蚀刻处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种蚀刻处理装置

【技术实现步骤摘要】
蚀刻处理装置、系统、方法、分析装置以及分析程序


[0001]本公开涉及一种蚀刻处理装置、蚀刻处理系统、分析装置、蚀刻处理方法以及分析程序。

技术介绍

[0002]使用处理前的晶圆的截面形状及规定的处理条件来预测在该规定的处理条件下对晶圆进行了蚀刻处理的情况下的、处理后的晶圆的截面形状的预测模型(学习完毕模型)的开发取得进展。
[0003]另一方面，蚀刻处理装置的处理空间(腔室)的规格各种各样，另外，即使规格相同，有时也会在装置间存在机械误差，装置间的内部状态不同。并且，处理前的晶圆的成膜时的成膜条件各种各样，即使是同一种膜，元素组成、膜密度、膜构造等有时也不同。因此，不容易针对跨越多个蚀刻处理装置且同一种膜的所有元素组成、膜密度、膜构造的处理前的晶圆构建通用的预测模型。因为这样，所以例如每当应用使用该预测模型搜索出的设定数据等时，要求根据作为应用对象的蚀刻处理装置及处理前的晶圆来适当调整设定数据等。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：国际公开第2019/131608号

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]本公开提供一种针对每个蚀刻处理装置生成或调整设定数据的构造。
[0009]用于解决问题的方案
[0010]本公开的一个方式的蚀刻处理装置例如具有以下这样的结构。即，具有：保存部，所述保存部保存在根据执行了蚀刻处理的特定的步骤时的效果的差异将执行所述特定的步骤时获取到的各处理条件分类为多个组并针对每个组进行了学习处理的情况下通过各学习处理生成的各组的学习完毕模型；更新部，在使用与特定的组对应的处理条件中包括的设定数据对测试用晶圆执行了所述特定的步骤的情况下的效果不等同于与所述特定的组对应的效果的情况下，所述更新部更新所述特定的组的学习完毕模型；搜索部，所述搜索部使用更新后的所述学习完毕模型来搜索在对测试用晶圆执行了所述特定的步骤的情况下能够得到与所述特定的组对应的效果的设定数据；以及设定部，在对处理用晶圆执行所述特定的步骤时，所述设定部设定所搜索出的设定数据。
[0011]专利技术的效果
[0012]根据本公开，能够提供一种针对每个蚀刻处理装置生成或调整设定数据的构造。
附图说明
[0013]图1是用于说明蚀刻处理系统的各阶段中的系统结构及处理的概要的图。
[0014]图2是示出分析装置的硬件结构的一例的图。
[0015]图3是示出收集到的分析对象的数据集的具体例的图。
[0016]图4是用于说明分析结果数据的概要的图。
[0017]图5是示出效果计算处理的具体例的图。
[0018]图6是示出数据保存部中保存的多个数据集的具体例的图。
[0019]图7是示出分类处理的具体例的图。
[0020]图8是示出Proxel的生成处理的具体例的图。
[0021]图9是示出预测模型生成处理的具体例的图。
[0022]图10是示出测试用晶圆的截面形状数据的收集处理的具体例的图。
[0023]图11是示出预测模型更新处理的具体例的图。
[0024]图12是示出设定数据的搜索处理的具体例的图。
[0025]图13是示出设定数据的设定处理的具体例的图。
[0026]图14是示出分析处理的流程的流程图的一例。
具体实施方式
[0027]下面，参照附图来说明各实施方式。此外，在本说明书和附图中，通过对实质上具有同一功能结构的结构要素标注相同的附图标记来省略重复的说明。
[0028][第一实施方式][0029]<蚀刻处理系统的系统结构及处理的概要>
[0030]首先，说明第一实施方式所涉及的蚀刻处理系统的各阶段中的系统结构及各阶段中的处理的概要。图1是用于说明蚀刻处理系统的各阶段中的系统结构及处理的概要的图。
[0031]如图1所示，在“生成阶段”，蚀刻处理系统100具有多个蚀刻处理装置110、一个或多个形状测定装置120、以及分析装置130。
[0032]多个蚀刻处理装置110分别是进行晶圆的蚀刻处理的装置，例如可以是配置于多个事务所的多个蚀刻处理装置，也可以是配置于同一事务所的多个蚀刻处理装置。另外，多个蚀刻处理装置110可以是处理空间(腔室)的规格不同的蚀刻处理装置，也可以是同一规格的蚀刻处理装置。
[0033]形状测定装置120是测定在多个蚀刻处理装置110中分别进行蚀刻处理时的处理前的晶圆的截面形状及处理后的晶圆的截面形状的装置。此外，将由形状测定装置120测定出的处理前晶圆的截面形状数据及处理后晶圆的截面形状数据与蚀刻处理时获取到的数据集进行对应并作为分析对象的数据集保存于分析装置130的数据保存部133。
[0034]在分析装置130中安装有生成程序，分析装置130通过在生成阶段执行该程序，来作为收集部131、生成部132发挥功能。
