在铟电镀组合物中补充铟离子的方法技术

技术编号:3912361 阅读:240 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
公开了一种在铟电镀组合物中补充铟离子的方法,电镀期间使用特定弱酸的铟盐来补充铟离子。该方法可使用可溶性和不溶性阳极。该方法包括:a)提供一种包含一种或多种铟离子源的组合物;b)电镀铟金属在基底上;以及c)在电镀期间用乙酸铟、甲酸铟和草酸铟中的一种或多种向所述组合物中补充铟离子。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种方法,包括: a)提供一种包含一种或多种铟离子源的组合物; b)电镀铟金属在基底上;以及 c)在电镀期间用乙酸铟、甲酸铟和草酸铟中的一种或多种向所述组合物中补充铟离子。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:E佐克斯FJ施瓦格T加伊斯克
申请(专利权)人:罗门哈斯电子材料有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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