测定系统校准系统和方法技术方案

提供了用于校准用于分析物的样品测定的系统和方法。所述系统和方法是基于校准曲线拟合，所述校准曲线拟合使用具有经修改的希尔斜率的经修改的四参数逻辑回归拟合方程(经修改的4PL)，所述经修改的希尔斜率取决于分析物的数量的倒数的函数或取决于所述分析物的数量的倒数的自然对数的函数。的倒数的自然对数的函数。的倒数的自然对数的函数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】测定系统校准系统和方法


[0001]本公开涉及校准和采用测定系统和装置的方法。尤其是，本专利技术涉及采用改进的校准模型的方法和系统。

技术介绍

[0002]各种各样的测定装置和格式可用于进行测定和测定测量。基于测定信号生成定量样品测定结果可通过使用适当校准标准来校准测定而获得。本文中所描述的实施例提供改进的校准模型和技术以生成具有改进的准确性的样品测定结果。

技术实现思路

[0003]在实施例中，提供一种测定校准方法。所述方法包括：在测定系统上对具有限定数量的分析物且包含具有不同数量的分析物的校准样品的多个校准样品执行多个校准测定以获得多个校准测定信号值；由至少一个处理单元生成包含根据限定数量的多个数量值和对应于多个校准样品的多个校准测定信号值的校准数据集；由至少一个处理单元选择使限定数量与多个校准测定信号值相关的校准模型方程，其中校准模型方程是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，其中经修改的希尔斜率(Hill's slope)取决于数量值的函数；由至少一个处理单元鉴别将校准模型方程拟合到校准数据集的拟合参数；由至少一个处理单元生成包含校准模型方程和拟合参数的校准模型；在测定系统上对至少一个测试样品执行至少一个样品测定以获得样品测定信号值；由至少一个处理单元生成包含至少一个样品测定信号值的样品测定数据集；以及由至少一个处理单元获得根据校准模型和样品测定信号值确定的样品数量值。
[0004]在另外的实施例中，提供一种测定系统。所述测定系统包括：至少一个存储器单元；至少一个处理单元，其根据至少一个存储器单元上的指令而编程；以及至少一个测定系统组件，其被配置成由至少一个处理单元控制。至少一个处理单元被配置成：控制至少一个测定系统组件以对具有限定数量的分析物且包含具有不同数量的分析物的校准样品的多个校准样品执行多个校准测定以获得多个校准测定信号值；生成包含根据限定数量的多个数量值和对应于多个校准样品的多个校准测定信号值的校准数据集；选择使限定数量与多个校准测定信号值相关的校准模型方程，其中校准模型方程是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，其中经修改的希尔斜率取决于数量值的函数；鉴别将校准模型方程拟合到校准数据集的拟合参数；生成包含校准模型方程和拟合参数的校准模型；控制至少一个测定系统组件以对至少一个测试样品执行至少一个样品测定以获得样品测定信号值；生成包含至少一个样品测定信号值的样品测定数据集；以及获得根据校准模型和样品测定信号值确定的样品数量值。
[0005]在再另外的实施例中，提供一种或多种非暂时性计算机可读介质。所述一种或多种非暂时性计算机可读介质具有存储于其上的指令，指令在由至少一个处理单元执行时致使至少一个处理单元：经由测定系统的控制而对具有限定数量的分析物且包含具有不同数
量的分析物的校准样品的多个校准样品执行校准测定以获得多个校准测定信号值；生成包含根据限定数量的多个数量值和对应于多个校准样品的多个校准测定信号值的校准数据集；选择使限定数量与多个校准测定信号值相关的校准模型方程，其中校准模型方程是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，其中经修改的希尔斜率取决于数量值的函数；鉴别将校准模型方程拟合到校准数据集的拟合参数；生成包含校准模型方程和拟合参数的校准模型；经由控制测定系统而对至少一个测试样品执行至少一个样品测定以获得样品测定信号值；生成包含至少一个样品测定信号值的样品测定数据集；以及获得根据校准模型和样品测定信号值确定的样品数量值。