[0035]分析装置130的收集部131通过形状测定装置120和多个蚀刻处理装置110来收集在蚀刻处理时获取到的数据集、以及对应的处理前晶圆的截面形状数据及处理后晶圆的截面形状数据来作为分析对象的数据集。另外，分析装置130的收集部131将收集到的分析对象的数据集保存于数据保存部133。
[0036]另外，分析装置130的收集部131对数据保存部133中保存的分析对象的数据集进行分析。
[0037]具体而言，分析装置130的收集部131对分析对象的数据集中的、蚀刻处理中的相同步骤的多个数据集进行分析，并将能够到同样的效果的数据集彼此分为一组，由此生成Proxel。也就是说，分析装置130的收集部131执行用于计算蚀刻处理的效果的“效果计算处理”、用于将数据集进行分组的“分类处理”以及应用生成Proxel的“Proxel的生成处理”。另外，分析装置130的收集部131将生成的Proxel保存于数据保存部133。
[0038]此外，在本实施方式中，Proxel是关于处理前后的截面形状的变化能够得到相同效果的处理条件的组，是表示蚀刻处理中的细微加工中的最小的据单位的概念。其中，在此所述的“相同效果”无需是截面形状的变化完全相同，也包括截面形状的变化为相同程度的变化(规定范围内的变化)。
[0039]分析装置130的生成部132针对所生成的每个Proxel，使用处理前晶圆的截面形状数据及处理条件、以及处理后晶圆的截面形状数据进行学习处理，并生成预测模型(学习完毕模型)。也就是说，分析装置130的生成部132执行“预测模型的生成处理”。
[0040]另外，如图1所示，在“更新阶段”，蚀刻处理系统100具有蚀刻处理装置140和分析装置150。
[0041]蚀刻处理装置140是应用在生成预测模型时使用的设定数据来进行蚀刻处理的装置。在本实施方式中，每当应用设定数据时，考虑以下内容来适当地调整设定数据。
[0042]·
与多个蚀刻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻处理装置，其特征在于，具有：保存部，所述保存部保存在根据执行了蚀刻处理的特定的步骤时的效果的差异将执行所述特定的步骤时获取到的各处理条件分类为多个组并针对每个组进行了学习处理的情况下通过各学习处理生成的各组的学习完毕模型；更新部，在使用与特定的组对应的处理条件中包括的设定数据对测试用晶圆执行了所述特定的步骤的情况下的效果不等同于与所述特定的组对应的效果的情况下，所述更新部更新所述特定的组的学习完毕模型；搜索部，所述搜索部使用更新后的所述学习完毕模型来搜索在对测试用晶圆执行了所述特定的步骤的情况下能够得到与所述特定的组对应的效果的设定数据；以及设定部，在对处理用晶圆执行所述特定的步骤时，所述设定部设定所搜索出的设定数据。2.根据权利要求1所述的蚀刻处理装置，其特征在于，所述学习完毕模型以使输入了执行所述特定的步骤之前的晶圆的截面形状数据以及与所述特定的组对应的处理条件的情况下的输出数据接近执行所述特定的步骤之后的晶圆的截面形状数据的方式进行学习。3.根据权利要求2所述的蚀刻处理装置，其特征在于，所述更新部以使使用与特定的组对应的处理条件中包括的设定数据对测试用晶圆执行了所述特定的步骤的情况下的效果等同于与所述特定的组对应的效果的方式更新所述特定的组的学习完毕模型的模型参数。4.根据权利要求3所述的蚀刻处理装置，其特征在于，还具有测定器，所述测定器针对所述测试用晶圆测定使用与所述特定的组对应的处理条件中包括的设定数据来执行所述特定的步骤之前的所述测试用晶圆的截面形状数据、以及执行所述特定的步骤之后的所述测试用晶圆的截面形状数据，使用与特定的组对应的处理条件中包括的设定数据对所述测试用晶圆执行所述特定的步骤的情况下的效果是基于执行所述特定的步骤之前的所述测试用晶圆的截面形状数据以及执行所述特定的步骤之后的所述测试用晶圆的截面形状数据计算出的。5.根据权利要求1所述的蚀刻处理装置，其特征在于，所述搜索部以使基于将所述测试用晶圆的处理前的截面形状数据输入到更新后的所述学习完毕模型的情况下的所述测试用晶圆的处理后的截面形状数据的预测值、以及所述测试用晶圆的处理前的截面形状数据计算出的效果接近与所述特定的组相对应的效果的方式搜索设定数据。6.根据权利要求1所述的蚀刻处理装置，其特征在于，所述测试用晶圆的被进行蚀刻处理的对象膜的元素组成、膜密度、膜构造与所述处理用晶圆大致相同。7.一种蚀刻处理系统，其特征在于，具有：保存部，所述保存部保存在根据执行了蚀刻处理的特定的步骤时的效果的差异将执行所述特定的步骤时获取到的各处理条件分类为多个组并针对每个组进行了学习处理的情况下通过各学习处...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊五泽凉，笹川大成，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：