本发明专利技术涉及集成电路制造技术领域和计算光刻技术领域，公开了一种应用于掩模成像的数据处理方法、装置及曝光设备，该方法包括：获取照明光透过在先掩模版进行成像产生的在先成像图像，并基于在先成像图像确定在先损失值；更新在先掩模版为当前掩模版，获取照明光透过当前掩模版进行成像产生的当前成像图像，并基于当前成像图像确定当前损失值；根据在先损失值和当前损失值，更新当前掩模版，直至满足曝光条件。本发明专利技术通过更新掩模版，通过照明光透过当前掩模版进行成像，根据产生的当前成像图像计算当前损失值，以通过在先损失值和当前损失值的大小关系，对掩模版进行不断更新，从而实现对光刻成像的调整，极大提高了成像分辨率和能量利用率。和能量利用率。和能量利用率。
【技术实现步骤摘要】
一种应用于掩模成像的数据处理方法、装置及曝光设备
[0001]本专利技术涉及集成电路制造
和计算光刻
，具体涉及一种应用于掩模成像的数据处理方法、装置及曝光设备。
技术介绍
[0002]光刻工艺在半导体制造中是最重要的工艺步骤之一，光刻是利用光化学反应原理将掩模版上的图形转移到晶圆上的过程，是大规模集成电路芯片制造中最关键的技术之一，能够直接影响整条集成电路产业链的工艺水平。
[0003]在现有技术中，集成电路领域应用最广泛的光刻技术为投影式曝光技术，在该技术中，光透过掩模版后会经过复杂的投影光学系统再投射到晶圆表面，完成曝光。在此过程中，由于光学系统的介入，物镜的数值孔径直接影响投影光刻中的成像分辨率。因此，如何在光刻工艺中调整光刻成像，从而调整成像分辨率是亟待解决的问题。
技术实现思路
[0004]有鉴于此，本专利技术提供了一种应用于掩模成像的数据处理方法、装置及曝光设备，以解决调整成像分辨率的问题。
[0005]第一方面，本专利技术提供了一种应用于掩模成像的数据处理方法，该方法包括：获取照明光透过在先掩模版进行成像产生的在先成像图像，并基于所述在先成像图像确定在先损失值；更新在先掩模版为当前掩模版，获取照明光透过所述当前掩模版进行成像产生的当前成像图像，并基于所述当前成像图像确定当前损失值；根据在先损失值和当前损失值，更新所述当前掩模版，直至满足曝光条件。
[0006]本专利技术通过照明光透过在先掩模版进行成像，根据产生的在先成像图像计算在先损失值，更新掩模版，通过照明光透过所述当前掩模版进行成像，根据产生的当前成像图像计算当前损失值，以通过在先损失值和当前损失值的大小关系，对掩模版进行不断更新，从而实现对光刻成像的调整，极大提高了成像分辨率和能量利用率。
[0007]在一种可选的实施方式中，所述基于所述在先成像图像确定在先损失值包括：获取目标集成电路图案对应的目标光场分布数据；基于所述目标光场分布数据和所述在先成像图像对应的在先空间像数据确定在先损失值。
[0008]本专利技术根据目标光场分布数据和在先成像图像对应的在先空间像数据，计算掩模版未更新时的在先损失值，以便于对损失值的变化进行判断。
[0009]在一种可选的实施方式中，所述获取照明光透过在先掩模版进行成像产生的在先成像图像，包括：根据照明光对应的掩模面复振幅和相匹配的衍射传递函数，确定符合在先掩模版坐标及其像面坐标的在先空间像数据，且所述在先空间像数据满足：
[0010]其中，为在先空间像数据，为照明设备发射的汇聚球面波照明
光，为掩模面复振幅，为衍射传递函数，为像面坐标，为在先掩模版坐标，为衍射距离。
[0011]本专利技术通过衍射公式计算照明光透过在先掩模版进行成像产生的在先成像图像，以提高成像图像结果的准确性。
[0012]在一种可选的实施方式中，所述基于所述目标光场分布数据和所述在先成像图像对应的在先空间像数据确定在先损失值，包括：根据目标光场分布数据对应的振幅和相位，确定在先空间像数据对应的在先损失值，且所述在先损失值满足：
[0013]其中，为在先损失值，为在先空间像数据，为目标光场，，为目标平面所关注点的坐标，，为目标光场的振幅，为目标光场的相位，为虚数单位。
[0014]本专利技术通过将在先空间像数据和目标光场分布进行比较，计算在先损失值，以便于根据损失值的变化对掩膜版进行更新，以调整成像。
[0015]在一种可选的实施方式中，所述更新在先掩模版为当前掩模版，获取照明光透过所述当前掩模版进行成像产生的当前成像图像，包括：更新所述在先掩模版上的指定像素点的像素在先值为像素当前值，生成当前掩模版；获取所述当前掩模版对应照明光透过成像的当前光场分布数据，其中，所述当前光场分布数据为照明光透过像素当前值对应的指定像素点进行成像生成的光场数据；根据当前光场分布数据和在先成像图像确定当前成像图像，且所述当前成像图像的当前空间像数据满足：
[0016]其中，为当前空间像数据，为所述在先成像图像对应的在先空间像数据，为当前像素点像素值，为当前光场分布数据。
[0017]本专利技术通过根据在先空间像数据和当前光场分布数据计算当前空间像数据，提高空间像数据的计算速度和准确度。
[0018]在一种可选的实施方式中，所述根据在先损失值和当前损失值，更新所述当前掩模版，包括：若当前损失值大于或等于在先损失值，则更新所述当前掩模版的指定像素点的像素当前值恢复为像素在先值，恢复所述当前掩模版为所述在先掩模版。
[0019]本专利技术根据当前损失值和在先损失值的大小关系，对像素点的像素值进行调整，以改变成像，从而提高成像质量。
