抗反射膜制造技术

本发明专利技术公开了一种抗反射膜，包括基材层、位于基材层表面的硬化涂层和位于硬化涂层与基材层相背表面的抗反射涂层，此抗反射涂层由涂覆液烘烤获得，此涂覆液以下重量份数的组分组成：聚氨酯丙烯酸树脂5~10份、二季戊四醇六丙烯酸酯2~4份、中空二氧化硅1~2份、丙烯酸六氟丁酯1~3份、聚乙烯吡咯烷酮0.2~0.5份、甲基丙烯酸十三氟辛酯0.15~0.4份、光引发剂0.03~0.08份、溶剂120~200份。本发明专利技术抗反射膜减少了表面的表面能，将含氟材料会缓慢的上升到表面，表面含氟数量越多，动摩擦系数越小，改善了抗反射涂层的爽滑感。抗反射涂层的爽滑感。抗反射涂层的爽滑感。

【技术实现步骤摘要】
抗反射膜


[0001]本专利技术涉及保护膜的
，尤其涉及一种抗反射膜。

技术介绍

[0002]近年来，为了保护越来越精密的电子显示屏避免在测试过程中造成的摩擦和灰尘污染，需要在应用中提供保护膜。而这种保护膜应该具有高透过率、高耐摩擦、抗反射的特性。
[0003]目前抗反射膜主要用于显示器，当显示器暴露于各种照明及自然光等的外光情况下，会因外部光等的入射光在显示器表面等发生正反射，由其导致的反射图像与显示图像混合，从而降低屏幕显示品质，造成肉眼无法看清显示器内部所形成的图像，还会引发眼睛疲劳或头疼。
[0004]抗反射膜的出现，就是借以贴附在显示器表面来降低外光反射作用，赋予显示器表面等抗反射的功能，并对抗反射功能的高性能化、抗反射功能以外的功能的复合化提出了要求，解决肉眼在光反射作用下无法看清显示器内部所形成的图像，还会引发眼睛疲劳或头疼等问题。目前作为防反射层的形成方法，利用可大面积化、连续生产且低成本化的涂液的湿式成膜法来生产抗反射膜受到人们的关注，且已经在使用。
[0005]各种电子显示屏，比如手机、电脑、大屏触控、车载显示等，表面绝大部分有功能性保护贴，但是该功能性保护贴有抗反射的功能，但目前消费电子市场上的产品存在一定的瑕疵，比如用户用手触摸显示屏上的抗反射膜（简称AR膜）感觉爽滑感很差，具体指标体现在动摩擦系数较高。