[0006]在又另外的实施例中，提供一种测定校准方法。所述测定校准方法包括：在测定系统上对具有限定数量的分析物且包含具有不同数量的分析物的校准样品的多个校准样品执行多个校准测定以获得多个校准测定信号值；由至少一个处理单元生成包含根据限定数量的多个数量值和对应于多个校准样品的多个校准测定信号值的校准数据集；由至少一个处理单元选择使限定数量与多个校准测定信号值相关的校准模型方程，其中校准模型方程是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，其中经修改的希尔斜率取决于数量值的函数；由至少一个处理单元鉴别将校准模型方程拟合到校准数据集的拟合参数；由至少一个处理单元生成包含校准模型方程和拟合参数的校准模型；以及由至少一个处理单元存储校准模型。
[0007]在再另外的实施例中，提供一种测定校准方法。所述测定校准方法包括：由至少一个处理单元获得包含校准模型方程和拟合参数的校准模型，其中校准模型方程使限定数量与多个校准测定信号值相关且是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，其中经修改的希尔斜率取决于数量值的函数，且拟合参数将校准模型方程拟合到校准数据集，校准数据集包含根据限定数量的多个数量值和对应于多个校准样品的多个校准测定信号值；在测定系统上对至少一个测试样品执行至少一个样品测定以获得样品测定信号值；由至少一个处理单元生成包含至少一个样品测定信号值的样品测定数据集；以及由至少一个处理单元确定根据校准模型和样品测定信号值确定的样品数量值。
[0008]在又另外的实施例中，提供一种或多种非暂时性计算机可读介质。所述一种或多种非暂时性计算机可读介质具有存储于其上的指令，指令在由至少一个处理单元执行时致使至少一个处理单元：获得校准数据集，校准数据集包含对具有限定数量的分析物且包含具有不同数量的分析物的校准样品的多个校准样品的测定测量的结果，校准数据集包含根据限定数量的多个数量值和对应于多个校准样品的多个校准测定信号值；选择使限定数量与多个校准测定信号值相关的校准模型方程，其中校准模型方程是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，其中经修改的希尔斜率取决于数量值的函数；鉴别将校准模型方程拟合到校准数据集的拟合参数；生成包含校准模型方程和拟合参数的校准模型；获得包含对至少一个测试样品的测定测量的结果的样品测定数据集、包含对应于至少一个测试样品的至少一个样品测定信号值的测试数据集；以及根据校准模型和样品测定信号值确定样品数量值。
[0009]在再另外的实施例中，提供一种要由系统进行的计算机实施方法，系统包括至少一个存储器单元和根据至少一个存储器单元上的指令而编程的至少一个处理单元。所述方法包括：由至少一个处理单元获得包含校准模型方程和拟合参数的校准模型，其中校准模型方程使限定数量与多个校准测定信号值相关且是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，其中经修改的希尔斜率取决于数量值的函数，且拟合参数将校准模型方程拟合到校准数据
集，校准数据集包含根据限定数量的多个数量值和对应于多个校准样品的多个校准测定信号值；由至少一个处理单元获得包含对至少一个测试样品的样品测定测量的结果的样品测定数据集，样品测定数据集包含对应于至少一个测试样品的至少一个样品测定信号值；以及由至少一个处理单元根据校准模型和至少一个样品测定信号值确定样品数量值。
附图说明
[0010]图1示出与本专利技术的实施例一致的测定系统环境。
[0011]图2A至图2D示出与本专利技术的实施例一致的测定装置。
[0012]图3A至图3C示出与本专利技术的实施例一致的测定装置。
[0013]图4示出与本专利技术的实施例一致的测定装置。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种测定系统校准方法，其包括：在测定系统上对多个校准样品执行多个校准测定以获得多个校准测定信号值，所述多个校准样品具有限定数量的分析物且包含具有不同数量的所述分析物的校准样品；由至少一个处理单元生成校准数据集，所述校准数据集包含根据所述限定数量的多个数量值和对应于所述多个校准样品的所述多个校准测定信号值；由所述至少一个处理单元选择使所述限定数量与所述多个校准测定信号值相关的校准模型方程，其中所述校准模型方程是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，所述经修改的四参数逻辑回归拟合方程具有取决于数量值的函数的经修改的希尔斜率；由所述至少一个处理单元鉴别将所述校准模型方程拟合到所述校准数据集的拟合参数的相应值；由所述至少一个处理单元生成包含所述校准模型方程和所述拟合参数的所述相应值的校准模型；在所述测定系统上对至少一个测试样品执行至少一个样品测定以获得至少一个样品测定信号值；由所述至少一个处理单元生成包含所述至少一个样品测定信号值的样品测定数据集；以及由所述至少一个处理单元获得根据所述校准模型和所述至少一个样品测定信号值确定的样品数量值。