分，所述处理容器具有处理空间，在所述处理空间中用化学液体处理衬底，所述支撑单元在所述处理空间中支撑所述衬底，所述喷嘴部分将所述化学液体排放到在所述处理空间中的所述衬底；化学品存储单元，所述化学品存储单元包括通过化学液体回收管线连接到所述处理容器的再循环箱、通过化学液体再循环管线连接到所述再循环箱的调节箱、以及通过化学液体输送管线连接到所述调节箱和通过化学液体供应管线连接到所述喷嘴部分的主箱；和液体补充单元，所述液体补充单元包括被安装在所述化学液体存储单元中并测量所述化学液体中所含的水的蒸发量的蒸发测量构件、以及将水供应到所述化学液体的供水构件，其中，所述蒸发测量构件是安装在所述再循环箱中的液位传感器，并且其中，所述液体补充单元还包括控制单元，所述控制单元用于基于通过由所述液位传感器测量的水位计算出的水...

【专利技术属性】
技术研发人员：金珉贞，李成洙，黄准吉，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：