阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，阵列基板包括衬底、对位标识、标识覆盖层以及遮光层，对位标识设置于衬底一侧，标识覆盖层设置于对位标识背离衬底的一侧，标识覆盖层与对位标识至少部分交叠。遮光层的透过率小于标识覆盖的透过率，遮光层与标识覆盖层接触，且遮光层暴露标识覆盖层的至少部分。在本申请实施例中，由于标识覆盖层与对位标识至少部分交叠，因此遮光层也可以暴露对位标识的至少部分结构。并且由于标识覆盖层具有相对较高的透过率，因此在后续膜层制备时，仍可以透过标识覆盖层确定对位标识的相对位置，以此实现定位功能，满足制备需要，提高制备精度。备精度。备精度。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置


[0001]本申请涉及显示设备
，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置。

技术介绍

[0002]随着科学技术水平的发展，显示面板也得到了飞速发展，显示面板被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品中，成为人们日常生活中不可或缺的一部分。
[0003]在显示面板制备过程中，阵列基板上通常需要设置对位标识，以满足某些膜层的对位制备，提高显示面板的制备精度。但是对位标识容易受到遮挡，从而导致部分膜层制备时，出现一定的偏差，不利于显示面板的制备良率。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，能够提高制备精度。
[0005]第一方面，本申请实施例提供了一种阵列基板，阵列基板包括衬底、对位标识、标识覆盖层以及遮光层，对位标识设置于衬底一侧，标识覆盖层设置于对位标识背离衬底的一侧，标识覆盖层与对位标识至少部分交叠。遮光层的透过率小于标识覆盖的透过率，遮光层与标识覆盖层接触，且遮光层暴露标识覆盖层的至少部分。
[0006]第二方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括前述任一实施方式中的阵列基板。
[0007]第三方面，本申请实施例提供了一种显示装置，包括前述任一实施方式中的显示面板。
[0008]第四方面，本申请实施例提供了一种阵列基板的制备方法，包括：
[0009]在衬底一侧形成对位标识；
[0010]在对位标识背离衬底一侧形成标识覆盖层，标识覆盖层与对位标识至少部分交叠；
[0011]在形成标识覆盖层之后，在对位标识背离衬底一侧涂覆遮光材料，遮光材料与标识覆盖层接触，且暴露标识覆盖层的至少部分，并形成遮光层。
[0012]本申请实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，由于标识覆盖层与对位标识至少部分交叠，因此遮光层也可以暴露对位标识的至少部分结构。并且由于标识覆盖层具有相对较高的透过率，因此在后续膜层制备时，仍可以透过标识覆盖层确定对位标识的相对位置，以此实现定位功能，满足制备需要，提高制备精度。
附图说明
[0013]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例中所需要使
用的附图作简单的介绍，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0014]图1是本申请实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0015]图2是本申请实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0016]图3是本申请实施例提供的还一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0017]图4是本申请实施例提供的还一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0018]图5是本申请实施例提供的还一种阵列基板的俯视结构示意图；
[0019]图6是图5中区域Q处的对位标识与标识覆盖层之间相对位置关系示意图；
[0020]图7是本申请实施例提供还一种阵列基板在区域Q处的对位标识与标识覆盖层之间相对位置关系示意图；
[0021]图8是本申请实施例提供还一种阵列基板的剖面结构示意图；
[0022]图9是本申请实施例提供一种显示面板的剖面结构示意图；
[0023]图10是本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
[0024]图11是本申请实施例提供的一种阵列基板的制备方法的流程图；
[0025]图12a至图12c是本申请实施例提供的一种阵列基板的制备方法的过程结构示意图。
[0026]标记说明：
[0027]10、衬底；
[0028]20、对位标识；
[0029]30、标识覆盖层；
[0030]40、遮光层；41、开口结构；
[0031]50、第一金属层；51、第一导电部；52、第二导电部；
[0032]60、发光元件；61、第一电极；62、第二电极；
[0033]M1、第一表面；M11、第一部分；M12、第二部分；M13、第三部分；
[0034]B、侧壁；
[0035]X、第一方向；Y、厚度方向
[0036]A1、第一区；A2、第二区。
具体实施方式
[0037]下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅意在解释本申请，而不是限定本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。
[0038]需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备
所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0039]阵列基板上通常需要设置有对位标识，部分膜层需要借助对位标识实现定位制备。具体地，对位标识通常设置在特定位置处，在部分膜层制备时，可以借助对位标识对光线的反射实现对对位标识的定位，在此基础上能够确定膜层相对于阵列基板的具体位置，然后可以完成对该膜层的精确制备。
[0040]但是在制备过程中，对位标识容易受到被部分膜层中的遮光材料的遮挡，从而导致其他膜层制备时，很难确认定位对位标识的具体位置，从而导致部分膜层制备出现偏差，不利于显示面板的制备良率。
[0041]针对于上述问题，第一方面，请参阅图1和图2，本申请实施例提供了一种阵列基板，阵列基板包括衬底10、对位标识20、标识覆盖层30以及遮光层40，对位标识20设置于衬底10一侧，标识覆盖层30设置于对位标识20背离衬底10的一侧，标识覆盖层30与对位标识20至少部分交叠。遮光层40的透过率小于标识覆盖的透过率，遮光层40与标识覆盖层30接触，且遮光层40暴露标识覆盖层30的至少部分。
[0042]本身实施例提供的阵列基板可以用于形成显示面板，其中阵列基板可以适用于多种显示面板，例如阵列基板可以适用于以微发光二极管为发光元件的显示面板，其结构可以如图1所示；或者阵列基板也可以适用于透光显示面板，其结构可以如图2所示；或者阵列基板也可以适用于以有机发光结构为发光元件的显示面板，其结构可以如图3所示。
[0043]衬底10主要起到支撑承载的作用，其他膜层在衬底10上依次层本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底；对位标识，设置于所述衬底一侧；标识覆盖层，设置于所述对位标识背离所述衬底的一侧，所述标识覆盖层与所述对位标识至少部分交叠；遮光层，所述遮光层的透过率小于所述标识覆盖层的透过率，所述遮光层与所述标识覆盖层接触，且所述遮光层暴露所述标识覆盖层的至少部分。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述标识覆盖层包括背离所述衬底的第一表面，所述第一表面中的至少部分相对所述衬底所在平面倾斜。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一表面包括曲面。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述曲面向背离所述衬底的方向突出，且所述曲面与所述对位标识至少部分交叠。5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一表面包括在平行于衬底所在平面方向上并排设置的第一部分以及第二部分，所述第一部分相对所述衬底所在平面倾斜，且所述第二部分与所述第一部分相交。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述标识覆盖层包括疏水材料；和/或，所述标识覆盖层背离所述衬底的表面经由疏水化处理形成。7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在所述衬底的厚度方向上，所述标识覆盖层的最大高度不小于所述遮光层的高度。8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述标识覆盖层的最大高度为H，H满足：1μm≤H≤20μm。9.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述标识覆盖层在所述衬底的正投影覆盖所述对位标识在所述衬底的正投影。10.根据权利要求9所述的阵列基板，其特征在于，在第一方向上，所述标识覆盖层至少部分超出所述对位标识设置，以使所述标识覆盖层能够覆盖所述对位标识在所述第一方向上的侧壁。11.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述标识覆盖层在所述第一方向上的尺寸为L1，所述对位标识在所述第一方向上的尺寸为L2；其中，L1和L2满足：L1≥1...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍思涛，
申请(专利权)人：天马新型显示技术研究院厦门有限公司，
类型：发明
国别省市：