2.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述校准模型方程中，所述经修改的希尔斜率取决于所述数量值的倒数的函数。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述校准模型方程被定义为：或数学等价物，其中，x表示所述数量值，y表示测定信号值，且A、B、C、D和E是拟合参数。4.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述校准模型方程中，所述经修改的希尔斜率取决于所述数量值的倒数的自然对数的函数。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述校准模型方程被定义为：其中，x表示所述数量值，y表示测定信号值，且A、B、C、D和E是拟合参数。6.根据权利要求5所述的方法，其中根据所述校准模型获得所述样品数量值是使用以下方程来执行的：7.根据权利要求1所述的测定系统，其中所述校准模型方程被定义为：其中，x表示所述数量值，y表示测定信号值，C表示选定常数，且A、B、D和E是拟合参数。8.根据权利要求1所述的方法，其中所述校准模型方程被定义为：
其中，x表示所述数量值，y表示测定信号值，C表示选定常数，且A、B、D和E是拟合参数。9.根据权利要求1所述的方法，其中鉴别所述拟合参数的相应值包括：确定所述拟合参数的最小化所述校准数据集与从所述校准模型获得的一个或多个估计或预测的均方误差的所述相应值。10.根据权利要求9所述的方法，其中所述均方误差是使用1/y2模型来计算的。11.一种测定系统，其包括：至少一个存储器单元；至少一个处理单元，其根据所述至少一个存储器单元上的指令而编程；以及至少一个测定系统组件，其被配置成由所述至少一个处理单元控制，其中所述至少一个处理单元被配置成：控制所述至少一个测定系统组件以对多个校准样品执行多个校准测定以获得多个校准测定信号值，所述多个校准样品具有限定数量的分析物且包含具有不同数量的所述分析物的校准样品；生成校准数据集，所述校准数据集包含根据所述限定数量的多个数量值和对应于所述多个校准样品的所述多个校准测定信号值；选择使所述限定数量与所述多个校准测定信号值相关的校准模型方程，其中所述校准模型方程是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，其中经修改的希尔斜率取决于数量值的函数；鉴别将所述校准模型方程拟合到所述校准数据集的拟合参数的相应值；生成包含所述校准模型方程和所述拟合参数的所述相应值的校准模型；控制所述至少一个测定系统组件以对至少一个测试样品执行至少一个样品测定以获得至少一个样品测定信号值；生成包含所述至少一个样品测定信号值的样品测定数据集；以及获得根据所述校准模型和所述至少一个样品测定信号值确定的样品数量值。12.根据权利要求11所述的测定系统，其中，在所述校准模型方程中，所述经修改的希尔斜率取决于所述数量值的倒数的函数。13.根据权利要求12所述的测定系统，其中所述校准模型方程被定义为：其中，x表示数量值，y表示测定信号值，且A、B、C、D和E是拟合参数。14.根据权利要求11所述的测定系统，其中，在所述校准模型方程中，所述经修改的希尔斜率取决于所述数量值的倒数的自然对数的函数。15.根据权利要求14所述的测定系统，其中所述校准模型方程被定义为：其中，x表示所述数量值，y表示测定信号值，且A、B、C、D和E是拟合参数。16.根据权利要求15所述的测定系统，其中根据所述校准模型获得所述样品数量值是
