版图图形生成方法、设备和介质技术

根据本公开的示例实施例提供了版图图形生成方法、设备和介质。该方法包括设置针对版图的至少一个候选约束条件。每个候选约束条件用于约束版图的一个区域内的图形尺寸和图形间距，区域沿着版图的第一方向延伸。该方法还包括针对版图中分别沿着第一方向延伸的多个区域中的每个区域，从至少一个候选约束条件中选择目标约束条件；以及至少基于针对该区域而选择的目标约束条件，生成该区域中的多个图形。以此方式，能够在符合设计规则的情况下，自动地产生多样化图形。动地产生多样化图形。动地产生多样化图形。

【技术实现步骤摘要】
版图图形生成方法、设备和介质


[0001]本公开的实施例主要涉及集成电路领域，并且更具体地，涉及版图图形生成方法、设备和介质。

技术介绍

[0002]电路版图（又可以简称为版图）是从设计并模拟优化后的电路所转化成的一系列图形，其包含了集成电路尺寸、各层拓扑定义等器件相关的物理信息数据。集成电路制造商为了对现有制造工艺技术进行验证和更先进技术节点的突破，需要大量的各种各样的测试图形来评估工艺制造能力和工艺窗口。

技术实现思路

[0003]在本公开的第一方面中，提供了一种版图图形生成方法。该方法包括：设置针对版图的至少一个候选约束条件，所述至少一个候选约束条件中的每个候选约束条件用于约束所述版图的一个区域内的图形尺寸和图形间距，所述区域沿着所述版图的第一方向延伸；针对所述版图中分别沿着所述第一方向延伸的多个区域中的每个区域，从所述至少一个候选约束条件中选择目标约束条件；以及至少基于针对该区域而选择的所述目标约束条件，生成该区域中的多个图形。以此方式，能够在符合设计规则的情况下，自动地产生多样化图形。
[0004]在本公开的第二方面中，提供了一种电子设备。该电子设备包括处理器、以及与处理器耦合的存储器。该存储器具有存储于其中的指令，指令在被处理器执行时使电子设备执行根据本公开的第一方面的方法。
[0005]在本公开的第三方面中，提供了一种计算机可读存储介质。该计算机可读存储介质上存储有计算机程序。计算机程序在被处理器执行时实现根据本公开的第一方面的方法。
[0006]通过下文的描述将会理解，根据本公开的实施例，针对版图区域设置可能的候选约束条件。这些约束条件可以是根据版图设计规则确定的。然后，按区域地生成图形。在按区域生成图形中，针对每个区域从候选约束条件中选择目标约束条件。由此，不同区域可以选择相同或不同的约束条件。以此方式，能够在符合设计规则的情况下，自动地产生多样化图形，从而可广泛应用于各种场景。其他的益处将在下文结合相应的实施例展开描述。
[0007]应当理解，本
技术实现思路
部分中所描述的内容并非旨在限定本公开的实施例的关键特征或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其他特征将通过以下的描述而变得容易理解。
附图说明
[0008]结合附图并参考以下详细说明，本公开各实施例的上述和其他特征、优点及方面将变得更加明显。在附图中，相同或相似的附图标注表示相同或相似的元素，其中：
图1示出了本公开的各实施例能够在其中实现的示例环境的示意图；图2示出了根据本公开的一些实施例的图形生成器的示例架构的示意性框图；图3示出了根据本公开的一些实施例的示例版图区域和对应的约束条件选择的示意图；图4A至图4D示出了根据本公开的一些实施例的类标准单元的示例版图图形的示意图；图5示出了根据本公开的一些实施例的区域宽度可变化的示例版图图形的示意图；图6A至图6D示出了根据本公开的一些实施例的针对工艺热点的示例版图图形的示意图；图7示出了根据本公开的一些实施例的版图图形生成方法的流程图；以及图8示出了其中可以实施本公开的一个或多个实施例的电子设备的框图。
具体实施方式
[0009]下面将参照附图更详细地描述本公开的实施例。虽然附图中显示了本公开的某些实施例，然而应当理解的是，本公开可以通过各种形式来实现，而且不应该被解释为限于这里阐述的实施例，相反提供这些实施例是为了更加透彻和完整地理解本公开。应当理解的是，本公开的附图及实施例仅用于示例性作用，并非用于限制本公开的保护范围。
[0010]在本公开的实施例的描述中，术语“包括”及其类似用语应当理解为开放性包含，即“包括但不限于”。术语“基于”应当理解为“至少部分地基于”。术语“一个实施例”或“该实施例”应当理解为“至少一个实施例”。术语“第一”、“第二”等等可以指代不同的或相同的对象。下文还可能包括其他明确的和隐含的定义。
[0011]如本文中所使用的术语“范围”，例如“尺寸范围”、“间距范围”等，可以包括单个值、多个离散值、连续值的范围、及其组合。
[0012]如上文所简要提及的，集成电路制造商需要大量的各种各样的测试图形。芯片设计又要遵守设计规则。设计规则是芯片工厂根据工艺要求、生产设备和器件性能等相关指标制定出来的一系列版图设计需要遵循的规则。制定设计规则的目的是为了确保工艺能够量产、生产出来的芯片是有效的。然而按规则设计出来的芯片也可能会有工艺热点（hotspot）和缺陷问题。原因是相同的图形设计，使用相同的制造工艺，如果周围的图形环境不一样，也会导致在制造中呈现不同的情况，例如当周围环境比较稀松的时候制造工艺没有问题，而当周围环境非常密集的时候就产生了图形断裂或者粘连的情况。
