【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光电半导体结构及其制造方法,尤其是一种具抗突波与静电的发光二极管及其制造方法。
技术介绍
现今光电半导体制程发展成熟,且由早期的微米制程进一步发展至现今的纳米制 程,以提高光电半导体结构的效能,其中一种受到广泛利用的光电半导体结构即为发光二 极管,且发光二极管的应用在现今光电半导体制程中更是普遍,特别是发光二极管与半导 体激光的应用。然而随着现今光电半导体制程越来越小,越需注意二极管的过电压防护,以 防止过电压所产生的过电流,造成发光二极管受到过电流的破坏,而光电半导体的发光二 极管更是需要注意静电与突波的绝缘措施。由于氮化镓系发光二极管具高亮度与高发光 率,且氮化镓系发光二极管更可直接发出色光,或混合两种以上的色光形成其它色光,因此 发光二极管的应用技术上以氮化镓系发光二极管受到广泛运用。另外,由于发光二极管比 传统日光灯省电,发光二极管于照明装置应用上即具有取代传统照明装置的趋势。请参见图1,所示为现有抗静电的覆晶式发光二极管的结构示意图。如图所示,现 有抗静电的发光二极管为覆晶式封装结构,其包含有一基板10、一个N型半导体层12、一个 P ...
【技术保护点】
一种具有抗突波与静电的发光二极管,其特征在于,包含有:一个基板;一个N型半导体层,设置于该基板上;一个主动层,设置于部分该N型半导体层上;一个P型半导体层,设置于该主动层上;一个第一透明导电层,设置于部分该P型半导体层上;一个绝缘层,自部分该N型半导体层上覆盖至部分该P型半导体层上;一个氧化层,设置于部分该第一透明导电层与部分该P型半导体层上,并连接该绝缘层;一个第二透明导电层,设置于该绝缘层上与部分该氧化层上;一个正电极,设置于部分该第一透明导电层上;以及一个负电极,设置于部分该N型半导体层上,并连接该第二透明导电层;其中,当该正电极与该负电极接收超过该发光发光二极管的操 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:黄国钦,潘锡明,简奉任,
申请(专利权)人:裕星企业有限公司,
类型:发明
国别省市:HK[中国|香港]
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