[0020]在一种可选的实施方式中，在根据在先损失值和当前损失值，更新所述当前掩模版之后，所述方法还包括：更新恢复之后的在先掩模版为第一新掩模版，获取照明光透过所述第一新掩模版进行成像产生的第一新成像图像，并基于上述第一新成像图像确定第一新损失值；根据所述第一新损失值和所述在先掩模版对应的所述在先损失值，更新所述第一新掩模版。
[0021]本专利技术通过不断对掩模版进行更新，通过照明光透过新的掩模版进行成像，计算损失值，以确定成像质量，并根据新计算出的损失值和在先损失值的大小关系，对掩膜版进行更新，以使得改变成像，提高成像质量。
[0022]在一种可选的实施方式中，在所述根据所述第一新损失值和所述在先掩模版对应的所述在先损失值，更新所述第一新掩模版之前，所述方法还包括：当所述第一新损失值和所述当前损失值持平，或者所述照明光透过所述第一新掩模版进行成像产生的第一新成像图像达到预设成像质量值，确定满足曝光条件。
[0023]本专利技术对新计算出的损失值和当前损失值进行对比，或判断新成像图像的成像质量，以判断是否满足曝光条件，以便于及时利用满足曝光条件的掩膜版进行成像，同时避免不断更新造成的资源浪费。
[0024]在一种可选的实施方式中，所述方法还包括：若当前损失值小于在先损失值，则维持所述当前掩模版的指定像素点的像素当前值不变。
[0025]本专利技术通过将当前损失值和在先损失值进行对比，维持掩模版上像素点的像素值不变，以保持掩模版，以在满足曝光条件的掩模版上进行成像。
[0026]在一种可选的实施方式中，在根据在先损失值和当前损失值，更新所述当前掩模版之后，所述方法还包括：更新所述当前掩模版为第二新掩模版，获取照明光透过所述第二新掩模版进行成像产生的第二新成像图像，并基于上述第二新成像图像确定第二新损失值；根据所述第二新损失值和所述当前掩模版对应的当前损失值，更新所述第二新掩模版。
[0027]本专利技术不断对掩模版进行更新，通过照明光透过新的掩模版进行成像，计算损失值，以确定成像质量，并根据新计算出的损失值和在先损失值的大小关系，对掩膜版进行更新，以使得改变成像，提高成像质量。
[0028]在一种可选的实施方式中，在所述根据所述第二新损失值和所述当前掩模版对应的当前损失值，更新所述第二新掩模本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种应用于掩模成像的数据处理方法，其特征在于，所述方法包括：获取照明光透过在先掩模版进行成像产生的在先成像图像，并基于所述在先成像图像确定在先损失值；更新在先掩模版为当前掩模版，获取照明光透过所述当前掩模版进行成像产生的当前成像图像，并基于所述当前成像图像确定当前损失值；根据在先损失值和当前损失值，更新所述当前掩模版，直至满足曝光条件。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述在先成像图像确定在先损失值包括：获取目标集成电路图案对应的目标光场分布数据；基于所述目标光场分布数据和所述在先成像图像对应的在先空间像数据确定在先损失值。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取照明光透过在先掩模版进行成像产生的在先成像图像，包括：根据照明光对应的掩模面复振幅和相匹配的衍射传递函数，确定符合在先掩模版坐标及其像面坐标的在先空间像数据，且所述在先空间像数据满足：其中，为在先空间像数据，为照明设备发射的汇聚球面波照明光，为掩模面复振幅，为衍射传递函数，为像面坐标，为在先掩模版坐标，为衍射距离。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述目标光场分布数据和所述在先成像图像对应的在先空间像数据确定在先损失值，包括：根据目标光场分布数据对应的振幅和相位，确定在先空间像数据对应的在先损失值，且所述在先损失值满足：其中，为在先损失值，为在先空间像数据，为目标光场，，为目标平面所关注点的坐标，，为目标光场的振幅，为目标光场的相位，为虚数单位。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述更新在先掩模版为当前掩模版，获取照明光透过所述当前掩模版进行成像产生的当前成像图像，包括：更新所述在先掩模版上的指定像素点的像素在先值为像素当前值，生成当前掩模版；获取所述当前掩模版对应照明光透过成像的当前光场分布数据，其中，所述当前光场分布数据为照明光透过像素当前值对应的指定像素点进行成像生成的光场数据；根据当前光场分布数据和在先成像图像确定当前成像图像，且所述当前成像图像的当
前空间像数据满足：其中，为当前空间像数据，为所述在先成像图像对应的在先空间像数据，为当前像素点像素值，为当前光场分布数据。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据在先损失值和当前损失值，更新所述当前掩模版，包括：若当前损失值大于或等于在先损失值，则更新所述当前掩模版的指定像素点的像素当前值恢复为像素在先值，恢复所述当前掩模版为所述在先掩...
【专利技术属性】
技术研发人员：和琨，牛志元，韦炳威，陈晨，杜德川，张瑾轩，
申请(专利权)人：光科芯图北京科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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