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用于等离子体发生器的屏蔽罩制造技术

技术编号:39237543 阅读:13 留言:0更新日期:2023-10-30 11:40
本实用新型专利技术公开了一种用于等离子体发生器的屏蔽罩。该屏蔽罩包括:后壳体,后壳体上开设有第一通孔和第一连接口,第一通孔用于设置循环水管道及气路管道,第一连接口用于设置感应线圈;下壳体,设置与后壳体的下侧边连接;下壳体上开设有第二通孔和第二连接口,第二通孔用于设置接通气路管道及地线,第二连接口用于设置连接等离子球化冷却室;上壳体,设置与后壳体的上侧边可转动连接,上壳体上开设有第三通孔,第三通孔用于设置接通送粉管道;左侧门设置与后壳体的左侧边可开合连接,右侧门设置与后壳体的右侧边可开合连接;侧门具有与上壳体、下壳体相互适配的形状;后壳体、下壳体、上壳体和侧门适配安装,形成用于防护等离子体发生器的屏蔽罩。生器的屏蔽罩。生器的屏蔽罩。

【技术实现步骤摘要】
用于等离子体发生器的屏蔽罩


[0001]本技术属于等离子球化
,具体涉及一种用于等离子体发生器的屏蔽罩。

技术介绍

[0002]等离子体被称为物质的第四态,它是以电子和带电离子为主组成的中性的物质聚集态。等离子球化就是利用了热等离子体的高温使得粉末熔化,并在熔融液滴状态下因自身表面张力形成球形,最后冷却得球形粉末。
[0003]在以往的等离子体球化制备球形粉末实验中,并没有对等离子体发生器配备防护设施,导致等离子体产生的电磁辐射、紫外线辐射干扰实验进程,甚至影响实验人员的健康。如果直接在等离子体发生器外围焊接防辐射外壳,则内部实验过程难以监测,且全封闭的屏蔽装置不利于等离子体产生的热量的排放。此外,一旦等离子体发生器出现故障,须拆除整体屏蔽装置维修,耗时长,不够便利。