使用以下方程来执行的：17.根据权利要求11所述的测定系统，其中所述校准模型方程被定义为：其中，x表示所述数量值，y表示测定信号值，C表示选定常数，且A、B、D和E是拟合参数。18.根据权利要求11所述的测定系统，其中所述校准模型方程被定义为：其中，x表示所述数量值，y表示测定信号值，C表示选定常数，且A、B、D和E是拟合参数。19.根据权利要求11所述的测定系统，其中所述至少一个处理单元进一步被配置成通过确定所述拟合参数的最小化所述校准数据集与从所述校准模型获得的一个或多个估计或预测之间的均方误差的所述相应值来鉴别所述拟合参数的所述相应值。20.根据权利要求19所述的测定系统，其中所述均方误差是使用1/y2模型来计算的。21.一种或多种非暂时性计算机可读介质，其上存储有指令，所述指令在由至少一个处理单元执行时致使所述至少一个处理单元：经由测定系统的控制而对多个校准样品执行多个校准测定以获得多个校准测定信号值，所述多个校准样品具有限定数量的分析物且包含具有不同数量的所述分析物的校准样品；生成校准数据集，所述校准数据集包含根据所述限定数量的多个数量值和对应于所述多个校准样品的所述多个校准测定信号值；选择使所述限定数量与所述多个校准测定信号值相关的校准模型方程，其中所述校准模型方程是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，其中经修改的希尔斜率取决于数量值的函数；鉴别将所述校准模型方程拟合到所述校准数据集的拟合参数的相应值；生成包含所述校准模型方程和所述拟合参数的所述相应值的校准模型；经由所述测定系统的控制而对至少一个测试样品执行至少一个样品测定以获得至少一个样品测定信号值；生成包含所述至少一个样品测定信号值的样品测定数据集；以及获得根据所述校准模型和所述至少一个样品测定信号值确定的样品数量值。22.根据权利要求21所述的一种或多种非暂时性计算机可读介质，其中，在所述校准模型方程中，所述经修改的希尔斜率取决于所述数量值的倒数的函数。23.根据权利要求22所述的一种或多种非暂时性计算机可读介质，其中所述校准模型方程被定义为：其中，x表示数量值，y表示测定信号值，且A、B、C、D和E是拟合参数。24.根据权利要求21所述的一种或多种非暂时性计算机可读介质，其中，在所述校准模型方程中，所述经修改的希尔斜率取决于所述数量值的倒数的自然对数的函数。
25.根据权利要求24所述的一种或多种非暂时性计算机可读介质，其中所述校准模型方程被定义为：其中，x表示所述数量值，y表示测定信号值，且A、B、C、D和E是拟合参数。26.根据权利要求25所述的一种或多种非暂时性计算机可读介质，其中根据所述校准模型获得所述样品数量值是使用以下方程来执行的：27.根据权利要求21所述的一种或多种非暂时性计算机可读介质，其中所述校准模型方程被定义为：其中，x表示所述数量值，y表示测定信号值，C表示选定常数，且A、B、D和E是拟合参数。28.根据权利要求21所述的一种或多种非暂时性计算机可读介质，其中所述校准模型方程被定义为：其中，x表示所述数量值，y表示测定信号值，C表示选定常数，且A、B、D和E是拟合参数。29.根据权利要求21所述的一种或多种非暂时性计算机可读介质，其中所述至少一个处理单元被致使通过确定所述拟合参数的最小化所述校准数据集与从所述校准模型获得的一个或多个估计或预测之间的均方误差的所述相应值来鉴别所述拟合参数的所述相应值。30.根据权利要求29所述的一种或多种非暂时性计算机可读介质，其中所述均方误差是使用1/y2模型来计算的。31.一种测定系统校准方法，其包括：在测定系统上对多个校准样品执行多个校准测定以获得多个校准测定信号值，所述多个校准样品具有限定数量的分析物且包含具有不同数量的所述分析物的校准样品；由至少一个处理单元生成校准数据集，所述校准数据集包含根据所述限定数量的多个数量值和对应于所述多个校准样品的所述多个校准测定信号值；由所述至少一个处理单元选择使所述限定数量与所述多个校准测定信号值相关的校准模型方程，其中所述校准模型方程是经修改的四参数逻辑回归拟合方程，其中经修改的希尔斜率取决于数量值的函数；由所述至少一个处理单元鉴别将所述校准模型方程拟合到所述校准数据集的拟合参数的相应值；由所述至少一个处理单元生成包含...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：中尺度技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：