工作台清扫器、描绘装置以及基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了工作台清扫器、描绘装置以及基板处理装置。本发明专利技术的工作台清扫器通过向工作台清扫器的具有贯通孔（１１）的板（１２）和工作台（１０）之间送入气体，将板（１２）和工作台（１０）之间的间隙保持恒定，通过使板（１２）在该状态下移动，利用板（１２）的端部去除工作台（１０）上的异物（１３）。该工作台清扫器可设置在例如描绘装置等上来使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及工作台清扫器以及具有该工作台清扫器的描绘装置和基板处理装置。
技术介绍
在与光掩模相关联的领域，例如，描绘/曝光工序、平坦度测定、坐标测定等中，已 指出，在将光掩模坯体或光掩模、或者其基板保持在工作台上时，即使有少许变形，也会引 起位置偏差不良或测定精度不良。也就是说，在光掩模的制造中，在使用电子射线或激光来将预定的设计图案描绘 在光掩模坯体上的描绘工序、和使用预定的光掩模来对被转印体的基板进行曝光的曝光工 序中，当保持在工作台上的光掩模坯体或作为被转印体的基板存在变形时，图案发生位置 偏差。并且，在光掩模的平坦度测定或坐标测定中，当保持在工作台上的光掩模存在变形 时，测定精度下降。在由工作台所保持的状态下的光掩模或被转印基板的变形原因中，考虑了工作台 表面的变形和工作台上的异物。因此，以往开发出了在不发生变形的情况下保持基板的基 板保持装置。在日本特开2005-101226号公报(专利文献1)中，记载了以下结构的基板保持装 置在工作台的上表面具有凸部和用于向基板下面喷射气体的排出孔，凸部具有部分地放 置基板的放置面和保持基板的保持单元，而且，向基板下面喷射的气体在水平方向排放。根 据该结构，通过从下方向基板喷射气体，可减少因自重引起的基板挠曲。并且，由于凸部，与 基板的接触面积变小，可减少由于灰尘等的异物进入工作台和基板之间而使基板挠曲等的 不利情况。并且，以往是通过作业者的手工作业来进行用于去除工作台上的异物的工作台表面清扫。然而，在上述专利文献1记载的技术中，在工作台上有异物时，通过减少基板和工 作台的接触面积来减少由该异物造成的对光掩模坯体等的变形的影响，然而并不减少异物 本身。并且，在上述专利文献1的方法中，不容易控制用于把基板维持为水平的空气流量。并且，伴随近年的光掩模的大型化，描绘装置和检查装置的工作台也大型化，很难 通过手工作业来充分清扫工作台。而且，为了通过手工作业来对大范围进行清扫，作业者向 前探身进行作业，因而，由于该作业姿势，产生了来自作业者的异物，具有反而污染了工作 台的问题。另外，近年，液晶显示装置等的显示装置制造用掩模(所谓的FPD掩模)朝大型化方向发展，在这样的掩模制造和检查中使用的装置主体也显著地变得大型化。例如，基板的 大小是一边超过Im的矩形的情况也不罕见，为了应对各种尺寸，上述装置的工作台处于例 如需要一边是1. 5m以上的状态。需要将基板放置在这样大的工作台上而进行图案的描绘、所形成的图案的坐标位 置精度的测定等。然而，在大型工作台上附着异物的情况下，在描绘时，发生由异物引起的图案位置精度异常，并且，在坐标位置精度测定时，发生检测出坐标偏移异常等的不利情 况。加之，由于异物而在基板背面发生裂纹或损伤的概率超过以往，因而在质量管理上也成 为大问题。在这种状况下，通过浸渍了清洗液的织物等由人工进行清扫的方法是困难的，而且是不可靠和不稳定的。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种在描绘装置或检查装置等的基板处理装置中使用的可 靠减少工作台上的异物的工作台清扫器。为了达到上述目的，本专利技术的专利技术人对高效、可靠地去除工作台上的异物的方法 作了锐意研究，结果，构思出一种可使用工作台清扫器来去除工作台上的异物的基板处理 装置，该工作台清扫器具有清扫板，其具有与工作台的基板放置面对置的平滑的平面；浮 起机构，其使所述清扫板在所述工作台上浮起到预定高度；以及驱动机构，其使所述清扫板 在与所述工作台的基板放置面平行的面内移动。并且，还有这样的构思利用该工作台清扫器向板状的清扫板和工作台之间送入 空气等的气体，通过使预定压力的气体存在，将板状部件和工作台之间的间隙保持恒定，通 过使板状部件在该状态下移动，利用板状部件的端部去除工作台上的异物。