本发明专利技术涉芯片制备技术领域和光刻技术领域，具体涉及一种五轴调节装置及曝光系统。一种五轴调节装置，包括高度调节组件，高度调节组件包括相对设置的第一底板和第一顶板；所述第一底板上设有滑动柱，所述第一顶板内穿设有滑动柱，所述第一底板和第一顶板间设有至少一个斜向滑轨对，所述斜向滑轨对包括斜向滑槽和与所述斜向滑槽适配的斜向导轨，所述斜向导轨与第一顶板固定连接，沿水平方向朝向斜向导轨施加力带动斜向导轨进行移动，以使第一顶板沿滑动柱的中心轴线上升或下降。本发明专利技术解决针对曝光操作相关结构的位姿调节结构在高度等方向调节上无法有效兼顾调节精度、防止干扰以及投入成本的问题，从而提供一种五轴调节装置及曝光系统。曝光系统。曝光系统。
【技术实现步骤摘要】
一种五轴调节装置及曝光系统
[0001]本专利技术涉及芯片制备
和光刻
，具体涉及一种五轴调节装置及曝光系统。
技术介绍
[0002]半导体芯片加工领域，对IC芯片特征尺寸要求越来越小，对光刻机性能要求越来越高，随之而来的是研发的难度加大，光刻机内部各种结构组件的可控性以及可操作便捷性需要大幅度提高。因此，不仅要求纳米级别调整机构的提高，也要求与之配套的大行程的微米级别精度的调整平台有更高的适配性。
[0003]在现有芯片制造过程中，需要预设进行光刻曝光操作之前的稳定性、可控性、精准度等方面的检测，这就涉及针对掩模版、镜片等曝光操作相关结构执行位置或姿态等方面的调节。现有调节结构在高度等方向调节方面基本上依靠电控设备进行，虽然通常也可以达到较好的调节精度，但是一方面会存在明显对芯片加工过程的电磁信号影响，另一方面也存在成本偏高的问题。
技术实现思路
[0004]因此，本专利技术要解决的技术问题在于克服现有技术中针对曝光操作相关结构的位姿调节结构在高度等方向调节上无法有效兼顾调节精度、防止干扰以及投入成本的缺陷，从而提供一种五轴调节装置及曝光系统。
[0005]为了解决上述问题，本专利技术提供了一种五轴调节装置，该五轴调节装置包括高度调节组件，所述高度调节组件包括相对设置的第一底板和第一顶板；所述第一底板上设有滑动柱，所述第一顶板内穿设有滑动柱，所述第一底板和第一顶板间设有至少一个斜向滑轨对，所述斜向滑轨对包括斜向滑槽和与所述斜向滑槽适配的斜向导轨，所述斜向导轨与第一顶板固定连接，沿水平方向朝向斜向导轨施加力带动斜向导轨进行移动，以使第一顶板沿滑动柱的中心轴线上升或下降。
[0006]可选地，所述高度调节组件还包括中间架和一对第一水平滑轨对，所述斜向滑轨对的数量为两个，所述第一水平滑轨对和斜向滑轨对一一对应设置，所述第一水平滑轨对包括第一水平滑槽和第一水平导轨，所述第一水平滑槽与第一底板固定连接，所述第一水平导轨通过第一斜向座与斜向导轨固定连接，所述中间架的两端分别与一个第一斜向座固定连接。
[0007]可选地，所述第一斜向座的侧向设有第一回弹端，所述第一底板上方设有与第一回弹端对应的第二回弹端，所述第一回弹端和第二回弹端间设有第一弹性件，所述第一底板上设有第一水平调节板，所述第一水平调节板上设有朝向中间架设置的第一水平调节件，第一水平调节件的调节端与中间架抵接。
[0008]可选地，五轴调节装置还包括转角调节组件，所述转角调节组件与第一顶板固定连接，所述转角调节组件包括相对设置的第二底板、第二顶板以及穿设过第二顶板设置的
第一角度调节件、第二角度调节件和第三角度调节件；所述第一角度调节件、第二角度调节件和第三角度调节件分别与第二顶板转动连接，所述第二角度调节件与第三角度调节件为对角线设置，所述第二角度调节件、第一角度调节件和第三角度调节件的连线为直角。
[0009]可选地，所述第一角度调节件、第二角度调节件、第三角度调节件朝向第二底板设置的接触端的端部均为球形。
[0010]可选地，所述第二底板上设有与第一角度调节件对应设置的第一调节块，与第二角度调节件对应设置的第二调节块，与第三角度调节件对应设置的第三调节块，所述第一调节块有锥形孔，所述第二调节块有V形孔，所述第三调节块为圆柱块，所述第三调节块的表面为平面。
[0011]可选地，五轴调节装置还包括与第一角度调节件成对角线设置的第四角度调节件，所述第二底板上设有与第四角度调节件对应设置的第四调节块，所述第四调节块为圆柱块，所述第四调节块的表面为平面。
[0012]可选地，所述第二顶板和第二底板间还设有第二弹性件。
[0013]可选地，五轴调节装置还包括第一水平调节组件和第二水平调节组件，所述第一水平调节组件和第二水平调节组件的运动方向垂直设置，沿高度方向从低到高依次设置有第一水平调节组件、第二水平调节组件、高度调节组件和转角调节组件。
[0014]一种曝光系统，该曝光系统包括上述的五轴调节装置。
[0015]本专利技术技术方案，具有如下优点：1.本专利技术提供的五轴调节装置包括高度调节组件，高度调节组件设有相对设置的第一底板和第一顶板；第一底板上设有滑动柱，第一顶板内穿设有滑动柱，第一底板和第一顶板间设有至少一个斜向滑轨对，斜向滑轨对包括斜向滑槽和与斜向滑槽适配的斜向导轨，斜向导轨与第一顶板固定连接，沿水平方向朝向斜向导轨施加力带动斜向导轨进行移动，以使第一顶板沿滑动柱的中心轴线方向上升或下降。通过水平施加力，实现了第一顶板的上升或下降，以将水平方向运动转变为竖直方向的运动，实现在高度方向的高精度的位姿调节。其中，整个过程无需传统电动调节，具有成本低、不会产生电磁信号干扰的优势，能够有效避免对加工过程产生电磁影响，以显著提高芯片制备工艺的良率。同时，相较于现有电控设备成本更低，实现了对高精度调节、防止干扰以及低成本的优势兼顾。此外，还可借助于斜向滑轨对，具有大行程的优势。