技术实现思路

[0006]本专利技术要解决的技术问题是提供一种抗反射膜，该抗反射膜减少了表面的表面能，将含氟材料会缓慢的上升到表面，表面含氟数量越多，动摩擦系数越小，改善了抗反射涂层的爽滑感。
[0007]为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种抗反射膜，包括基材层、位于基材层表面的硬化涂层和位于硬化涂层与基材层相背表面的抗反射涂层，此抗反射涂层由涂覆液烘烤获得，此涂覆液以下重量份数的组分组成：聚氨酯丙烯酸树脂
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5~10份，二季戊四醇六丙烯酸酯
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2~4份，中空二氧化硅
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1~2份，丙烯酸六氟丁酯
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1~3份，聚乙烯吡咯烷酮
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0.2~0.5份，甲基丙烯酸十三氟辛酯
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0.15~0.4份，光引发剂
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0.03~0.08份，溶剂
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120~200份。
[0008]上述技术方案中进一步改进的技术方案如下：1、上述方案中，所述光引发剂为2
‑
甲基
‑1‑
（4
‑
甲硫基苯基）
‑2‑
吗啉
‑1‑
丙酮、双官能团α
‑
羟基酮、2
‑
羟基
‑
甲基苯基丙烷
‑1‑
酮、或者苯基双（2 ,4 ,6
‑
三甲基苯甲酰基）氧化膦。
[0009]2、上述方案中，所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、异佛尔酮、丙二醇单甲醚、异丙醇和异丁醇中至少一种。
[0010]3、上述方案中，所述基材层为PET薄膜层、PC薄膜层或者TAC薄膜层。
[0011]4、上述方案中，所述中空二氧化硅的粒径2~5nm。
[0012]由于上述技术方案的运用，本专利技术与现有技术相比具有下列优点：本专利技术抗反射膜，其抗反射膜中抗反射涂层由涂覆液烘烤获得，此涂覆液含有聚乙烯吡咯烷酮0.2~0.5份、甲基丙烯酸十三氟辛酯0.15~0.4份，使得抗反射涂层减少了表面的表面能，将含氟材料会缓慢的上升到表面，表面含氟数量越多，动摩擦系数越小，改善了抗反射涂层的爽滑感。
附图说明
[0013]附图1为本专利技术抗反射膜的结构示意图。
[0014]以上附图中：1、基材层；2、硬化涂层；3、抗反射涂层。
具体实施方式
[0015]通过下面给出的具体实施例可以进一步清楚地了解本专利，但它们不是对本专利的限定。
[0016]下面结合实施例对本专利技术作进一步描述：实施例1：一种抗反射膜，包括基材层1、位于基材层1表面的硬化涂层2和位于硬化涂层2与基材层1相背表面的抗反射涂层3，此抗反射涂层3由涂覆液烘烤获得，此涂覆液以下重量份数的组分组成：聚氨酯丙烯酸树脂8份、二季戊四醇六丙烯酸酯2.5份、中空二氧化硅1.2份、丙烯酸六氟丁酯2.8份、聚乙烯吡咯烷酮0.32份、甲基丙烯酸十三氟辛酯0.2份、2
‑
甲基
‑1‑
（4
‑
甲硫基苯基）
‑2‑
吗啉
‑1‑
丙酮0.05份、乙酸乙酯180份。上述中空二氧化硅的粒径3nm，上述基材层1为PET薄膜层。
[0017]实施例2：一种抗反射膜，包括基材层1、位于基材层1表面的硬化涂层2和位于硬化涂层2与基材层1相背表面的抗反射涂层3，此抗反射涂层3由涂覆液烘烤获得，此涂覆液以下重量份数的组分组成：聚氨酯丙烯酸树脂6份、二季戊四醇六丙烯酸酯3份、中空二氧化硅1.8份、丙烯酸六氟丁酯2.6份、聚乙烯吡咯烷酮0.4份、甲基丙烯酸十三氟辛酯0.2份、双官能团α
‑
羟基酮0.04份、异丁醇150份。上述中空二氧化硅的粒径4nm，上述基材层1为PET薄膜层。
[0018]实施例3：一种抗反射膜，包括基材层1、位于基材层1表面的硬化涂层2和位于硬化涂层2与基材层1相背表面的抗反射涂层3，此抗反射涂层3由涂覆液烘烤获得，此涂覆液以下重量份数的组分组成：聚氨酯丙烯酸树脂6份、二季戊四醇六丙烯酸酯3份、中空二氧化硅1.5份、丙烯酸六氟丁酯2份、聚乙烯吡咯烷酮0.2份、甲基丙烯酸十三氟辛酯0.3份、双官能团α
‑
羟基酮0.06份、异丁醇180份。上述中空二氧化硅的粒径2.5nm，上述基材层1为TAC薄膜
层。
[0019]一种用于上述抗反射膜的制备方法，包括以下步骤：步骤一、在基材层涂布硬化涂层的胶水，经过热干燥、UV固化后形成硬化涂层；步骤二、将聚氨酯丙烯酸树脂、二季戊四醇六丙烯酸酯、溶剂在室温下搅拌混合形成第一混合液；步骤三、将第一混合液、中空二氧化硅、丙烯酸六氟丁酯、聚乙烯吡咯烷酮、甲基丙烯酸十三氟辛酯混合均匀形成第二混合液；步骤四、再将光引发剂加入第二混合液过滤获得涂覆液；步骤五、将涂覆液涂覆于硬化涂层表面烘烤形成抗反射涂层。
[0020]上述步骤五的烘箱为五节烘箱，烘箱温度依次为40℃、50℃、60℃、70℃、90℃。
[0021]实施例1的烘箱干燥时间为6min，实施例2的烘箱干燥时间为7min，实施例3的烘箱干燥时间为本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗反射膜，其特征在于：包括基材层（1）、位于基材层（1）表面的硬化涂层（2）和位于硬化涂层（2）与基材层（1）相背表面的抗反射涂层（3），此抗反射涂层（3）由涂覆液烘烤获得，此涂覆液以下重量份数的组分组成：聚氨酯丙烯酸树脂
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5~10份，二季戊四醇六丙烯酸酯
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2~4份，中空二氧化硅
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1~2份，丙烯酸六氟丁酯
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1~3份，聚乙烯吡咯烷酮
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0.2~0.5份，甲基丙烯酸十三氟辛酯
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0.15~0.4份，光引发剂
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0.03~0...

【专利技术属性】
技术研发人员：金闯，耿龙飞，苏强强，金文祥，蒋晓明，
申请(专利权)人：太仓斯迪克新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：