一种硅外延设备的反应室结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种硅外延设备的反应室结构，包括底座和调节结构，所述底座顶部固定连接有设备箱，所述设备箱内部中部固定连接有竖隔板，所述设备箱右侧上部开设有气腔室，所述设备箱右侧下部开设有水腔室，所述设备箱内部左侧开设有反应腔室，所述调节结构均装设于设备箱内部左侧；所述调节结构包括横隔板，所述横隔板右侧固定连接有滑块，所述滑块左侧固定连接有连接柱，所述连接柱左侧固定连接有支撑杆，所述支撑杆后部插接有驱动电机。该硅外延设备的反应室结构，具备在设备箱内的两个反应腔室之间装设有调节结构，而调节结构能够灵活的调节隔板位于两个反应腔室之间的间距空间，从而增强了反应室结构的实用性等优点。从而增强了反应室结构的实用性等优点。从而增强了反应室结构的实用性等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种硅外延设备的反应室结构


[0001]本技术涉及半导体加工
，具体为一种硅外延设备的反应室结构。

技术介绍

[0002]硅外延工艺要在硅片衬底上沉积生长一层厚度和电阻率均匀的单晶硅，硅外延设备的反应室机架用于安装硅外延反应腔室，以及辅助硅外延反应的水路系统、气路系统、电气系统等；硅外延工艺过程反应温度达到1150摄氏度，需要使用氢气、硅烷等工艺气体，其中，需要气路系统供气；需要水冷系统为反应腔室提供循环冷却水；需要电气系统进行供电。
[0003]市面上的硅外延设备的反应室结构，中国技术CN216919484U中的一种硅外延设备的反应室结构，虽然该硅外延设备的反应室结构设有相对独立的气路系统安装腔室、水路系统安装腔室、电气系统安装腔室及用于安装反应室的反应室安装腔室，各功能系统腔室布局合理，减少气路系统、水路系统、电气系统之间的相互干扰，且将水路系统安装腔室设于气路系统安装腔室的下方，能避免漏水时，影响其他功能系统的正常运行，保证反应室内的硅外延反应顺利进行，但是由于以上对比例专利中的反应室安装腔室的隔板是与安装柜固定连接的连接方式，进而使得两个反应腔室内的空间较为固定，从而使得反应室结构具有局限性。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种硅外延设备的反应室结构，具备在设备箱内的两个反应腔室之间装设有调节结构，而调节结构能够灵活的调节隔板位于两个反应腔室之间的间距空间，从而增强了反应室结构的实用性等优点，解决了反应室结构具有局限性的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种硅外延设备的反应室结构，包括底座和调节结构，所述底座顶部固定连接有设备箱，所述设备箱内部中部固定连接有竖隔板，所述设备箱右侧上部开设有气腔室，所述设备箱右侧下部开设有水腔室，所述设备箱内部左侧开设有反应腔室，所述调节结构均装设于设备箱内部左侧。
[0006]所述调节结构包括横隔板，所述横隔板右侧固定连接有滑块，所述滑块左侧固定连接有连接柱，所述连接柱左侧固定连接有支撑杆，所述支撑杆后部插接有驱动电机。
[0007]进一步，所述底座底部左右两侧均转动连接有万向轮，所述设备箱右侧上部固定连接有把手。
[0008]进一步，所述设备箱顶部右侧固定连接有顶箱，所述顶箱内部固定连接有风机。
[0009]进一步，所述顶箱内部上部活动连接有过滤板，所述顶箱正前方固定连接有拉手，所述拉手与过滤板固定连接。
[0010]进一步，所述顶箱顶部右侧连通有出风管，所述顶箱左侧连通有进风管，所述进风管与设备箱连通。
[0011]进一步，所述驱动电机输出端方向为正前方，所述驱动电机输出端固定连接有齿轮。
[0012]进一步，所述设备箱左侧内部开设有活动槽，所述活动槽内部位于设备箱上固定连接有齿条，所述齿轮与齿条啮合连接。
[0013]进一步，所述竖隔板内部开设有滑槽，所述滑块活动滑动于滑槽内。
[0014]与现有技术相比，本申请的技术方案具备以下有益效果：
[0015]该硅外延设备的反应室结构，具备在设备箱内的两个反应腔室之间装设有调节结构，而调节结构能够灵活的调节隔板位于两个反应腔室之间的间距空间，从而增强了反应室结构的实用性等优点。
附图说明
[0016]图1为本技术的结构剖示图；
[0017]图2为本技术图1所示齿轮、齿条以及横隔板的放大结构示意图；