[0016]2.本专利技术提供的五轴调节装置，高度调节组件还包括中间架和一对第一水平滑轨对，斜向滑轨对的数量为两个，第一水平滑轨对和斜向滑轨对一一对应设置，第一水平滑轨对包括第一水平滑槽和第一水平导轨，第一水平滑槽与第一底板固定连接，第一水平导轨通过第一斜向座与斜向导轨固定连接，中间架的两端分别与一个第一斜向座固定连接。通过中间架的两端分别与一个第一斜向座固定连接，第一水平滑轨通过第一斜向座与斜向导轨固定连接，再由斜向导轨与第一顶板固定连接，带动中间架进行水平移动，第一斜向座水平移动带动斜向导轨移动，以使第一顶板上升或下降。
[0017]3.本专利技术提供的五轴调节装置，第一斜向座的侧向设有第一回弹端，所述第一底板上方设有与第一回弹端对应的第二回弹端，第一回弹端和第二回弹端间设有第一弹性件，第一底板上设有第一水平调节板，第一水平调节板上设有朝向中间架设置的第一水平调节件，第一水平调节件的调节端与中间架抵接。通过调节第一水平调节件带动中间架朝
向第一底板方向进行水平方向移动、第一弹性件提供阻止第一斜向座朝向第一底板移动的力；当需要中间架背离第一底板进行水平方向移动时，调节第一水平调节件，第一弹性件提供带动第一斜向座背离第一底板移动的力。
[0018]4.本专利技术提供的五轴调节装置还包括转角调节组件，转角调节组件与第一顶板固定连接，转角调节组件包括相对设置的第二底板、第二顶板以及穿设过第二顶板设置的第一角度调节件、第二角度调节件和第三角度调节件；第一角度调节件、第二角度调节件和第三角度调节件分别与第二顶板转动连接，第二角度调节件与第三角度调节件为对角线设置，第二角度调节件、第一角度调节件和第三角度调节件的连线为直角，以实现以第二顶板以第一角度调节件和第二角度调节件连线、或以第一角度调节件和第三角度调节件连线进行角度翻转。
[0019]5.本专利技术提供的五轴调节装置，第一角度调节件、第二角度调节件、第三角度调节件朝向第二底板设置的接触端的端部均为球形，以适应不同方向的转动。
[0020]6本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种五轴调节装置，应用于芯片制备工艺的曝光系统，其特征在于，包括高度调节组件（1），所述高度调节组件（1）包括相对设置的第一底板（101）和第一顶板（102）；所述第一底板（101）上设有滑动柱（103），所述第一顶板（102）内穿设有滑动柱（103），所述第一底板（101）和第一顶板（102）间设有至少一个斜向滑轨对，所述斜向滑轨对包括斜向滑槽（115）和与所述斜向滑槽（115）适配的斜向导轨（114），所述斜向导轨（114）与第一顶板（102）固定连接，沿水平方向朝向斜向导轨（114）施加力带动斜向导轨（114）进行移动，以使第一顶板（102）沿滑动柱（103）的中心轴线上升或下降。2.根据权利要求1所述的五轴调节装置，其特征在于，所述高度调节组件（1）还包括中间架（106）和一对第一水平滑轨对，所述斜向滑轨对的数量为两个，所述第一水平滑轨对和斜向滑轨对一一对应设置，所述第一水平滑轨对包括第一水平滑槽（117）和第一水平导轨（116），所述第一水平滑槽（117）与第一底板（101）固定连接，所述第一水平导轨（116）通过第一斜向座（113）与斜向导轨（114）固定连接，所述中间架（106）的两端分别与一个第一斜向座（113）固定连接。3.根据权利要求2所述的五轴调节装置，其特征在于，所述第一斜向座（113）的侧向设有第一回弹端（111），所述第一底板（101）上方设有与第一回弹端（111）对应的第二回弹端（109），所述第一回弹端（111）和第二回弹端（109）间设有第一弹性件（110），所述第一底板（101）上设有第一水平调节板（107），所述第一水平调节板（107）上设有朝向中间架（106）设置的第一水平调节件（108），第一水平调节件（108）的调节端与中间架（106）抵接。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的五轴调节装置，其特征在于，还包括转角调节组件（2），所述转角调节组件（2）与第一顶板（102）固定连接，所述转角调节组件（2）包括相对设置的第二底板（201）、第二顶板（202）以及穿设过第二顶板（20...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄征，张振刚，张晓芳，杜建科，薛书亮，李玉洁，朱林兵，
申请(专利权)人：光科芯图北京科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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