[0013]因此，需要设计各种测试图形以及各种环境，来模拟芯片设计过程中可能出现的各种情况，以发现可能存在的设计缺陷和工艺热点问题。这些缺陷热点问题，一方面可以通过调整设计规则和芯片设计避免容易产生缺陷的图形，另一方面也可以通过光学临近效应修正（Optical Proximity Correction，OPC）或者调整工艺条件来优化制造方案，从而保证产品制造的良率，加快研发量产周期。
[0014]通常在设计测试图形的时候，需要遵守大量的规则。不同产品、不同光罩层或不同工艺会有不同的设计规则，所以图形设计和产生的工作量非常庞大。如果还需要模拟各种环境下的图形，则会进一步增加图形生成的工作量。
[0015]为此，本公开的实施例提供了一种版图图形生成方法，以解决或者至少部分地解决传统的方法中的上述问题和/或其他潜在问题。根据本公开的实施例，采用逐区域的图形生成。每个区域沿着版图的预设方向延伸，例如，每个区域可以视为一行。首先，设置至少一个候选约束条件，每个约束条件用于约束一个区域内的图形尺寸和图形间距。而后，在逐区域生成图形中，为每个区域从候选约束条件中选择一个约束条件，并至少基于所选择的约束条件来生成该区域中的各个图形。
[0016]在本公开的实施例中，不同区域可以选择相同或不同的约束条件。以此方式，能够在符合设计规则的情况下，自动地产生多样化图形以覆盖芯片设计中可能出现的各种情况。这有利滴滴提高了版图产生的效率，从而有助于解决芯片开发过程中难以模拟各种版图设计情况的问题。
[0017]下面参考附图来描述本公开的示例实施例。
[0018]图1示出了本公开的各实施例能够在其中实现的示例环境100的示意图。在示例环境100中，电子设备110可以设置针对版图中图形的约束条件，并基于此生成版图120中的多个图形。这些约束条件可以是用户输入的，也可以是从版图设计规则中提取的。
[0019]电子设备110中部署有图形生成器130，或者电子设备110可以访问和利用图形生成器130。电子设备110可以通过图形生成器130进行逐区域图形生成，来生成版图120。
[0020]在示例环境100中，电子设备110可以是任意类型的具有计算能力的设备，包括终端设备或服务端设备。终端设备可以是任意类型的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1. 一种版图图形生成方法，其特征在于，包括：设置针对版图的至少一个候选约束条件，所述至少一个候选约束条件中的每个候选约束条件用于约束所述版图的一个区域内的图形尺寸和图形间距，所述区域沿着所述版图的第一方向延伸；以及针对所述版图中分别沿着所述第一方向延伸的多个区域中的每个区域，从所述至少一个候选约束条件中选择目标约束条件；以及至少基于针对该区域而选择的所述目标约束条件，生成该区域中的多个图形。2. 根据权利要求1所述的版图图形生成方法，其特征在于，所述多个区域包括第一区域和与所述第一区域相邻的第二区域，并且生成所述第一区域中的多个图形包括：基于针对所述第一区域而选择的第一目标约束条件和针对所述第二区域而选择的第二目标约束条件，确定区域间约束条件，所述区域间约束条件用于约束所述第一区域与所述第二区域的图形间距；以及基于所述第一目标约束条件、所述区域间约束条件和所述第二区域中已生成的图形，生成所述第一区域中的图形。3.根据权利要求2所述的版图图形生成方法，其特征在于，确定所述区域间约束条件包括：基于所述第一目标约束条件，确定针对第二方向上相邻的图形的第一间距范围，所述第二方向垂直于所述第一方向；基于所述第二目标约束条件，确定针对所述第二方向上相邻的图形的第二间距范围；以及基于所述第一间距范围和所述第二间距范围中的最小间距，确定所述区域间约束条件。4.根据权利要求1所述的版图图形生成方法，其特征在于，从所述至少一个候选约束条件中选择目标约束条件包括：从所述至少一个候选约束条件中随机选择候选约束条件，作为所述目标约束条件。5. 根据权利要求1所述的版图图形生成方法，其特征在于，从所述至少一个候选约束条件中选择目标约束条件包括：对所述至少一个候选约束条件进行排序；以及基于所述排序和该区域在所述多个区域中的相对位置，选择排序与所述相对位置匹配的候选约束条件，作为所述目标约束条件。6.根据权利要求1所述的版图图形生成方法，其特征在于，所述目标约束条件指示该区域中的单个图形的尺寸范围和相邻图形之间的间距范围，并且生成该区域中的多个图形包括：确定与所述尺寸范围相对应的第一概率分布和与所述间距范围相对应的第二概率分布，所述第一概率分布指示所述尺寸范围内的不同尺寸被选择的概率，所述第二概率分布指示所述间距范围内的不同间距被选择的概率，其中第一概率...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：全芯智造技术有限公司，
类型：发明
国别省市：