[0018]图3为本技术图2所示齿轮和支撑杆的结构侧视图。
[0019]图中：1底座、2设备箱、3把手、4气腔室、5水腔室、6反应腔室、7顶箱、8风机、9竖隔板、10齿条、11活动槽、12齿轮、13支撑杆、14横隔板、15连接柱、16滑块、17滑槽、18驱动电机。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]实施例一：请参阅图1，本实施例中的一种硅外延设备的反应室结构，包括底座1和调节结构，底座1顶部固定连接有设备箱2，设备箱2内部中部固定连接有竖隔板9，设备箱2右侧上部开设有气腔室4，设备箱2右侧下部开设有水腔室5，设备箱2内部左侧开设有反应腔室6，调节结构均装设于设备箱2内部左侧。
[0022]本实施例中的底座1底部左右两侧均转动连接有万向轮，设备箱2右侧上部固定连接有把手3。
[0023]其中，万向轮配合把手3能够使得设备箱2进行灵活的位移。
[0024]本实施例中的设备箱2顶部右侧固定连接有顶箱7，顶箱7内部固定连接有风机8。
[0025]其中，风机8属于现有成熟技术能够直接安装后进行使用。
[0026]本实施例中的顶箱7内部上部活动连接有过滤板，顶箱7正前方固定连接有拉手，拉手与过滤板固定连接。
[0027]本实施例中的顶箱7顶部右侧连通有出风管，顶箱7左侧连通有进风管，进风管与设备箱2连通。
[0028]需要说明的是，过滤板左右两侧均通过滑动块与顶箱7内的滑动槽活动连接。
[0029]实施例二：请参阅图1
‑
3，在实施例一的基础上，调节结构包括横隔板14，横隔板14右侧固定连接有滑块16，滑块16左侧固定连接有连接柱15，连接柱15左侧固定连接有支撑
杆13，支撑杆13后部插接有驱动电机18。
[0030]本实施例中的驱动电机18输出端方向为正前方，驱动电机18输出端固定连接有齿轮12。
[0031]其中，驱动电机18外部套筒有限位架，而限位架与支撑杆13固定连接，限位架能够对驱动电机18进行限位支撑。
[0032]本实施例中的设备箱2左侧内部开设有活动槽11，活动槽11内部位于设备箱2上固定连接有齿条10，齿轮12与齿条10啮合连接。
[0033]本实施例中的竖隔板9内部开设有滑槽17，滑块16活动滑动于滑槽17内。
[0034]采用上述技术方案，实现了具备在设备箱2内的两个反应腔室6之间装设有调节结构，而调节结构能够灵活的调节横隔板14位于两个反应腔6室之间的间距空间，从而增强了反应室结构的实用性。
[0035]上述实施例的工作原理为：
[0036]当需要调节设备箱2内部两个反应腔室6之间的间距空间时，此时驱动电机18运作带动齿轮12旋转，当齿轮12旋转时能够通过设备箱2一侧的齿条10配合来带动横隔板14上下进行位移，当横隔板14位移时，此时横隔板14一侧的滑块16将会活动滑动于竖隔板9的滑槽17内来使得横隔板14能够正常的进行上下调节。
[0037]需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅外延设备的反应室结构，包括底座(1)和调节结构，其特征在于：所述底座(1)顶部固定连接有设备箱(2)，所述设备箱(2)内部中部固定连接有竖隔板(9)，所述设备箱(2)右侧上部开设有气腔室(4)，所述设备箱(2)右侧下部开设有水腔室(5)，所述设备箱(2)内部左侧开设有反应腔室(6)，所述调节结构均装设于设备箱(2)内部左侧；所述调节结构包括横隔板(14)，所述横隔板(14)右侧固定连接有滑块(16)，所述滑块(16)左侧固定连接有连接柱(15)，所述连接柱(15)左侧固定连接有支撑杆(13)，所述支撑杆(13)后部插接有驱动电机(18)。2.根据权利要求1所述的一种硅外延设备的反应室结构，其特征在于：所述底座(1)底部左右两侧均转动连接有万向轮，所述设备箱(2)右侧上部固定连接有把手(3)。3.根据权利要求1所述的一种硅外延设备的反应室结构，其特征在于：所述设备箱(2)顶部右侧固定连接有顶箱(7)，所述顶箱(7)内部固定连接有风机(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉双平，程宣林，王伟康，陈吕，李友鹏，杨乾顺，
申请(专利权)人：江苏艾匹克半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：