技术实现思路

[0004]有鉴于此,一些实施例公开了一种用于等离子体发生器的屏蔽罩,包括:
[0005]后壳体,后壳体上开设有第一通孔和第一连接口,第一通孔用于设置等离子体发生器的循环水管道及气路管道,第一连接口用于设置感应线圈;
[0006]下壳体,设置与后壳体的下侧边连接;下壳体上开设有第二通孔和第二连接口,第二通孔用于设置接通等离子体发生器的气路管道及地线,第二连接口用于设置连接等离子体发生器的等离子球化冷却室;
[0007]上壳体,设置与后壳体的上侧边可转动连接,上壳体上开设有第三通孔,第三通孔用于设置接通等离子体发生器的送粉管道;
[0008]侧门,包括左侧门和右侧门,左侧门设置与后壳体的左侧边可开合连接,右侧门设置与后壳体的右侧边可开合连接;侧门具有与上壳体、下壳体相互适配的形状;
[0009]后壳体、下壳体、上壳体和侧门适配安装,形成用于防护等离子体发生器的屏蔽罩。
[0010]一些实施例公开的用于等离子体发生器的屏蔽罩,侧门上开设有观察窗。
[0011]一些实施例公开的用于等离子体发生器的屏蔽罩,侧门上设置有散热结构。
[0012]一些实施例公开的用于等离子体发生器的屏蔽罩,上壳体上设置有散热结构。
[0013]一些实施例公开的用于等离子体发生器的屏蔽罩,上壳体的边缘处安装有缓冲带,下壳体的边缘处安装有缓冲带,侧门的边缘处安装有缓冲带。
[0014]一些实施例公开的用于等离子体发生器的屏蔽罩,在左侧门与右侧门相对的位置上,适配设置有锁扣。
[0015]一些实施例公开的用于等离子体发生器的屏蔽罩,后壳体为由三层材料依次叠合而成的三层结构,其中,第一层为黄铜网或碳纤维布层,第二层为带玻纤导热硅胶片或非晶
带层,第三层为坡莫合金1J50或高纯铁片层。
[0016]一些实施例公开的用于等离子体发生器的屏蔽罩,上壳体为由三层材料依次叠合而成的三层结构,其中,第一层为黄铜网或碳纤维布层,第二层为带玻纤导热硅胶片或非晶带层,第三层为坡莫合金1J50或高纯铁片层。
[0017]一些实施例公开的用于等离子体发生器的屏蔽罩,下壳体为由三层材料依次叠合而成的三层结构,其中,第一层为黄铜网或碳纤维布层,第二层为带玻纤导热硅胶片或非晶带层,第三层为坡莫合金1J50或高纯铁片层。
[0018]一些实施例公开的用于等离子体发生器的屏蔽罩,侧门为由三层材料依次叠合而成的三层结构,其中,第一层为黄铜网或碳纤维布层,第二层为带玻纤导热硅胶片或非晶带层,第三层为坡莫合金1J50或高纯铁片层。
[0019]本技术实施例公开的用于等离子体发生器的屏蔽罩,多种屏蔽材料叠加构成的屏蔽罩能够有效阻挡等离子体产生的辐射;可开合连接的侧门,使得屏蔽罩能够开/合,使得能够容易地对屏蔽罩内部的等离子体发生器检查或修理;屏蔽罩侧门上设置的观察窗,使得在实验过程中能够观测内部等离子体炬的状态;屏蔽罩上设置的散热结构,使得等离子体产生的热量能够得以释放。
附图说明
[0020]图1实施例1用于等离子体发生器的屏蔽罩的立体结构示意图1;
[0021]图2实施例1用于等离子体发生器的屏蔽罩的立体结构示意图2;
[0022]图3实施例1用于等离子体发生器的屏蔽罩的立体结构示意图3。
[0023]附图标记
[0024]1ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
后壳体
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上壳体
[0025]3ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
下壳体
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左侧门
[0026]5ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
右侧门
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11
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第一连接口
[0027]12
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第一通孔
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21、41、51 散热结构
[0028]22
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第三通孔
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31
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第二连接口
[0029]32
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第二通孔
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
42
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
观察窗
[0030]61、62、63、64缓冲带
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
71、72
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支座
[0031]81、82
ꢀꢀꢀꢀꢀ
锁扣
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91、92、93 铰接件
具体实施方式
[0032]在这里专用的词“实施例”,作为“示例性”所说明的任何实施例不必解释为优于或好于其它实施例。本申请实施例中性能指标测试,除非特别说明,采用本领域常规试验方法。应理解,本申请中所述的术语仅仅是为描述特别的实施方式,并非用于限制本申请公开的内容。
[0033]除非另有说明,否则本文使用的技术和科学术语具有本申请所属
的普通技术人员通常理解的相同含义;作为本申请中其它未特别注明的试验方法和技术手段均指本领域内普通技术人员通常采用的实验方法和技术手段。
[0034]本文所用的术语“基本”和“大约”用于描述小的波动。例如,它们可以是指小于或
等于
±
5%,如小于或等于
±
2%,如小于或等于
±
1%,如小于或等于
±
0.5%,如小于或等于
±
0.2%,如小于或等于
±
0.1%,如小于或等于
±
0.05%。在本文中以范围格式表示或呈现的数值数据,仅为方便和简要起见使用,因此应灵活解释为不仅包括作为该范围的界限明确列举的数值,还包括该范围内包含的所有独立的数值或子范围。例如,“1~5%”的数值范围应被解释为不仅包括1%至5%的明确列举的值,还包括在所示范围内的独立值和子范围。因此,在这一数值范围中包括独本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.用于等离子体发生器的屏蔽罩,其特征在于,包括:后壳体,所述后壳体上开设有第一通孔和第一连接口,所述第一通孔用于设置等离子体发生器的循环水管道及气路管道,所述第一连接口用于设置感应线圈;下壳体,设置与所述后壳体的下侧边连接;所述下壳体上开设有第二通孔和第二连接口,所述第二通孔用于设置接通等离子体发生器的气路管道及地线,所述第二连接口用于设置连接等离子体发生器的等离子球化冷却室;上壳体,设置与所述后壳体的上侧边可转动连接,所述上壳体上开设有第三通孔,所述第三通孔用于设置接通等离子体发生器的送粉管道;侧门,包括左侧门和右侧门,所述左侧门设置与所述后壳体的左侧边可开合连接,所述右侧门设置与所述后壳体的右侧边可开合连接;所述侧门具有与所述上壳体、所述下壳体相互适配的形状;所述后壳体、所述下壳体、所述上壳体和所述侧门适配安装,形成用于防护等离子体发生器的屏蔽罩。2.根据权利要求1所述的用于等离子体发生器的屏蔽罩,其特征在于,所述侧门上开设有观察窗。3.根据权利要求1所述的用于等离子体发生器的屏蔽罩,其特征在于,所述侧门上设置有散热结构。4.根据权利要求1所述的用于等离子体发生器的屏蔽罩,其特征在于,所述上壳体上设置有散热结构。5.根据权利要求1所述的用于等离子体发生器的屏蔽罩,其特征在于,...

【专利技术属性】
技术研发人员:舒永春郝振华何季麟
申请(专利权)人:郑州大学
类型:新型
国别省市:

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