也就是说，本专利技术的一个方式的工作台清扫器具有板状部件和送风单元，并去除 工作台表面上的异物，所述板状部件具有至少一个贯通孔，所述送风单元将气体经由所述 贯通孔从所述板状部件的一面侧送入到另一面侧，在使所述工作台表面与所述另一面对 置、且利用所述送风单元进行了送风的状态下，将所述板状部件配置成使所述另一面与所 述工作台表面隔开预定间隔，使所述板状部件在与所述工作台表面平行的面内移动，通过 所述板状部件的端部挤出所述工作台表面上的异物，从而将其去除。在该情况下，优选的是，所述工作台清扫器还具有送风调节单元，该送风调节单元 对从送风单元送入的气体的送风量进行调整，利用所述送风调节单元调节所述送风量，由 此来调节所述预定间隔的大小。而且，贯通孔可以形成在所述板状部件的中心，也可以在距 所述板状部件的中心等距离的位置形成有多个贯通孔。并且，本专利技术的另一方式的工作台清扫器具有板状部件、送风单元以及吸气单元， 所述板状部件具有至少一个第1贯通孔和至少一个第2贯通孔，所述送风单元将气体经由 所述第1贯通孔从所述板状部件的一面侧送到另一面侧，所述吸气单元将气体经由所述第 2贯通孔从所述板状部件的所述另一面侧吸出到所述一面侧，在使所述工作台表面与所述 另一面对置、利用所述送风单元进行了送风且利用所述吸气单元进行了吸气的状态下，将 所述板状部件配置成使所述另一个面和所述工作台表面隔开预定间隔，使所述板状部件在 与所述工作台表面平行的面内移动，通过所述板状部件的端部挤出所述工作台表面上的异 物，从而将其去除。在该情况下，优选的是，所述工作台清扫器还具有调节单元，该调节单元对从送风 单元送入的气体的送风量、或者由吸气单元吸出的气体的吸气量的至少一方进行调整，利 用所述调节单元调节所述送风量或所述吸气量的至少一方，由此来调节所述预定间隔的大 小。并且，第1贯通孔或第2贯通孔的任一方可以形成在所述板状部件的中心，也可以在距所述板状部件的中心等距离的位置形成有多个第1贯通孔或第2贯通孔。而且，优选的是， 所述板状部件还具有用于吸出异物的第3贯通孔。并且，优选的是，在上述工作台清扫器中，板状部件的端部的至少一方具有凹成弯 曲状的部分。本专利技术还提供一种具有上述工作台清扫器的描绘装置，所述工作台清扫器能在所述描绘装置的工作台表面的垂直方向上移动。 并且，本专利技术还提供以下的基板处理装置。该基板处理装置将基板放置在工作台上，并在该状态下对基板进行处理，所述基 板处理装置具有去除所述工作台上的异物的工作台清扫器，所述工作台清扫器具有清扫 板，其具有与工作台的基板放置面对置的平滑的平面；浮起机构，其使所述清扫板在所述工 作台上浮起到预定高度；以及驱动机构，其使所述清扫板在与所述工作台的基板放置面平 行的面内移动。优选的是，所述浮起机构控制成使所述清扫板在所述工作台上以1 500μπι的高 度浮起。更优选的是1 100 μ m，进一步优选的是1 50 μ m。并且，优选的是，所述清扫板是平板状，其下表面侧的端部以90°以下的角度形成 为直角或锐角。更优选的是70° 90°。在所述清扫板与所述工作台的基板放置面对置的状态下，所述浮起机构通过从设 在所述清扫板下表面侧的气体送风孔喷出气体，可使所述清扫板浮起到预定高度。该孔可 以是贯通板的贯通孔。所述浮起机构从所述送风孔喷出气体，并从设在所述清扫板下表面侧的吸气孔吸 气，而且控制气体的喷出量和吸气量，从而可使所述清扫板浮起到预本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种工作台清扫器，该工作台清扫器具有板状部件和送风单元，并去除工作台表面上的异物，所述板状部件具有至少一个贯通孔，所述送风单元将气体经由所述贯通孔从所述板状部件的一面侧送入到另一面侧，　　在使所述工作台表面与所述另一面对置、且利用所述送风单元进行了送风的状态下，将所述板状部件配置成使所述另一面与所述工作台表面隔开预定间隔，使所述板状部件在与所述工作台表面平行的面内移动，通过所述板状部件的端部挤出所述工作台表面上的异物，从而将其去除。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：樋渡忠夫，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]